真空鍍膜機(jī)技術(shù)應(yīng)用哪些領(lǐng)域：在建筑和汽車(chē)玻璃上使用真空電鍍?cè)O(shè)備技術(shù)，鍍涂一層TiO2就能使其變成防霧、防露和自清潔玻璃。這種工藝在汽車(chē)玻璃上有比較好的應(yīng)用。在太陽(yáng)能上，為了能有效的利用太陽(yáng)熱能，這需要利用真空電鍍?cè)O(shè)備技術(shù)鍍上一層特殊的表面。在光學(xué)儀器中的應(yīng)用：人們熟悉的光學(xué)儀器顯微鏡、照相機(jī)、測(cè)距儀，以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等，它們都離不開(kāi)真空電鍍?cè)O(shè)備技術(shù)，鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。在信息存儲(chǔ)領(lǐng)域中的應(yīng)用：薄膜材料作為信息記錄于存儲(chǔ)介質(zhì)，有其得天獨(dú)厚的優(yōu)勢(shì)，磁化反轉(zhuǎn)極為迅速，與膜面平行的雙穩(wěn)態(tài)狀態(tài)容易保持等。真空鍍膜機(jī)在集成電路制造中的應(yīng)用：晶體管路中的保護(hù)層、電...

裝飾領(lǐng)域的真空鍍膜機(jī)，一部分采用的是真空蒸發(fā)鍍膜法，真空蒸鍍是將待成膜的物質(zhì)置于真空中進(jìn)行蒸發(fā)或升華，使之在工件或基材表面沉積的過(guò)程。是在真空室中加熱蒸發(fā)容器中待形成薄膜的原材料使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸氣流入射到固體（稱(chēng)為襯底或基片）表面凝結(jié)形成固態(tài)薄膜。關(guān)于蒸發(fā)源的形狀可根據(jù)蒸發(fā)材料的性質(zhì)，結(jié)合考慮與蒸發(fā)材料的濕潤(rùn)性，制作成不同的形式和選用不同的蒸發(fā)源物質(zhì)。真空蒸鍍有三層：底漆層（6~12um）+鍍膜層（1~2um）+面漆層（10um）裝配前處理。將基材表面雜質(zhì)、灰塵等用布擦拭干凈，提高噴射良率。將基材裝配在專(zhuān)屬掛具上，用以固定于流水線(xiàn)上，并按設(shè)計(jì)要求實(shí)現(xiàn)外觀和功能的遮鍍。多弧離...

真空鍍膜技術(shù)初現(xiàn)于20世紀(jì)30年代，四五十年代開(kāi)始出現(xiàn)工業(yè)應(yīng)用，工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)開(kāi)始于20世紀(jì)80年代，在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業(yè)中取得普遍的應(yīng)用。真空鍍膜是指在真空環(huán)境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面(通常是非金屬材料)，屬于物理的氣相沉積工藝。因?yàn)殄儗映榻饘俦∧?，故也稱(chēng)真空金屬化。廣義的真空鍍膜還包括在金屬或非金屬材料表面真空蒸鍍聚合物等非金屬功能性薄膜。在所有被鍍材料中，以塑料較為常見(jiàn)，其次，為紙張鍍膜。相對(duì)于金屬、陶瓷、木材等材料，塑料具有來(lái)源充足、性能易于調(diào)控、加工方便等優(yōu)勢(shì)，因此種類(lèi)繁多的塑料或其他高分子材料作為工程裝飾性結(jié)構(gòu)材料，大量應(yīng)用于汽車(chē)...

真空鍍膜設(shè)備選購(gòu)要點(diǎn)分析以及操作規(guī)程：真空鍍膜設(shè)備主要由真空腔、抽氣系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)、成膜控制系統(tǒng)等組件構(gòu)成。鍍膜設(shè)備已經(jīng)被普遍應(yīng)用于光學(xué)、電子、玩具、建材、五金、鐘表、汽車(chē)、民用裝飾品等行業(yè)。制鍍薄膜尤其普遍，其制作的各種薄膜被應(yīng)用到各光電系統(tǒng)及光學(xué)儀器中，如數(shù)碼相機(jī)、數(shù)碼攝像機(jī)、望遠(yuǎn)鏡、投影機(jī)、能量控制、光通訊、顯示技術(shù)、干涉儀、人造衛(wèi)星飛彈、半導(dǎo)體激光、微機(jī)電系統(tǒng)、信息工業(yè)、激光的制作、各種濾光片、照明工業(yè)、傳感器、建筑玻璃、汽車(chē)工業(yè)、裝飾品、錢(qián)幣、眼鏡片等等，鍍膜機(jī)器已經(jīng)與人類(lèi)的生活緊密聯(lián)系。真空濺射是徹底的環(huán)保制程，一定環(huán)保無(wú)污染。福建機(jī)械真空鍍膜材料自從進(jìn)入21世紀(jì)，伴隨著現(xiàn)代工業(yè)技...

裝飾領(lǐng)域的真空鍍膜機(jī)，一部分采用的是真空蒸發(fā)鍍膜法，真空蒸鍍是將待成膜的物質(zhì)置于真空中進(jìn)行蒸發(fā)或升華，使之在工件或基材表面沉積的過(guò)程。是在真空室中加熱蒸發(fā)容器中待形成薄膜的原材料使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸氣流入射到固體（稱(chēng)為襯底或基片）表面凝結(jié)形成固態(tài)薄膜。關(guān)于蒸發(fā)源的形狀可根據(jù)蒸發(fā)材料的性質(zhì)，結(jié)合考慮與蒸發(fā)材料的濕潤(rùn)性，制作成不同的形式和選用不同的蒸發(fā)源物質(zhì)。真空蒸鍍有三層：底漆層（6~12um）+鍍膜層（1~2um）+面漆層（10um）裝配前處理。將基材表面雜質(zhì)、灰塵等用布擦拭干凈，提高噴射良率。將基材裝配在專(zhuān)屬掛具上，用以固定于流水線(xiàn)上，并按設(shè)計(jì)要求實(shí)現(xiàn)外觀和功能的遮鍍。真空鍍...

真空鍍膜機(jī)導(dǎo)電膜特性/成本優(yōu)于ITO 適用軟性電子以高階注入的高能隙金屬氧化物如氧化銦錫(ITO)形成的透明導(dǎo)電膜在光電產(chǎn)業(yè)的應(yīng)用非常成功，舉凡平面顯示器、太陽(yáng)能電池和觸控面板等都須使用。然而除須兼顧薄膜的透明度和電性外，軟性電子元件所需的透明導(dǎo)電膜還須具備可繞曲特性，若仍選擇容易因?yàn)閺澢a(chǎn)生缺陷的金屬氧化物薄膜時(shí)，元件的可繞曲次數(shù)和可彎曲程度便會(huì)受到限制，進(jìn)而影響到可應(yīng)用范圍。除此之外，常用銦錫氧化物中的銦屬于稀有金屬，被大量使用之后，容易發(fā)生原料短缺、價(jià)格上漲的缺點(diǎn)，因此開(kāi)發(fā)具備柔韌性的透明導(dǎo)電膜對(duì)軟性電子元件技術(shù)發(fā)展比較重要。真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果。...

真空鍍膜加工操作規(guī)程：1．在真空鍍膜加工中設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)正常情況下，開(kāi)動(dòng)真空鍍膜加工機(jī)時(shí)，須先開(kāi)水管，工作中應(yīng)注意水壓。2．在離子轟擊和蒸發(fā)時(shí)，應(yīng)特別注意高壓電線(xiàn)接頭，不得觸動(dòng)，以防觸電。3．在用電子頭鍍膜時(shí)，應(yīng)在鐘罩周?chē)箱X板。觀察窗的玻璃用鉛玻璃，觀察時(shí)應(yīng)戴上鉛玻璃眼鏡，以防X射線(xiàn)侵害人體。4．鍍制多層介質(zhì)膜的鍍膜間，應(yīng)安裝通風(fēng)吸塵裝置，及時(shí)排除有害粉塵。5．易燃有毒物品要妥善保管，以防失火中毒。6．酸洗夾具應(yīng)在通風(fēng)裝置內(nèi)進(jìn)行，并要戴橡皮手套。7．把零件放入酸洗或堿洗槽中時(shí)，應(yīng)輕拿輕放，不得碰撞及濺出。平時(shí)酸洗槽盆應(yīng)加蓋。8．工作完畢應(yīng)斷電、斷水。真空鍍膜的操作規(guī)程：工作完畢應(yīng)斷電、斷水。遼寧塑...

現(xiàn)代鏡頭上的鍍膜大而化之可以分成兩種，一種叫增透膜，是增加光線(xiàn)透過(guò)率的，而另一種鍍膜則是改變鏡頭的色彩光譜透過(guò)特性的，比如一支鏡頭種某一片鏡片所用的光學(xué)材料雖然折射率等等指標(biāo)比較好，但卻存在偏黃現(xiàn)象，那就給它鍍上一層光譜遮斷膜，把偏色糾正回來(lái)(賓得那仨公主都使用高折射玻璃，因此都有些略微偏黃)，而現(xiàn)在鍍膜技術(shù)的發(fā)展已經(jīng)可以補(bǔ)償一些較為廉價(jià)的光學(xué)材料的不足之處，鏡頭的設(shè)計(jì)已經(jīng)不必像過(guò)去一樣使用昂貴的特殊配方光學(xué)玻璃來(lái)完成，所以新的鏡頭一般都是在每個(gè)鏡片的空氣接觸面上都有多層鍍膜的，這也從另一方面凸顯了鍍膜對(duì)于鏡頭的重要作用。 如今鍍膜機(jī)在光學(xué)鏡片上的應(yīng)用，我們一般稱(chēng)為光學(xué)真空鍍膜機(jī)或者光學(xué)鏡片...

真空鍍膜技術(shù)與濕式鍍膜技術(shù)相比較，具有下列優(yōu)點(diǎn)：(1)薄膜和基體選材普遍，薄膜厚度可進(jìn)行控制，以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。(2)在真空條件下制備薄膜，環(huán)境清潔，薄膜不易受到污染，因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。(3)薄膜與基體結(jié)合強(qiáng)度好，薄膜牢固。(4)干式鍍膜既不產(chǎn)生廢液，也無(wú)環(huán)境污染。真空鍍膜技術(shù)主要有真空蒸發(fā)鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學(xué)氣相沉積等多種方法。除化學(xué)氣相沉積法外，其他幾種方法均具有以下的共同特點(diǎn)：各種鍍膜技術(shù)都需要一個(gè)特定的真空環(huán)境，以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或?yàn)R射過(guò)程中所形成蒸氣分子的運(yùn)動(dòng)，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾，并...

裝飾領(lǐng)域的真空鍍膜機(jī)，一部分采用的是真空蒸發(fā)鍍膜法，真空蒸鍍是將待成膜的物質(zhì)置于真空中進(jìn)行蒸發(fā)或升華，使之在工件或基材表面沉積的過(guò)程。是在真空室中加熱蒸發(fā)容器中待形成薄膜的原材料使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸氣流入射到固體（稱(chēng)為襯底或基片）表面凝結(jié)形成固態(tài)薄膜。關(guān)于蒸發(fā)源的形狀可根據(jù)蒸發(fā)材料的性質(zhì)，結(jié)合考慮與蒸發(fā)材料的濕潤(rùn)性，制作成不同的形式和選用不同的蒸發(fā)源物質(zhì)。真空蒸鍍有三層：底漆層（6~12um）+鍍膜層（1~2um）+面漆層（10um）裝配前處理。將基材表面雜質(zhì)、灰塵等用布擦拭干凈，提高噴射良率。將基材裝配在專(zhuān)屬掛具上，用以固定于流水線(xiàn)上，并按設(shè)計(jì)要求實(shí)現(xiàn)外觀和功能的遮鍍。真空鍍...

真空鍍膜機(jī)主要是指在真空度比較高的情況下鍍膜，已經(jīng)被普遍應(yīng)用，制度薄膜更加廣闊，此設(shè)備制作的薄膜也被應(yīng)用到各種光電系統(tǒng)和光學(xué)儀器中，數(shù)碼相機(jī)。望遠(yuǎn)鏡，還有汽車(chē)工業(yè)等行業(yè)都用到。顧名思義真空鍍膜設(shè)備要在真空條件下工作，所以該設(shè)備要滿(mǎn)足真空環(huán)境的要求。真空對(duì)環(huán)境的要求，一般包括真空設(shè)備對(duì)所處實(shí)驗(yàn)室（或車(chē)間）的溫度、空氣中的微粒等周?chē)h(huán)境的要求，和對(duì)處于真空狀態(tài)或真空中的零件或表面要求兩個(gè)方面。這兩個(gè)方面是有密切聯(lián)系的。周?chē)h(huán)境的好壞直接影響真空設(shè)備的正常使用；而真空設(shè)備的真空室或裝入里面的零件是否清洗，又直接影響設(shè)備的性能。如果空氣中含有大量的水蒸氣和灰塵，在真空室沒(méi)有經(jīng)過(guò)清洗的情況下用油封機(jī)械泵...

真空鍍膜需要注意的問(wèn)題：1、厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的尺度上看(也就是1/10波長(zhǎng)作為單位，約為100A)，真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見(jiàn)光波長(zhǎng)的1/10范圍內(nèi)，也就是說(shuō)對(duì)于薄膜的光學(xué)特性來(lái)說(shuō)，真空鍍膜沒(méi)有障礙。但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說(shuō)要實(shí)現(xiàn)10A甚至1A的表面平整，具體控制因素下面會(huì)根據(jù)不同鍍膜給出詳細(xì)解釋。2、化學(xué)組分上的均勻性: 就是說(shuō)在薄膜中，化合物的原子組分會(huì)由于尺度過(guò)小而比較容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過(guò)程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成...

真空鍍膜機(jī)技術(shù)應(yīng)用哪些領(lǐng)域：在建筑和汽車(chē)玻璃上使用真空電鍍?cè)O(shè)備技術(shù)，鍍涂一層TiO2就能使其變成防霧、防露和自清潔玻璃。這種工藝在汽車(chē)玻璃上有比較好的應(yīng)用。在太陽(yáng)能上，為了能有效的利用太陽(yáng)熱能，這需要利用真空電鍍?cè)O(shè)備技術(shù)鍍上一層特殊的表面。在光學(xué)儀器中的應(yīng)用：人們熟悉的光學(xué)儀器顯微鏡、照相機(jī)、測(cè)距儀，以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等，它們都離不開(kāi)真空電鍍?cè)O(shè)備技術(shù)，鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。在信息存儲(chǔ)領(lǐng)域中的應(yīng)用：薄膜材料作為信息記錄于存儲(chǔ)介質(zhì)，有其得天獨(dú)厚的優(yōu)勢(shì)，磁化反轉(zhuǎn)極為迅速，與膜面平行的雙穩(wěn)態(tài)狀態(tài)容易保持等。真空鍍膜機(jī)在集成電路制造中的應(yīng)用：晶體管路中的保護(hù)層、電...

真空鍍膜技術(shù)與濕式鍍膜技術(shù)相比較，具有下列優(yōu)點(diǎn)：(1)薄膜和基體選材普遍，薄膜厚度可進(jìn)行控制，以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。(2)在真空條件下制備薄膜，環(huán)境清潔，薄膜不易受到污染，因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。(3)薄膜與基體結(jié)合強(qiáng)度好，薄膜牢固。(4)干式鍍膜既不產(chǎn)生廢液，也無(wú)環(huán)境污染。真空鍍膜技術(shù)主要有真空蒸發(fā)鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學(xué)氣相沉積等多種方法。除化學(xué)氣相沉積法外，其他幾種方法均具有以下的共同特點(diǎn)：各種鍍膜技術(shù)都需要一個(gè)特定的真空環(huán)境，以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或?yàn)R射過(guò)程中所形成蒸氣分子的運(yùn)動(dòng)，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾，并...

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡(jiǎn)單地說(shuō)，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射，使其在被涂覆的物體（稱(chēng)基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱(chēng)為真空鍍膜。眾所周知，在某些材料的表面上，只要鍍上一層薄膜，就能使材料具有許多新的、良好的物理和化學(xué)性能。20世紀(jì)70年代，在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學(xué)鍍法。前者是通過(guò)通電，使電解液電解，被電解的離子鍍到作為另一個(gè)電極的基體表面上，因此這種鍍膜的條件，基體須是電的良導(dǎo)體，而且薄膜...

離子鍍：蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面，稱(chēng)為離子鍍。這種技術(shù)是D.麥托克斯于1963年提出的。離子鍍是真空蒸發(fā)與陰極濺射技術(shù)的結(jié)合。一種離子鍍系統(tǒng)如圖4[離子鍍系統(tǒng)示意圖],將基片臺(tái)作為陰極，外殼作陽(yáng)極，充入惰性氣體（如氬）以產(chǎn)生輝光放電。從蒸發(fā)源蒸發(fā)的分子通過(guò)等離子區(qū)時(shí)發(fā)生電離。正離子被基片臺(tái)負(fù)電壓加速打到基片表面。未電離的中性原子（約占蒸發(fā)料的95％）也沉積在基片或真空室壁表面。電場(chǎng)對(duì)離化的蒸氣分子的加速作用（離子能量約幾百～幾千電子伏）和氬離子對(duì)基片的濺射清洗作用，使膜層附著強(qiáng)度較大提高。離子鍍工藝綜合了蒸發(fā)（高沉積速率）與濺射（良好的膜層附著力）工藝的特點(diǎn)，并有比較...

現(xiàn)在真空鍍膜已被普遍應(yīng)用于各類(lèi)非金屬制品的表面金屬化上：1、磁控濺射鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于信息存儲(chǔ)領(lǐng)域；2、磁控濺射鍍膜機(jī)：應(yīng)用于防護(hù)涂層；3、磁控濺射鍍Al膜生產(chǎn)線(xiàn)：應(yīng)用于太陽(yáng)能利用領(lǐng)域；4、光學(xué)鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于光學(xué)薄膜領(lǐng)域；5、觸摸屏連續(xù)式鍍膜生產(chǎn)線(xiàn)：應(yīng)用于觸摸屏領(lǐng)域；6、磁控中頻多弧離子鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于硬質(zhì)涂層；7、PECVD磁控生產(chǎn)線(xiàn)：應(yīng)用于集成電路制造；8、蒸發(fā)式真空鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于在裝飾飾品上鍍膜；9、低輻射玻璃鍍膜生產(chǎn)線(xiàn)：應(yīng)用于建筑玻璃方面，真空鍍膜價(jià)格；10、抗反射導(dǎo)電膜連續(xù)磁控濺射生產(chǎn)線(xiàn)：應(yīng)用于電子產(chǎn)品領(lǐng)域。真空鍍膜機(jī)的優(yōu)點(diǎn):對(duì)印刷、復(fù)合等后加工具有良好的適應(yīng)性。山東傳感器真空鍍膜...

如果普通的鏡片可以看得比較清楚，就不需要加膜，如果要加，樹(shù)脂鏡片可以加抗反射膜，也可以加硬膜，玻璃鏡片一般只加抗反射膜。當(dāng)光線(xiàn)進(jìn)入不同傳遞物質(zhì)時(shí)（如由空氣進(jìn)入玻璃），大約有5% 會(huì)被反射掉，在光學(xué)瞄準(zhǔn)鏡中有許多透鏡和折射鏡，整個(gè)加起來(lái)可以讓入射光線(xiàn)損失達(dá)30%至40%。現(xiàn)代光學(xué)透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜，單層增透膜可使反射減少至 1.5%，多層增透膜則可讓反射降低至 0.25%，所以整個(gè)瞄準(zhǔn)鏡如果加以適當(dāng)鍍膜，光線(xiàn)透穿率可達(dá) 95%。鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍(lán)紫色或是紅色，鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色。 真空鍍膜機(jī)鍍膜常用在相機(jī)、望遠(yuǎn)鏡，顯微鏡的目鏡、物鏡、棱鏡的表面，用...

膜層和膜外色斑產(chǎn)生來(lái)源:1．鍍膜后，膜層的空隙中滲透了難以消除的雜質(zhì)，改變了局部膜層的折射率，從而膜外形成色斑。?2．鍍膜過(guò)程中，有些高折射率基片的溫度過(guò)高，造成局部膜層（也有可能是膜層和基片的結(jié)合部）折射率變異。也會(huì)造成膜層色斑產(chǎn)生。?3．膜系匹配中，有的膜層太薄，結(jié)晶處于不穩(wěn)定狀態(tài)，也可能產(chǎn)生膜層色斑。4．膜系的膜料選擇與基片材料的匹配不好，也是膜層色般的產(chǎn)生原因之一。5．機(jī)組的微量返油，在鏡片或膜層中形成局部的薄的油斑，也是膜層色斑的產(chǎn)生原因，此類(lèi)色斑處的膜強(qiáng)度一般較差些。蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面，稱(chēng)為離子鍍。北京納米真空鍍膜加工蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以...

真空鍍膜機(jī)光學(xué)鍍膜主要有兩種：一種是抗反射膜，即通過(guò)在鏡片前表面鍍上多層不同折射率與不同厚度的透明材料，利用光干涉的原理來(lái)減少鏡片表面多余的反射光。鏡片加了抗反射膜后，對(duì)光線(xiàn)的通透性會(huì)增加，佩戴者感覺(jué)眩光減少了，視物也更加真切和明亮。另一種是加硬膜，主要用于樹(shù)脂鏡片。它一般加在鏡片前表面，使樹(shù)脂鏡片抗磨能力增強(qiáng)，同時(shí)光的通透性也有所加強(qiáng)。使用者在清潔加硬膜鏡片時(shí)，應(yīng)先用清水將鏡片前后表面洗凈，再用干凈軟布吸干，注意不要在鏡片干燥時(shí)擦拭。真空鍍膜機(jī)、真空鍍膜設(shè)備爐門(mén)采用懸垂吊掛式平移結(jié)構(gòu)，便于爐外料車(chē)與爐內(nèi)輥軸的對(duì)接傳遞，減少占地空間。廣東手機(jī)真空鍍膜技術(shù)真空鍍膜機(jī)的陰極電弧技術(shù)是利用真空環(huán)境下...

離子鍍：蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面，稱(chēng)為離子鍍。這種技術(shù)是D.麥托克斯于1963年提出的。離子鍍是真空蒸發(fā)與陰極濺射技術(shù)的結(jié)合。一種離子鍍系統(tǒng)如圖4[離子鍍系統(tǒng)示意圖],將基片臺(tái)作為陰極，外殼作陽(yáng)極，充入惰性氣體（如氬）以產(chǎn)生輝光放電。從蒸發(fā)源蒸發(fā)的分子通過(guò)等離子區(qū)時(shí)發(fā)生電離。正離子被基片臺(tái)負(fù)電壓加速打到基片表面。未電離的中性原子（約占蒸發(fā)料的95％）也沉積在基片或真空室壁表面。電場(chǎng)對(duì)離化的蒸氣分子的加速作用（離子能量約幾百～幾千電子伏）和氬離子對(duì)基片的濺射清洗作用，使膜層附著強(qiáng)度較大提高。離子鍍工藝綜合了蒸發(fā)（高沉積速率）與濺射（良好的膜層附著力）工藝的特點(diǎn)，并有比較...

真空鍍膜需要注意的問(wèn)題：1、厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的尺度上看(也就是1/10波長(zhǎng)作為單位，約為100A)，真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見(jiàn)光波長(zhǎng)的1/10范圍內(nèi)，也就是說(shuō)對(duì)于薄膜的光學(xué)特性來(lái)說(shuō)，真空鍍膜沒(méi)有障礙。但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說(shuō)要實(shí)現(xiàn)10A甚至1A的表面平整，具體控制因素下面會(huì)根據(jù)不同鍍膜給出詳細(xì)解釋。2、化學(xué)組分上的均勻性: 就是說(shuō)在薄膜中，化合物的原子組分會(huì)由于尺度過(guò)小而比較容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過(guò)程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成...

真空在鍍膜工業(yè)中的應(yīng)用：1、在顯示器件方面，錄象磁頭、高密度錄象帶以及平面顯示裝置的透明導(dǎo)電膜、攝像管光導(dǎo)膜、顯示管熒光屏的鋁襯等也都是采用真空鍍膜法制備。在元件方面，在真空中蒸發(fā)鎳鉻，鉻或金屬陶瓷可以制造電阻，在塑料上蒸發(fā)鋁、一氧化硅、二氧化鈦等可以制造電容器，蒸發(fā)硒可以得到靜電復(fù)印機(jī)用的硒鼓、蒸發(fā)鈦酸鋇可以制造磁致伸縮的起聲元件等等。真空蒸發(fā)還可以用于制造超導(dǎo)膜和慣性約束巨變反應(yīng)用的微珠鍍層。2、此外還可以對(duì)珠寶、鐘表外殼表面、紡織品金屬花紋、金絲銀絲線(xiàn)等蒸鍍裝飾用薄膜，以及采用濺射鍍或離子鍍對(duì)刀具、模具等制造超硬膜。近兩年內(nèi)所興起的多弧離子鍍制備鈦金制品，如不銹鋼薄板、鏡面板、包柱、扶手...

真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技術(shù)，是表面工程技術(shù)領(lǐng)域的重要組成部分。真空鍍膜技術(shù)是利用物理、化學(xué)手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜，從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、導(dǎo)電、導(dǎo)磁、絕緣和裝飾等許多優(yōu)于固體材料本身的優(yōu)越性能，達(dá)到提高產(chǎn)品質(zhì)量、延長(zhǎng)產(chǎn)品壽命、節(jié)約能源和獲得明顯技術(shù)經(jīng)濟(jì)效益的作用。因此真空鍍膜技術(shù)被譽(yù)為較具發(fā)展前途的重要技術(shù)之一，并已在高技術(shù)產(chǎn)業(yè)化的發(fā)展中展現(xiàn)出誘人的市場(chǎng)前景。這種新興的真空鍍膜技術(shù)已在國(guó)民經(jīng)濟(jì)各個(gè)領(lǐng)域得到應(yīng)用，如航空、航天、電子、信息、機(jī)械、石油、化工、環(huán)保等領(lǐng)域。真空鍍膜機(jī)新型表面功能覆層技術(shù)，其特點(diǎn)是保持基體材料固有的特征...

與蒸發(fā)鍍膜不同，濺射鍍膜不受膜材熔點(diǎn)的限制,可濺射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等難熔物質(zhì)。濺射化合物膜可用反應(yīng)濺射法，即將反應(yīng)氣體 (O、N、HS、CH等)加入Ar氣中,反應(yīng)氣體及其離子與靶原子或?yàn)R射原子發(fā)生反應(yīng)生成化合物(如氧化物、氮化物等)而沉積在基片上。沉積絕緣膜可采用高頻濺射法?；b在接地的電極上，絕緣靶裝在對(duì)面的電極上。高頻電源一端接地，一端通過(guò)匹配網(wǎng)絡(luò)和隔直流電容接到裝有絕緣靶的電極上。接通高頻電源后，高頻電壓不斷改變極性。等離子體中的電子和正離子在電壓的正半周和負(fù)半周分別打到絕緣靶上。由于電子遷移率高于正離子，絕緣靶表面帶負(fù)電，在達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡時(shí)，靶處于負(fù)的偏置電位，從而使正...

真空鍍膜設(shè)備選購(gòu)要點(diǎn)分析如下：1、根據(jù)工藝要求選擇鍍制方式及形式，如電阻蒸發(fā)（鎢絲、鉬舟、石墨舟）磁控源（同軸圓柱型磁控源、園柱型平面磁控源、矩型平面磁控源等）以靶材材質(zhì)及尺寸多弧源（Ф60，Ф80直徑靶材，氣動(dòng)、電動(dòng)的引弧等），真空測(cè)量可選擇數(shù)字式智能真空計(jì)及其測(cè)量規(guī)管，及其它測(cè)量?jī)x器，如自動(dòng)壓強(qiáng)控制儀等。膜厚測(cè)量可選用方塊電阻測(cè)量?jī)x，透過(guò)率計(jì)等。2、充氣方式可選用質(zhì)量流量計(jì)、浮子流量計(jì) + 針閥及相應(yīng)的充氣閥門(mén)，并可選擇多路充氣管路及相應(yīng)流量參數(shù)。3、根據(jù)需烘烤的結(jié)構(gòu)提出烘烤溫度、材質(zhì)以及所需配備相應(yīng)儀表測(cè)量。4、根據(jù)設(shè)備使用特點(diǎn)，可選擇手動(dòng)、半自動(dòng)、全自動(dòng)或其組合的控制方式。多弧離子真空...

為盡量減小真空鍍膜機(jī)真空室形變帶來(lái)的影響，我們將導(dǎo)軌、絲桿等傳動(dòng)件固定于一個(gè)剛性的中間層上，其與真空室底壁之間采用點(diǎn)、線(xiàn)、面活性支撐，以吸收和隔離形變，并設(shè)置形變補(bǔ)償調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，在系統(tǒng)抽真，參照有限元計(jì)算提供的理論數(shù)據(jù)預(yù)設(shè)適當(dāng)?shù)难a(bǔ)償量，以使其在真空狀態(tài)下達(dá)到平衡。 為了驗(yàn)證有限元計(jì)算的結(jié)果，對(duì)真空室的形變和補(bǔ)償進(jìn)行了測(cè)試。一步，將四只千分表定位在工作臺(tái)安裝基點(diǎn)的真空壁外側(cè)，當(dāng)真空室由大氣抽到真空時(shí)，記錄各千分表的變化量，經(jīng)歸一化處理后為用激光自準(zhǔn)直儀調(diào)整形變補(bǔ)償。由水平調(diào)整的自準(zhǔn)直儀發(fā)出一束激光穿過(guò)真空室的玻璃窗照射固定于工作臺(tái)上的反射鏡，在大氣環(huán)境下調(diào)整形變補(bǔ)償調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，使反射光束進(jìn)入自準(zhǔn)直儀...

真空鍍膜機(jī)鍍膜機(jī)用高能粒子（通常是由電場(chǎng)加速的正離子）轟擊固體表面，固體表面的原子、分子與入射的高能粒子交換動(dòng)能后從固體表面飛濺出來(lái)的現(xiàn)象稱(chēng)為濺射。濺射出的原子（或原子團(tuán)）具有一定的能量，它們可以重新沉積凝聚在固體基片表面形成薄膜。真空濺鍍要求在真空狀態(tài)中充入惰性氣體實(shí)現(xiàn)輝光放電，該工藝要求真空度在分子流狀態(tài)。真空濺鍍也可根據(jù)基材和靶材的特性直接濺射不用涂底漆，真空濺鍍的鍍層可通過(guò)調(diào)節(jié)電流大小和時(shí)間來(lái)壘加，但不能太厚，一般厚度在0.2~2um。在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。江西機(jī)械真空鍍膜廠家為什么真空鍍膜可以做成半透效果而且不導(dǎo)電？并非完全不導(dǎo)電，利...

真空在鍍膜工業(yè)中的應(yīng)用：1、首先在光學(xué)方面，一塊光學(xué)玻璃或石英表面上鍍一層或幾層不同物質(zhì)的薄膜后，即可成為高反射或無(wú)反射(即增透膜)或者作任何預(yù)期比例的反射或透射材料，也可以作成對(duì)某種波長(zhǎng)的吸收，而對(duì)另一種波長(zhǎng)的透射的濾色。高反射膜從大口徑的天文望遠(yuǎn)鏡和各種激光器開(kāi)始、一直到新型建筑物的大窗鍍膜茉莉，都比較需要。2、增透膜則大量用于照相和各種激光器開(kāi)始、一直到新型建筑物的大窗鍍膜玻璃，都比較需要。增透膜則大量用于照相機(jī)和電視攝象機(jī)的鏡頭上。在電子學(xué)方面真空鍍膜更占有極為重要的地位。各種規(guī)模的繼承電路。包括存貯器、運(yùn)算器、告訴邏輯元件等都要采用導(dǎo)電膜、絕緣膜和保護(hù)膜。作為制備電路的掩膜則用到鉻膜...

真空鍍膜操作規(guī)程：1．在機(jī)床運(yùn)轉(zhuǎn)正常情況下，開(kāi)動(dòng)機(jī)床時(shí)，須先開(kāi)水管，工作中應(yīng)隨時(shí)注意水壓。 2．在離子轟擊和蒸發(fā)時(shí)，應(yīng)特別注意高壓電線(xiàn)接頭，不得觸動(dòng)，以防觸電。 3．在用電子頭鍍膜時(shí)，應(yīng)在鐘罩周?chē)箱X板。觀察窗的玻璃用鉛玻璃，觀察時(shí)應(yīng)戴上鉛玻璃眼鏡，以防X射線(xiàn)侵害人體。 4．鍍制多層介質(zhì)膜的鍍膜間，應(yīng)安裝通風(fēng)吸塵裝置，及時(shí)排除有害粉塵。 5．易燃有毒物品要妥善保管，以防失火中毒。 6．酸洗夾具應(yīng)在通風(fēng)裝置內(nèi)進(jìn)行，并要戴橡皮手套。 7．把零件放入酸洗或堿洗槽中時(shí)，應(yīng)輕拿輕放，不得碰撞及濺出。平時(shí)酸洗槽盆應(yīng)加蓋。 8．工作完畢應(yīng)斷電、斷水。真空鍍膜機(jī)硬化膜沉積技術(shù)目前較成熟的是cvd、pvd。遼寧...