北京塑料真空鍍膜廠

來源: 發(fā)布時(shí)間:2021-12-15

離子鍍:蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面,稱為離子鍍。這種技術(shù)是D.麥托克斯于1963年提出的。離子鍍是真空蒸發(fā)與陰極濺射技術(shù)的結(jié)合。一種離子鍍系統(tǒng)如圖4[離子鍍系統(tǒng)示意圖],將基片臺(tái)作為陰極,外殼作陽極,充入惰性氣體(如氬)以產(chǎn)生輝光放電。從蒸發(fā)源蒸發(fā)的分子通過等離子區(qū)時(shí)發(fā)生電離。正離子被基片臺(tái)負(fù)電壓加速打到基片表面。未電離的中性原子(約占蒸發(fā)料的95%)也沉積在基片或真空室壁表面。電場(chǎng)對(duì)離化的蒸氣分子的加速作用(離子能量約幾百~幾千電子伏)和氬離子對(duì)基片的濺射清洗作用,使膜層附著強(qiáng)度較大提高。離子鍍工藝綜合了蒸發(fā)(高沉積速率)與濺射(良好的膜層附著力)工藝的特點(diǎn),并有比較好的繞射性,可為形狀復(fù)雜的工件鍍膜。真空鍍膜的操作規(guī)程:把零件放入酸洗或堿洗槽中時(shí),應(yīng)輕拿輕放,不得碰撞及濺出。北京塑料真空鍍膜廠

真空鍍膜機(jī)有一個(gè)自控檢測(cè)裝置,它可以被動(dòng)的進(jìn)行動(dòng)態(tài)防護(hù)。在實(shí)際運(yùn)用過程中,為了研究和改進(jìn)檢測(cè)裝置,考慮到溫度影響過濾材料的吸附和吸收性能,會(huì)將裝置置于空調(diào)房間。濕度一方面影響過濾材料吸濕,又會(huì)對(duì)試劑吸收性能產(chǎn)生影響,要求嚴(yán)格控制。根據(jù)催化劑測(cè)定管和比速來確定,流量的大小與動(dòng)態(tài)防護(hù)時(shí)間成反比,試劑濃度與動(dòng)態(tài)防護(hù)時(shí)間也成反比,其波動(dòng)還會(huì)影響到終點(diǎn)確定。為了滿足要求不時(shí)的也會(huì)做出各種改進(jìn),主要方面有用E+E29型溫濕度傳感器代替了干濕球濕度計(jì),通過控制干濕兩路流量比,代替了原來的玻璃調(diào)濕槽,采用噴射泵技術(shù),在較低的試劑壓力下,實(shí)現(xiàn)了長時(shí)間試劑均勻混合,濃度穩(wěn)定。北京塑料真空鍍膜廠真空鍍膜機(jī)爐體與爐門為了充分利用爐體的內(nèi)部空間,減輕真空系統(tǒng)的負(fù)載。

真空鍍膜機(jī)在現(xiàn)在對(duì)產(chǎn)品的表面處理上具有的優(yōu)勢(shì)還是比較明顯的,這種鍍膜機(jī)械比起其他的表面處理設(shè)備來說,在加工方面,本身是需要在真空的環(huán)境中進(jìn)行的,這樣的鍍膜方式就把外界的一些影響因素給“屏蔽”了,這是這種真空鍍膜機(jī)的一個(gè)優(yōu)勢(shì)之處。而對(duì)于真空鍍膜機(jī)械來說,目前的電路的發(fā)展也十分迅速,許多電子化的產(chǎn)品也被運(yùn)用到電路當(dāng)中,也使得這些機(jī)械逐漸發(fā)展成為了電動(dòng)化、自動(dòng)化的設(shè)備。其中濺控濺射鍍膜機(jī)就是比較好的一類表示,作為一種裝置來說,它也是體現(xiàn)出真空鍍膜技術(shù)先進(jìn)手段的表示,利用磁力進(jìn)行控制,通電產(chǎn)生的電磁效用等都對(duì)鍍膜技術(shù)進(jìn)行輔助??梢哉f是目前表面處理技術(shù)中值得關(guān)注的一類,而電磁控制的鍍膜機(jī)械的產(chǎn)生對(duì)現(xiàn)在的鍍膜設(shè)備來說,提高了鍍膜時(shí)候膜層的粒子量,這是這種鍍膜機(jī)械的主要運(yùn)用了。

真空鍍膜的功能是多方面的,這也決定了其應(yīng)用場(chǎng)合非常豐富??傮w來說,真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果,在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能,提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導(dǎo)電效果。通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面,稱為蒸發(fā)鍍膜。這種方法較早由M.法拉第于1857年提出,現(xiàn)代已成為常用鍍膜技術(shù)之一。蒸發(fā)物質(zhì)如金屬、化合物等置于坩堝內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源,待鍍工件,如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統(tǒng)抽至高真空后,加熱坩堝使其中的物質(zhì)蒸發(fā)。蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米。膜厚決定于蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率和時(shí)間(或決定于裝料量),并與源和基片的距離有關(guān)。對(duì)于大面積鍍膜,常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發(fā)源到基片的距離應(yīng)小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程,以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學(xué)作用。蒸氣分子平均動(dòng)能約為0.1~0.2電子伏。真空鍍膜機(jī)的優(yōu)點(diǎn):具有較佳的金屬光澤,光反射率可達(dá)97%。

真空鍍膜機(jī)導(dǎo)電膜特性/成本優(yōu)于ITO 適用軟性電子以高階注入的高能隙金屬氧化物如氧化銦錫(ITO)形成的透明導(dǎo)電膜在光電產(chǎn)業(yè)的應(yīng)用非常成功,舉凡平面顯示器、太陽能電池和觸控面板等都須使用。然而除須兼顧薄膜的透明度和電性外,軟性電子元件所需的透明導(dǎo)電膜還須具備可繞曲特性,若仍選擇容易因?yàn)閺澢a(chǎn)生缺陷的金屬氧化物薄膜時(shí),元件的可繞曲次數(shù)和可彎曲程度便會(huì)受到限制,進(jìn)而影響到可應(yīng)用范圍。除此之外,常用銦錫氧化物中的銦屬于稀有金屬,被大量使用之后,容易發(fā)生原料短缺、價(jià)格上漲的缺點(diǎn),因此開發(fā)具備柔韌性的透明導(dǎo)電膜對(duì)軟性電子元件技術(shù)發(fā)展比較重要。真空鍍膜的操作規(guī)程:在用電子頭鍍膜時(shí),應(yīng)在鐘罩周圍上鋁板。北京真空鍍膜廠家

真空鍍膜機(jī)的優(yōu)點(diǎn):對(duì)印刷、復(fù)合等后加工具有良好的適應(yīng)性。北京塑料真空鍍膜廠

真空鍍膜操作規(guī)程:1.在機(jī)床運(yùn)轉(zhuǎn)正常情況下,開動(dòng)機(jī)床時(shí),須先開水管,工作中應(yīng)隨時(shí)注意水壓。 2.在離子轟擊和蒸發(fā)時(shí),應(yīng)特別注意高壓電線接頭,不得觸動(dòng),以防觸電。 3.在用電子頭鍍膜時(shí),應(yīng)在鐘罩周圍上鋁板。觀察窗的玻璃用鉛玻璃,觀察時(shí)應(yīng)戴上鉛玻璃眼鏡,以防X射線侵害人體。 4.鍍制多層介質(zhì)膜的鍍膜間,應(yīng)安裝通風(fēng)吸塵裝置,及時(shí)排除有害粉塵。 5.易燃有毒物品要妥善保管,以防失火中毒。 6.酸洗夾具應(yīng)在通風(fēng)裝置內(nèi)進(jìn)行,并要戴橡皮手套。 7.把零件放入酸洗或堿洗槽中時(shí),應(yīng)輕拿輕放,不得碰撞及濺出。平時(shí)酸洗槽盆應(yīng)加蓋。 8.工作完畢應(yīng)斷電、斷水。北京塑料真空鍍膜廠

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