真空鍍膜機(jī)多弧離子鍍膜合理維護(hù)在鍍膜制品的生產(chǎn)過(guò)程，鍍膜過(guò)程除了鍍液主鹽成分的變化外，它還會(huì)有有一些雜質(zhì)的不斷積累或是某些情況下的意外侵入。真空鍍膜機(jī)、真空鍍膜設(shè)備多弧離子鍍膜對(duì)常見雜質(zhì)的引入原因、方式及故障現(xiàn)象有所解決。真空鍍膜機(jī)多弧離子鍍膜也對(duì)于雜質(zhì)及影響、添加劑的分析及補(bǔ)充等非常有幫助。真空鍍膜機(jī)多弧離子鍍膜隨著生產(chǎn)中出現(xiàn)問(wèn)題并解決問(wèn)題的循環(huán)次數(shù)不斷增加，多弧離子鍍膜生產(chǎn)維護(hù)水平也會(huì)越來(lái)越高。對(duì)于多弧離子鍍膜制品所要加工的對(duì)象、加工要求及加工條件，我們應(yīng)該要有必要的了解。真空鍍膜機(jī)、真空鍍膜設(shè)備多弧離子鍍膜產(chǎn)品質(zhì)量的高低是針對(duì)某種加工對(duì)象和滿足其要求的。觀察窗的玻璃較好用鉛玻璃，觀察時(shí)應(yīng)...

蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面，稱為離子鍍。這種技術(shù)是D.麥托克斯于1963年提出的。離子鍍是真空蒸發(fā)與陰極濺射技術(shù)的結(jié)合。一種離子鍍系統(tǒng),將基片臺(tái)作為陰極，外殼作陽(yáng)極，充入惰性氣體(如氬)以產(chǎn)生輝光放電。從蒸發(fā)源蒸發(fā)的分子通過(guò)等離子區(qū)時(shí)發(fā)生電離。正離子被基片臺(tái)負(fù)電壓加速打到基片表面。未電離的中性原子(約占蒸發(fā)料的95%)也沉積在基片或真空室壁表面。電場(chǎng)對(duì)離化的蒸氣分子的加速作用(離子能量約幾百~幾千電子伏)和氬離子對(duì)基片的濺射清洗作用，使膜層附著強(qiáng)度較大提高。離子鍍工藝綜合了蒸發(fā)(高沉積速率)與濺射(良好的膜層附著力)工藝的特點(diǎn)，并有比較好的繞射性，可為形狀復(fù)雜的工件鍍膜...

真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技術(shù)，是表面工程技術(shù)領(lǐng)域的重要組成部分。真空鍍膜技術(shù)是利用物理、化學(xué)手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜，從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、導(dǎo)電、導(dǎo)磁、絕緣和裝飾等許多優(yōu)于固體材料本身的優(yōu)越性能，達(dá)到提高產(chǎn)品質(zhì)量、延長(zhǎng)產(chǎn)品壽命、節(jié)約能源和獲得明顯技術(shù)經(jīng)濟(jì)效益的作用。因此真空鍍膜技術(shù)被譽(yù)為較具發(fā)展前途的重要技術(shù)之一，并已在高技術(shù)產(chǎn)業(yè)化的發(fā)展中展現(xiàn)出誘人的市場(chǎng)前景。這種新興的真空鍍膜技術(shù)已在國(guó)民經(jīng)濟(jì)各個(gè)領(lǐng)域得到應(yīng)用，如航空、航天、電子、信息、機(jī)械、石油、化工、環(huán)保等領(lǐng)域。從蒸發(fā)源蒸發(fā)的分子通過(guò)等離子區(qū)時(shí)發(fā)生電離。河北精密儀器真空鍍膜...

真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技術(shù)，是表面工程技術(shù)領(lǐng)域的重要組成部分。真空鍍膜技術(shù)是利用物理、化學(xué)手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜，從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、導(dǎo)電、導(dǎo)磁、絕緣和裝飾等許多優(yōu)于固體材料本身的優(yōu)越性能，達(dá)到提高產(chǎn)品質(zhì)量、延長(zhǎng)產(chǎn)品壽命、節(jié)約能源和獲得明顯技術(shù)經(jīng)濟(jì)效益的作用。因此真空鍍膜技術(shù)被譽(yù)為較具發(fā)展前途的重要技術(shù)之一，并已在高技術(shù)產(chǎn)業(yè)化的發(fā)展中展現(xiàn)出誘人的市場(chǎng)前景。這種新興的真空鍍膜技術(shù)已在國(guó)民經(jīng)濟(jì)各個(gè)領(lǐng)域得到應(yīng)用，如航空、航天、電子、信息、機(jī)械、石油、化工、環(huán)保等領(lǐng)域。多弧離子真空鍍膜機(jī)鍍膜還會(huì)在電廠的作用下沉積在具有負(fù)電壓基體表...

真空鍍膜設(shè)備選購(gòu)要點(diǎn)分析以及操作規(guī)程：真空鍍膜設(shè)備主要由真空腔、抽氣系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)、成膜控制系統(tǒng)等組件構(gòu)成。鍍膜設(shè)備已經(jīng)被普遍應(yīng)用于光學(xué)、電子、玩具、建材、五金、鐘表、汽車、民用裝飾品等行業(yè)。制鍍薄膜尤其普遍，其制作的各種薄膜被應(yīng)用到各光電系統(tǒng)及光學(xué)儀器中，如數(shù)碼相機(jī)、數(shù)碼攝像機(jī)、望遠(yuǎn)鏡、投影機(jī)、能量控制、光通訊、顯示技術(shù)、干涉儀、人造衛(wèi)星飛彈、半導(dǎo)體激光、微機(jī)電系統(tǒng)、信息工業(yè)、激光的制作、各種濾光片、照明工業(yè)、傳感器、建筑玻璃、汽車工業(yè)、裝飾品、錢幣、眼鏡片等等，鍍膜機(jī)器已經(jīng)與人類的生活緊密聯(lián)系。在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。甘肅疏水真空鍍膜工藝真空鍍...

真空鍍膜設(shè)備選購(gòu)要點(diǎn)分析如下：1、爐體可選擇由不銹鋼、碳鋼或它們的組合制成的雙層水冷結(jié)構(gòu)。2、根據(jù)工藝要求選擇不同規(guī)格及類型的鍍膜設(shè)備，其類型有電阻蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、磁控濺射、磁控反應(yīng)濺射、離子鍍、多弧離子鍍等。3、夾具運(yùn)轉(zhuǎn)形式有自轉(zhuǎn)、公轉(zhuǎn)及公轉(zhuǎn)+自轉(zhuǎn)方式，用戶可根據(jù)基片尺寸及形狀提出相應(yīng)要求，轉(zhuǎn)動(dòng)的速度范圍及轉(zhuǎn)動(dòng)精度：普通可調(diào)及變頻調(diào)速等。4、真空系統(tǒng)由機(jī)械泵、擴(kuò)散泵、油增壓泵、增擴(kuò)泵、羅茨泵、堝輪分子泵等及與它們相匹配的各種氣動(dòng)、手動(dòng)、電動(dòng)閥門、管道等組成。5、完善的報(bào)警系統(tǒng)，對(duì)真空室體、擴(kuò)散泵斷相、缺水、氣壓、電源負(fù)載的過(guò)壓、過(guò)流等異常情況進(jìn)行聲光報(bào)警。真空鍍膜機(jī)的優(yōu)點(diǎn):可采用屏蔽式對(duì)各...

真空鍍膜操作規(guī)程：1．在機(jī)床運(yùn)轉(zhuǎn)正常情況下，開動(dòng)機(jī)床時(shí)，須先開水管，工作中應(yīng)隨時(shí)注意水壓。 2．在離子轟擊和蒸發(fā)時(shí)，應(yīng)特別注意高壓電線接頭，不得觸動(dòng)，以防觸電。 3．在用電子頭鍍膜時(shí)，應(yīng)在鐘罩周圍上鋁板。觀察窗的玻璃用鉛玻璃，觀察時(shí)應(yīng)戴上鉛玻璃眼鏡，以防X射線侵害人體。 4．鍍制多層介質(zhì)膜的鍍膜間，應(yīng)安裝通風(fēng)吸塵裝置，及時(shí)排除有害粉塵。 5．易燃有毒物品要妥善保管，以防失火中毒。 6．酸洗夾具應(yīng)在通風(fēng)裝置內(nèi)進(jìn)行，并要戴橡皮手套。 7．把零件放入酸洗或堿洗槽中時(shí)，應(yīng)輕拿輕放，不得碰撞及濺出。平時(shí)酸洗槽盆應(yīng)加蓋。 8．工作完畢應(yīng)斷電、斷水。真空濺鍍可根據(jù)基材和靶材的特性直接濺射不用涂底漆。遼寧塑膠...

真空電鍍?cè)O(shè)備的監(jiān)控方法：1、目視監(jiān)控：使用眼睛監(jiān)控，因?yàn)楸∧ぴ谏L(zhǎng)的過(guò)程中，由于干涉現(xiàn)象會(huì)有顏色變化，我們就是根據(jù)顏色變化來(lái)控制膜厚度的，此種方式有誤差，所以不是比較準(zhǔn)確，需要依靠經(jīng)驗(yàn)。2、極值監(jiān)控法：當(dāng)膜厚度增加的時(shí)候其反射率和穿透率會(huì)跟著起變化，當(dāng)反射率或穿透率走到極值點(diǎn)的時(shí)候，就可以知道鍍膜之光學(xué)厚度ND是監(jiān)控波長(zhǎng)的四分之一的整倍數(shù)。但是極值的方法誤差比較大，因?yàn)楫?dāng)反射率或者透過(guò)率在極值附近變化比較慢，亦就是膜厚ND增加許多，R/T才有變化。反映比較靈敏的位置在八分之一波長(zhǎng)處。3.定值監(jiān)控法：此方法利用停鍍點(diǎn)不在監(jiān)控波長(zhǎng)四分之一波位，然后由計(jì)算機(jī)計(jì)算在波長(zhǎng)一時(shí)總膜厚之反射率是多少，此即為...

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡(jiǎn)單地說(shuō)，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。眾所周知，在某些材料的表面上，只要鍍上一層薄膜，就能使材料具有許多新的、良好的物理和化學(xué)性能。20世紀(jì)70年代，在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學(xué)鍍法。前者是通過(guò)通電，使電解液電解，被電解的離子鍍到作為另一個(gè)電極的基體表面上，因此這種鍍膜的條件，基體須是電的良導(dǎo)體，而且薄膜...

真空鍍膜機(jī)電阻式蒸發(fā)鍍分為預(yù)熱段、預(yù)溶段、線性蒸發(fā)段三個(gè)步驟。但是這三個(gè)步驟 與時(shí)間長(zhǎng)短、電流大小有著密切的關(guān)系，本人認(rèn)為應(yīng)做到短時(shí)間中電流，長(zhǎng)時(shí)間小電流、蒸發(fā)電流呈線性上升的方式作為調(diào)整工藝的通常調(diào)法，比如同等電流時(shí)間長(zhǎng)二分之一就會(huì)變黃，時(shí)間較長(zhǎng)就會(huì)變黑。真空鍍膜設(shè)備膜層厚度過(guò)厚也會(huì)帶一點(diǎn)黑色，但是是金屬本色黑色。膜層薄則呈現(xiàn)白銀色。 ①、預(yù)熱段的現(xiàn)象：預(yù)熱段爐體內(nèi)鎢絲基本沒什么變化，只是給鎢絲一定安培的電流先加熱，通常的工藝電流在600A-1000A之間，時(shí)間在10-30秒 。 ②、預(yù)溶段的現(xiàn)象：這時(shí)爐體內(nèi)的鎢絲會(huì)有發(fā)亮現(xiàn)象，然后鋁絲像爆一樣的動(dòng)作， 緊接著將從固態(tài)慢慢的變成液態(tài)。通常的工...

真空鍍膜設(shè)備選購(gòu)要點(diǎn)分析以及操作規(guī)程：真空鍍膜設(shè)備主要由真空腔、抽氣系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)、成膜控制系統(tǒng)等組件構(gòu)成。鍍膜設(shè)備已經(jīng)被普遍應(yīng)用于光學(xué)、電子、玩具、建材、五金、鐘表、汽車、民用裝飾品等行業(yè)。制鍍薄膜尤其普遍，其制作的各種薄膜被應(yīng)用到各光電系統(tǒng)及光學(xué)儀器中，如數(shù)碼相機(jī)、數(shù)碼攝像機(jī)、望遠(yuǎn)鏡、投影機(jī)、能量控制、光通訊、顯示技術(shù)、干涉儀、人造衛(wèi)星飛彈、半導(dǎo)體激光、微機(jī)電系統(tǒng)、信息工業(yè)、激光的制作、各種濾光片、照明工業(yè)、傳感器、建筑玻璃、汽車工業(yè)、裝飾品、錢幣、眼鏡片等等，鍍膜機(jī)器已經(jīng)與人類的生活緊密聯(lián)系。真空濺鍍可根據(jù)基材和靶材的特性直接濺射不用涂底漆。福建屏蔽真空鍍膜涂料真空在鍍膜工業(yè)中的應(yīng)用：1...

膜層和膜外色斑產(chǎn)生來(lái)源:1．鍍膜后，膜層的空隙中滲透了難以消除的雜質(zhì)，改變了局部膜層的折射率，從而膜外形成色斑。?2．鍍膜過(guò)程中，有些高折射率基片的溫度過(guò)高，造成局部膜層（也有可能是膜層和基片的結(jié)合部）折射率變異。也會(huì)造成膜層色斑產(chǎn)生。?3．膜系匹配中，有的膜層太薄，結(jié)晶處于不穩(wěn)定狀態(tài)，也可能產(chǎn)生膜層色斑。4．膜系的膜料選擇與基片材料的匹配不好，也是膜層色般的產(chǎn)生原因之一。5．機(jī)組的微量返油，在鏡片或膜層中形成局部的薄的油斑，也是膜層色斑的產(chǎn)生原因，此類色斑處的膜強(qiáng)度一般較差些。真空鍍膜機(jī)在集成電路制造中的應(yīng)用：PVCD技術(shù)、真空蒸發(fā)金屬技術(shù)、磁控濺射技術(shù)和射頻濺射技術(shù)。湖北耐磨真空鍍膜涂料真...

真空在鍍膜工業(yè)中的應(yīng)用：1、首先在光學(xué)方面，一塊光學(xué)玻璃或石英表面上鍍一層或幾層不同物質(zhì)的薄膜后，即可成為高反射或無(wú)反射(即增透膜)或者作任何預(yù)期比例的反射或透射材料，也可以作成對(duì)某種波長(zhǎng)的吸收，而對(duì)另一種波長(zhǎng)的透射的濾色。高反射膜從大口徑的天文望遠(yuǎn)鏡和各種激光器開始、一直到新型建筑物的大窗鍍膜茉莉，都比較需要。2、增透膜則大量用于照相和各種激光器開始、一直到新型建筑物的大窗鍍膜玻璃，都比較需要。增透膜則大量用于照相機(jī)和電視攝象機(jī)的鏡頭上。在電子學(xué)方面真空鍍膜更占有極為重要的地位。各種規(guī)模的繼承電路。包括存貯器、運(yùn)算器、告訴邏輯元件等都要采用導(dǎo)電膜、絕緣膜和保護(hù)膜。作為制備電路的掩膜則用到鉻膜...

真空鍍膜加工,不論是工作在自動(dòng)工作方式，還是手動(dòng)維護(hù)方式，輸出量的互鎖保護(hù)都是非常重要的。為防止誤操作，我們?cè)O(shè)計(jì)了互鎖電路和程序互鎖。條件不充分按錯(cuò)鍵時(shí)，系統(tǒng)給予提示不執(zhí)行錯(cuò)誤命令。如工藝過(guò)程中工藝氣體充氣流量稍低于設(shè)定流量時(shí)，給予黃燈訊響警告仍然繼續(xù)工作，壓力恢復(fù)后流量轉(zhuǎn)為正常，綠色指示燈亮。但當(dāng)流量低于設(shè)定的下限時(shí)，紅燈點(diǎn)亮報(bào)警，停止工藝進(jìn)程真空鍍膜加工。 鍍膜機(jī)通過(guò)用戶的使用和生產(chǎn)，證明整個(gè)程序化自動(dòng)控制系統(tǒng)滿足了用戶的使用要求太陽(yáng)電池的減反射膜層性能提供了良好的平臺(tái)。盡管如此，電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)的發(fā)展在國(guó)內(nèi)已有幾十年，技術(shù)雖不斷提高，但比較國(guó)外先進(jìn)技術(shù)還有差距，特別是領(lǐng)域。本文對(duì)電子束...

許多人配眼鏡時(shí),要求在鏡片上加膜。 光學(xué)鍍膜機(jī)給鏡片加膜主要有兩種：一種是抗反射膜，即通過(guò)在鏡片前表面鍍上多層不同折射率與不同厚度的透明材料，利用光干涉的原理來(lái)減少鏡片表面多余的反射光。鏡片加了抗反射膜后，對(duì)光線的通透性會(huì)增加，佩戴者感覺眩光減少了，視物也更加真切和明亮。另一種是加硬膜，主要用于樹脂鏡片。它一般加在鏡片前表面，使樹脂鏡片抗磨能力增強(qiáng)，同時(shí)光的通透性也有所加強(qiáng)。使用者在清潔加硬膜鏡片時(shí)，應(yīng)先用清水將鏡片前后表面洗凈，再用干凈軟布吸干，注意不要在鏡片干燥時(shí)擦拭。 如果普通的鏡片可以看得比較清楚，就不需要加膜，如果要加，樹脂鏡片可以加抗反射膜，也可以加硬膜，玻璃鏡片一般只加抗反射膜。...

真空鍍膜機(jī)類金剛石薄膜采用專屬設(shè)備和先進(jìn)的材料，真空鍍膜機(jī)類金剛石薄膜可以在各種塑料制品、樹脂、金屬及玻璃、陶瓷、木材、復(fù)合材料等各種材料上做出黃金、紅金、24K金、白金、銀、鉻色、圣誕紅、嫩綠、寶石藍(lán)、青古銅、紅古銅、黑色、棕色等100多種高亮度鏡面效果。真空鍍膜機(jī)類金剛石薄膜經(jīng)噴鍍技術(shù)處理后的制品，真空鍍膜機(jī)類金剛石薄膜具有優(yōu)異的環(huán)保性、附著性、耐氣候性、耐磨性和耐沖擊性等，符合國(guó)內(nèi)外大型精密產(chǎn)品生產(chǎn)商的要求，亦可作為其它行業(yè)的表面裝飾和保護(hù)等噴涂。類金剛石薄膜適用范圍較廣，如ABS料、ABS+PC料、PC料的產(chǎn)品.同時(shí)因其工藝流程復(fù)雜、環(huán)境、設(shè)備要求高。真空鍍膜機(jī)真空壓鑄工藝采用鈦合金單...

真空鍍膜加工特點(diǎn)：1、各種鍍膜技術(shù)都需要有一個(gè)蒸發(fā)源或靶子，以便把蒸發(fā)制膜的材料轉(zhuǎn)化成氣體。由于源或靶的不斷改進(jìn)，較大擴(kuò)大了制膜材料的選用范圍，無(wú)論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機(jī)物質(zhì)，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質(zhì)膜，而且還可以同時(shí)蒸鍍不同材料而得到多層膜。2、蒸發(fā)或?yàn)R射出來(lái)的制膜材料，在與待鍍的工件生成薄膜的過(guò)程中，對(duì)其膜厚可進(jìn)行比較測(cè)量和控制，從而保證膜厚的均勻性。3、每種薄膜都可以通過(guò)微調(diào)閥控制鍍膜室中殘余氣體的成分和質(zhì)量分?jǐn)?shù)，從而防止蒸鍍材料的氧化，把氧的質(zhì)量分?jǐn)?shù)降低到小的程度，還可以充入惰性氣體等，這對(duì)于濕式鍍膜而言是無(wú)法實(shí)現(xiàn)的。4、由于鍍膜設(shè)備的不斷改進(jìn)，鍍膜過(guò)程可以實(shí)現(xiàn)連...

真空鍍膜設(shè)備選購(gòu)要點(diǎn)分析如下：1、爐體可選擇由不銹鋼、碳鋼或它們的組合制成的雙層水冷結(jié)構(gòu)。2、根據(jù)工藝要求選擇不同規(guī)格及類型的鍍膜設(shè)備，其類型有電阻蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、磁控濺射、磁控反應(yīng)濺射、離子鍍、多弧離子鍍等。3、夾具運(yùn)轉(zhuǎn)形式有自轉(zhuǎn)、公轉(zhuǎn)及公轉(zhuǎn)+自轉(zhuǎn)方式，用戶可根據(jù)基片尺寸及形狀提出相應(yīng)要求，轉(zhuǎn)動(dòng)的速度范圍及轉(zhuǎn)動(dòng)精度：普通可調(diào)及變頻調(diào)速等。4、真空系統(tǒng)由機(jī)械泵、擴(kuò)散泵、油增壓泵、增擴(kuò)泵、羅茨泵、堝輪分子泵等及與它們相匹配的各種氣動(dòng)、手動(dòng)、電動(dòng)閥門、管道等組成。5、完善的報(bào)警系統(tǒng)，對(duì)真空室體、擴(kuò)散泵斷相、缺水、氣壓、電源負(fù)載的過(guò)壓、過(guò)流等異常情況進(jìn)行聲光報(bào)警。真空濺鍍的鍍層可通過(guò)調(diào)節(jié)電流大小和...

現(xiàn)在真空鍍膜已被普遍應(yīng)用于各類非金屬制品的表面金屬化上：1、磁控濺射鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于信息存儲(chǔ)領(lǐng)域；2、磁控濺射鍍膜機(jī)：應(yīng)用于防護(hù)涂層；3、磁控濺射鍍Al膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于太陽(yáng)能利用領(lǐng)域；4、光學(xué)鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于光學(xué)薄膜領(lǐng)域；5、觸摸屏連續(xù)式鍍膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于觸摸屏領(lǐng)域；6、磁控中頻多弧離子鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于硬質(zhì)涂層；7、PECVD磁控生產(chǎn)線：應(yīng)用于集成電路制造；8、蒸發(fā)式真空鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于在裝飾飾品上鍍膜；9、低輻射玻璃鍍膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于建筑玻璃方面，真空鍍膜價(jià)格；10、抗反射導(dǎo)電膜連續(xù)磁控濺射生產(chǎn)線：應(yīng)用于電子產(chǎn)品領(lǐng)域。真空鍍膜的操作規(guī)程：鍍制多層介質(zhì)膜的鍍膜間，應(yīng)安裝通風(fēng)吸塵裝置，及時(shí)排除有...

真空鍍膜的功能是多方面的，這也決定了其應(yīng)用場(chǎng)合非常豐富?？傮w來(lái)說(shuō)，真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導(dǎo)電效果。通過(guò)加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。這種方法較早由M.法拉第于1857年提出，現(xiàn)代已成為常用鍍膜技術(shù)之一。蒸發(fā)物質(zhì)如金屬、化合物等置于坩堝內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統(tǒng)抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質(zhì)蒸發(fā)。蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米。膜厚決定于蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率和時(shí)間(或決定于裝料量)，并與...

真空鍍膜色斑是什么：色斑（也稱膜色壓克、燒蝕）是指鏡片上的膜色局部變異（一般不規(guī)則）。有膜內(nèi)色斑（含膜層色斑）和膜外色斑二種。?有時(shí)會(huì)出現(xiàn)規(guī)則的局部區(qū)域（如凹鏡片的中心或環(huán)狀區(qū)域等）膜色變異。?色斑產(chǎn)生的原因：?局部折射率變異：所謂膜色是薄膜光譜特性的反映，薄膜光譜分光特性的設(shè)計(jì)和達(dá)成是建立在折射率基片的基礎(chǔ)上，如果基片局部折射率改變，那么所鍍的膜層在局部的光譜分光特性也有變化。局部點(diǎn)的膜色就會(huì)有變異，形成膜內(nèi)色斑的。?鍍膜中和鍍膜后由于種種原因，使得膜層的局部折射率變異，形成膜層或膜外色斑。?膜外色斑一般較淺，可以用拋光粉或碳酸鈣分擦掉，如果是中間層或底層膜層局部折射率變異的膜層色斑，就不能...

真空鍍膜設(shè)備選購(gòu)要點(diǎn)分析如下：1、爐體可選擇由不銹鋼、碳鋼或它們的組合制成的雙層水冷結(jié)構(gòu)。2、根據(jù)工藝要求選擇不同規(guī)格及類型的鍍膜設(shè)備，其類型有電阻蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、磁控濺射、磁控反應(yīng)濺射、離子鍍、多弧離子鍍等。3、夾具運(yùn)轉(zhuǎn)形式有自轉(zhuǎn)、公轉(zhuǎn)及公轉(zhuǎn)+自轉(zhuǎn)方式，用戶可根據(jù)基片尺寸及形狀提出相應(yīng)要求，轉(zhuǎn)動(dòng)的速度范圍及轉(zhuǎn)動(dòng)精度：普通可調(diào)及變頻調(diào)速等。4、真空系統(tǒng)由機(jī)械泵、擴(kuò)散泵、油增壓泵、增擴(kuò)泵、羅茨泵、堝輪分子泵等及與它們相匹配的各種氣動(dòng)、手動(dòng)、電動(dòng)閥門、管道等組成。5、完善的報(bào)警系統(tǒng)，對(duì)真空室體、擴(kuò)散泵斷相、缺水、氣壓、電源負(fù)載的過(guò)壓、過(guò)流等異常情況進(jìn)行聲光報(bào)警。真空鍍膜機(jī)的優(yōu)點(diǎn):對(duì)印刷、復(fù)合等后...

真空鍍膜技術(shù)初現(xiàn)于20世紀(jì)30年代，四五十年代開始出現(xiàn)工業(yè)應(yīng)用，工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)開始于20世紀(jì)80年代，在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業(yè)中取得普遍的應(yīng)用。真空鍍膜是指在真空環(huán)境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面(通常是非金屬材料)，屬于物理的氣相沉積工藝。因?yàn)殄儗映榻饘俦∧?，故也稱真空金屬化。廣義的真空鍍膜還包括在金屬或非金屬材料表面真空蒸鍍聚合物等非金屬功能性薄膜。在所有被鍍材料中，以塑料較為常見，其次，為紙張鍍膜。相對(duì)于金屬、陶瓷、木材等材料，塑料具有來(lái)源充足、性能易于調(diào)控、加工方便等優(yōu)勢(shì)，因此種類繁多的塑料或其他高分子材料作為工程裝飾性結(jié)構(gòu)材料，大量應(yīng)用于汽車...

蒸發(fā)源有三種類型。①電阻加熱源:用難熔金屬如鎢、鉭制成舟箔或絲狀,通以電流,加熱在它上方的或置于坩堝中的蒸發(fā)物質(zhì)電阻加熱源主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料;②高頻感應(yīng)加熱源:用高頻感應(yīng)電流加熱坩堝和蒸發(fā)物質(zhì);③電子束加熱源:適用于蒸發(fā)溫度較高(不低于2000[618-1])的材料，即用電子束轟擊材料使其蒸發(fā)。蒸發(fā)鍍膜與其他真空鍍膜方法相比，具有較高的沉積速率，可鍍制單質(zhì)和不易熱分解的化合物膜。為沉積高純單晶膜層，可采用分子束外延方法。噴射爐中裝有分子束源，在超高真空下當(dāng)它被加熱到一定溫度時(shí)，爐中元素以束狀分子流射向基片?；患訜岬揭欢囟?，沉積在基片上的分子可...

真空鍍膜機(jī)光學(xué)鍍膜主要有兩種：一種是抗反射膜，即通過(guò)在鏡片前表面鍍上多層不同折射率與不同厚度的透明材料，利用光干涉的原理來(lái)減少鏡片表面多余的反射光。鏡片加了抗反射膜后，對(duì)光線的通透性會(huì)增加，佩戴者感覺眩光減少了，視物也更加真切和明亮。另一種是加硬膜，主要用于樹脂鏡片。它一般加在鏡片前表面，使樹脂鏡片抗磨能力增強(qiáng)，同時(shí)光的通透性也有所加強(qiáng)。使用者在清潔加硬膜鏡片時(shí)，應(yīng)先用清水將鏡片前后表面洗凈，再用干凈軟布吸干，注意不要在鏡片干燥時(shí)擦拭。真空濺鍍可根據(jù)基材和靶材的特性直接濺射不用涂底漆。北京疏水真空鍍膜材料真空在鍍膜工業(yè)中的應(yīng)用：1、在顯示器件方面，錄象磁頭、高密度錄象帶以及平面顯示裝置的透明導(dǎo)...

真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備主要用于在經(jīng)予處理的塑料、陶瓷等制品表面蒸鍍金屬薄膜(鍍鋁、鉻、錫、不銹鋼等金屬)、七彩薄仿金膜等，從而獲得光亮、美觀、;價(jià)廉的塑料，陶瓷表面金屬化制品。普遍應(yīng)用于汽車、摩托車燈具、工藝美術(shù)、裝潢裝飾、燈具、家具、玩具、酒瓶蓋、化妝品、手機(jī)、鬧鐘、女式鞋后跟等領(lǐng)域。真空鍍膜技術(shù)是真空應(yīng)用技術(shù)的一個(gè)重要分支，它已普遍地應(yīng)用于光學(xué)、電子學(xué)、能源開發(fā)，理化儀器、建筑機(jī)械、包裝、民用制品、表面科學(xué)以及科學(xué)研究等領(lǐng)域中。真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及分子束外延等。此外還有化學(xué)氣相沉積法。真空鍍膜技術(shù)被譽(yù)為較具發(fā)展前途的重要技術(shù)之一，并已在高技術(shù)產(chǎn)業(yè)化的發(fā)...

真空鍍膜需要注意的問(wèn)題：1、厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的尺度上看(也就是1/10波長(zhǎng)作為單位，約為100A)，真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長(zhǎng)的1/10范圍內(nèi)，也就是說(shuō)對(duì)于薄膜的光學(xué)特性來(lái)說(shuō)，真空鍍膜沒有障礙。但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說(shuō)要實(shí)現(xiàn)10A甚至1A的表面平整，具體控制因素下面會(huì)根據(jù)不同鍍膜給出詳細(xì)解釋。2、化學(xué)組分上的均勻性: 就是說(shuō)在薄膜中，化合物的原子組分會(huì)由于尺度過(guò)小而比較容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過(guò)程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成...

真空電鍍是真空鍍膜工藝的一項(xiàng)新發(fā)展。真空電鍍當(dāng)高溫蒸發(fā)源通電加熱后，真空電鍍促使待鍍材料—蒸發(fā)料熔化蒸發(fā)。真空電鍍蒸發(fā)料粒子獲得動(dòng)能，真空電鍍則沿著視線方向徐徐上升，真空電鍍附著于工件外表上堆積成膜。真空電鍍用這種工藝形成的鍍層，真空電鍍與零件外表既無(wú)牢固的化學(xué)結(jié)合。真空電鍍的簡(jiǎn)單作用過(guò)程：真空電鍍接通蒸發(fā)源交流電源，真空電鍍蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā)，真空電鍍進(jìn)入輝光放電區(qū)并被電離。真空電鍍帶正電荷的蒸發(fā)料離子，陰極吸引下，隨同氬離子一同沖向工件，真空電鍍當(dāng)拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子逾越濺失離子的數(shù)量時(shí)，真空電鍍則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。真空鍍膜機(jī)的優(yōu)點(diǎn):具有較佳的金屬光澤，光反...

真空鍍膜機(jī)光學(xué)鍍膜主要有兩種：一種是抗反射膜，即通過(guò)在鏡片前表面鍍上多層不同折射率與不同厚度的透明材料，利用光干涉的原理來(lái)減少鏡片表面多余的反射光。鏡片加了抗反射膜后，對(duì)光線的通透性會(huì)增加，佩戴者感覺眩光減少了，視物也更加真切和明亮。另一種是加硬膜，主要用于樹脂鏡片。它一般加在鏡片前表面，使樹脂鏡片抗磨能力增強(qiáng)，同時(shí)光的通透性也有所加強(qiáng)。使用者在清潔加硬膜鏡片時(shí)，應(yīng)先用清水將鏡片前后表面洗凈，再用干凈軟布吸干，注意不要在鏡片干燥時(shí)擦拭。真空濺鍍通常指的是磁控濺鍍，屬于高速低溫濺鍍法。河南納米真空鍍膜工藝蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面，稱為離子鍍。這種技術(shù)是D.麥托克斯于19...

如果普通的鏡片可以看得比較清楚，就不需要加膜，如果要加，樹脂鏡片可以加抗反射膜，也可以加硬膜，玻璃鏡片一般只加抗反射膜。當(dāng)光線進(jìn)入不同傳遞物質(zhì)時(shí)（如由空氣進(jìn)入玻璃），大約有5% 會(huì)被反射掉，在光學(xué)瞄準(zhǔn)鏡中有許多透鏡和折射鏡，整個(gè)加起來(lái)可以讓入射光線損失達(dá)30%至40%。現(xiàn)代光學(xué)透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜，單層增透膜可使反射減少至 1.5%，多層增透膜則可讓反射降低至 0.25%，所以整個(gè)瞄準(zhǔn)鏡如果加以適當(dāng)鍍膜，光線透穿率可達(dá) 95%。鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍(lán)紫色或是紅色，鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色。 真空鍍膜機(jī)鍍膜常用在相機(jī)、望遠(yuǎn)鏡，顯微鏡的目鏡、物鏡、棱鏡的表面，用...