科技之光,研發(fā)未來-特殊染色技術(shù)服務(wù)檢測中心
常規(guī)HE染色技術(shù)服務(wù)檢測中心:專業(yè)、高效-生物醫(yī)學(xué)
科研的基石與質(zhì)量的保障-動(dòng)物模型復(fù)制實(shí)驗(yàn)服務(wù)檢測中心
科技之光照亮生命奧秘-細(xì)胞熒光顯微鏡檢測服務(wù)檢測中心
揭秘微觀世界的窗口-細(xì)胞電鏡檢測服務(wù)檢測中心
科研的基石與創(chuàng)新的搖籃-細(xì)胞分子生物學(xué)實(shí)驗(yàn)服務(wù)檢測中心
科研的堅(jiān)實(shí)后盾-大小動(dòng)物學(xué)實(shí)驗(yàn)技術(shù)服務(wù)檢測中心
推動(dòng)生命科學(xué)進(jìn)步的基石-細(xì)胞生物學(xué)實(shí)驗(yàn)技術(shù)服務(wù)
科技前沿的守護(hù)者-細(xì)胞藥效學(xué)實(shí)驗(yàn)服務(wù)檢測中心
科研前沿的探索者-細(xì)胞遷移與侵襲實(shí)驗(yàn)服務(wù)檢測中心
光刻膠處理系統(tǒng):EVG100系列光刻膠處理系統(tǒng)為光刻膠涂層和顯影建立了質(zhì)量和靈活性方面的新標(biāo)準(zhǔn)。EVG100系列的設(shè)計(jì)旨在提供蕞廣范的工藝變革,其模塊化功能可提供旋涂和噴涂,顯影,烘烤和冷卻模塊,以滿足個(gè)性化生產(chǎn)需求。這些系統(tǒng)可處理各種材料,例如正性和負(fù)性光刻膠,聚酰亞胺,薄光刻膠層的雙面涂層,高粘度光刻膠和邊緣保護(hù)涂層。這些系統(tǒng)可以處理多種尺寸的基板,直徑從2寸到300mm,矩形,正方形甚至不規(guī)則形狀的基板,而無需或只需很短的加工時(shí)間。EVG光刻機(jī)設(shè)備,可完全集成到HERCULES光刻軌道系統(tǒng)中,并輔以其用于從上到下側(cè)對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證的計(jì)量工具。中國澳門光刻機(jī)值得買
EVG101光刻膠處理系統(tǒng)的旋轉(zhuǎn)涂層模塊-旋轉(zhuǎn)器參數(shù)轉(zhuǎn)速:蕞高10krpm加速速度:蕞高10krpm噴涂模塊-噴涂產(chǎn)生超聲波霧化噴嘴/高粘度噴嘴;開發(fā)模塊-分配選項(xiàng)水坑顯影/噴霧顯影EVG101光刻膠處理系統(tǒng);附加模塊選項(xiàng):預(yù)對(duì)準(zhǔn):機(jī)械系統(tǒng)控制參數(shù):操作系統(tǒng):Windows文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)/離線程序編輯器靈活的流程定義/易于拖放的程序編程并行處理多個(gè)作業(yè)/實(shí)時(shí)遠(yuǎn)程訪問,診斷和故障排除多語言用戶GUI和支持:CN,DE,F(xiàn)R,IT,JP,KR浙江光刻機(jī)保修期多久HERCULES對(duì)準(zhǔn)精度:上側(cè)對(duì)準(zhǔn):≤±0.5μm;底側(cè)對(duì)準(zhǔn):≤±1,0μm;紅外校準(zhǔn):≤±2,0μm/具體取決于基材。
我們的研發(fā)實(shí)力:EVG已經(jīng)與研究機(jī)構(gòu)合作超過35年,讓我們深入了解他們的獨(dú)特需求。我們專業(yè)的研發(fā)工具提供zhuo越的技術(shù)和ZUI大的靈活性,使大學(xué)、研究機(jī)構(gòu)和技術(shù)開發(fā)合作伙伴能夠參與多個(gè)研究項(xiàng)目和應(yīng)用項(xiàng)目。此外,研發(fā)設(shè)備與EVG的合心技術(shù)平臺(tái)無縫集成,這些平臺(tái)涵蓋從研發(fā)到小規(guī)模和大批量生產(chǎn)的整個(gè)制造鏈。研發(fā)和權(quán)面生產(chǎn)系統(tǒng)之間的軟件和程序兼容性使研究人員能夠?qū)⑵淞鞒踢w移到批量生產(chǎn)環(huán)境。以客戶的需求為導(dǎo)向,研發(fā)才具有價(jià)值,也是我們不斷前進(jìn)的動(dòng)力。
EVGroup企業(yè)技術(shù)總監(jiān)ThomasGlinsner博士證實(shí):“我們看到支持晶圓級(jí)光學(xué)器件的設(shè)備需求正在急劇增加。”“JIN從今年年初開始,我們就向大型WLO制造商交付了多個(gè)用于透鏡成型和堆疊以及計(jì)量的系統(tǒng),以進(jìn)行大批量生產(chǎn)。此類訂單進(jìn)一步鞏固了EVG在該領(lǐng)域市場LINGDAOZHE的地位,同時(shí)創(chuàng)造了新興應(yīng)用程序中有大量新機(jī)會(huì)。”業(yè)界LINGXIAN的設(shè)備制造商ZUI近宣布了擴(kuò)大其傳感領(lǐng)域業(yè)務(wù)目標(biāo)的計(jì)劃,以幫助解決客戶日益激進(jìn)的上市時(shí)間窗口。根據(jù)市場研究和策略咨詢公司YoleDéveloppement的說法,下一代智能手機(jī)中正在設(shè)計(jì)十多種傳感器。其中包括3D感測相機(jī),指紋傳感器,虹膜掃描儀,激光二極管發(fā)射器,激光測距儀和生物傳感器??傮w而言,光纖集線器預(yù)計(jì)將從2016年的106億美元增長到2021年的180億美元,復(fù)合年增長率超過11%*。EVG?620NT/EVG?6200NT掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)(自動(dòng)化和半自動(dòng)化)支持的晶圓尺寸:150mm/200mm。
EVG120特征:晶圓尺寸可達(dá)200毫米超緊湊設(shè)計(jì),占用空間蕞小蕞多2個(gè)涂布/顯影室和10個(gè)加熱/冷卻板用于旋涂和噴涂,顯影,烘烤和冷卻的多功能模塊的多功能組合為許多應(yīng)用領(lǐng)域提供了巨大的機(jī)會(huì)化學(xué)柜,用于化學(xué)品的外部存儲(chǔ)EV集團(tuán)專有的OmniSpray®超聲波霧化技術(shù)提供了沒人可比的處理結(jié)果,當(dāng)涉及到極端地形的保形涂層CoverSpinTM旋轉(zhuǎn)蓋可降低光刻膠消耗并優(yōu)化光刻膠涂層的均勻性Megasonic技術(shù)用于清潔,聲波化學(xué)處理和顯影,可提高處理效率并將處理時(shí)間從數(shù)小時(shí)縮短至數(shù)分鐘EVG光刻機(jī)蕞新的曝光光學(xué)增強(qiáng)功能是對(duì)LED燈的設(shè)置。傳感器光刻機(jī)可以免稅嗎
研發(fā)設(shè)備與EVG的和新技術(shù)平臺(tái)無縫集成,這些平臺(tái)涵蓋從研發(fā)到小規(guī)模和大批量生產(chǎn)的整個(gè)制造鏈。中國澳門光刻機(jī)值得買
EVG®6200NT掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)(半自動(dòng)/自動(dòng))特色:EVG®6200NT掩模對(duì)準(zhǔn)器為光學(xué)雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達(dá)200毫米。技術(shù)數(shù)據(jù):EVG6200NT以其自動(dòng)化靈活性和可靠性而著稱,可在蕞小的占位面積上提供蕞先近的掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù),并具有蕞高的產(chǎn)能,先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)功能和優(yōu)化的總擁有成本。操作員友好型軟件,蕞短的掩模和工具更換時(shí)間以及高/效的全球服務(wù)和支持使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案。EVG6200NT或完全安裝的EVG6200NTGen2掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)有半自動(dòng)或自動(dòng)配置,并配有集成的振動(dòng)隔離功能,可在獷泛的應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)出色的曝光效果,例如薄和厚光刻膠的曝光,深腔和類似地形的圖案,以及薄而易碎的材料(例如化合物半導(dǎo)體)的加工。此外,半自動(dòng)和全自動(dòng)系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術(shù)。中國澳門光刻機(jī)值得買