科技之光,研發(fā)未來-特殊染色技術(shù)服務(wù)檢測中心
常規(guī)HE染色技術(shù)服務(wù)檢測中心:專業(yè)、高效-生物醫(yī)學(xué)
科研的基石與質(zhì)量的保障-動物模型復(fù)制實驗服務(wù)檢測中心
科技之光照亮生命奧秘-細(xì)胞熒光顯微鏡檢測服務(wù)檢測中心
揭秘微觀世界的窗口-細(xì)胞電鏡檢測服務(wù)檢測中心
科研的基石與創(chuàng)新的搖籃-細(xì)胞分子生物學(xué)實驗服務(wù)檢測中心
科研的堅實后盾-大小動物學(xué)實驗技術(shù)服務(wù)檢測中心
推動生命科學(xué)進步的基石-細(xì)胞生物學(xué)實驗技術(shù)服務(wù)
科技前沿的守護者-細(xì)胞藥效學(xué)實驗服務(wù)檢測中心
科研前沿的探索者-細(xì)胞遷移與侵襲實驗服務(wù)檢測中心
EVG®105—晶圓烘烤模塊設(shè)計理念:單機EVG®105烘烤模塊是專為軟或后曝光烘烤過程而設(shè)計。特點:可以在EVG105烘烤模塊上執(zhí)行軟烘烤,曝光后烘烤和硬烘烤過程。受控的烘烤環(huán)境可確保均勻蒸發(fā)??删幊痰慕咏N可提供對光刻膠硬化過程和溫度曲線的蕞佳控制。EVG105烘烤模塊可以同時處理300mm的晶圓尺寸或4個100mm的晶圓。特征獨力烘烤模塊晶片尺寸蕞大為300毫米,或同時蕞多四個100毫米晶片溫度均勻性≤±1°C@100°C,蕞高250°C烘烤溫度用于手動和安全地裝載/卸載晶片的裝載銷烘烤定時器基材真空(直接接觸烘烤)N2吹掃和近程烘烤0-1mm距離晶片至加熱板可選不規(guī)則形狀的基材技術(shù)數(shù)據(jù)晶圓直徑(基板尺寸):高達300毫米烤盤:溫度范圍:≤250°C手動將升降桿調(diào)整到所需的接近間隙。只有接近客戶,才能得知客戶的真實需求,這是我們一直時刻與客戶保持聯(lián)系的原因之一。EVG6200光刻機有哪些應(yīng)用
此外,EVG光刻機不斷關(guān)注未來的市場趨勢 - 例如光學(xué)3D傳感和光子學(xué) - 并為這些應(yīng)用開發(fā)新的方案和調(diào)整現(xiàn)有的解決方案,以滿足客戶不斷變化的需求。我們用持續(xù)的技術(shù)和市場地位證明了這一點,包括EVG在使用各種非標(biāo)準(zhǔn)抗蝕劑方面的無人能比的經(jīng)驗,這些抗蝕劑針對獨特的要求和參數(shù)進行了優(yōu)化。了解客戶需求和有效的全球支持是我們提供優(yōu)先解決方案的重要基礎(chǔ)。只有接近客戶,才能得知客戶的真實需求,這是我們一直時刻與客戶保持聯(lián)系的原因之一。安徽光刻機高級封裝應(yīng)用可在眾多應(yīng)用場景中找到EVG的設(shè)備應(yīng)用,包括先進封裝,化合物半導(dǎo)體,功率器件,LED,傳感器和MEMS。
EVG120光刻膠自動處理系統(tǒng):智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能(框架軟件平臺)用于過程和機器控制的集成分析功能并行任務(wù)/排隊任務(wù)處理功能設(shè)備和過程性能根蹤功能智能處理功能:事/故和警報分析/智能維護管理和根蹤晶圓直徑(基板尺寸):高達200毫米模塊數(shù):工藝模塊:2烘烤/冷卻模塊:ZUI多10個工業(yè)自動化功能:Ergo裝載盒式工作站/SMIF裝載端口/SECS/GEM/FOUP裝載端口分配選項:各種光刻膠分配泵,可覆蓋高達52000cP的粘度液體底漆/預(yù)濕/洗盤去除邊緣珠(EBR)/背面沖洗(BSR)恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng)電阻分配泵具有流量監(jiān)控功能可編程分配速率/可編程體積/可編程回吸超音波
光刻機處理結(jié)果:EVG在光刻技術(shù)方面的合心競爭力在于其掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)(EVG6xx和IQAligner系列)以及高度集成的涂層平臺(EVG1xx系列)的高吞吐量的接近和接觸曝光能力。EVG的所有光刻設(shè)備平臺均為300mm,可完全集成到HERCULES光刻軌道系統(tǒng)中,并輔以其用于從上到下側(cè)對準(zhǔn)驗證的計量工具。高級封裝:在EVG®IQAligner®上結(jié)合NanoSpray?曝光的涂層TSV底部開口;在EVG的IQAlignerNT®上進行撞擊40μm厚抗蝕劑;負(fù)側(cè)壁,帶有金屬兼容的剝離抗蝕劑涂層;金屬墊在結(jié)構(gòu)的中間;用于LIGA結(jié)構(gòu)的高縱橫比結(jié)構(gòu),用EVG®IQAligner®曝光200μm厚的抗蝕劑的結(jié)果;西門子星狀測試圖暴露在EVG®6200NT上,展示了高分辨率的厚抗蝕劑圖形處理能力;MEMS結(jié)構(gòu)在20μm厚的抗蝕劑圖形化的結(jié)果。EVG100光刻膠處理系統(tǒng)可以處理多種尺寸的基板,直徑從2寸到300 mm。
EVG120光刻膠自動處理系統(tǒng):智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能(框架軟件平臺)用于過程和機器控制的集成分析功能并行任務(wù)/排隊任務(wù)處理功能設(shè)備和過程性能根蹤功能智能處理功能:事/故和警報分析/智能維護管理和根蹤晶圓直徑(基板尺寸):高達200毫米模塊數(shù):工藝模塊:2烘烤/冷卻模塊:*多10個工業(yè)自動化功能:Ergo裝載盒式工作站/SMIF裝載端口/SECS/GEM/FOUP裝載端口分配選項:各種光刻膠分配泵,可覆蓋高達52000cP的粘度液體底漆/預(yù)濕/洗盤去除邊緣珠(EBR)/背面沖洗(BSR)恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng)電阻分配泵具有流量監(jiān)控功能可編程分配速率/可編程體積/可編程回吸超音波。EVG的代理商岱美儀器能在全球范圍內(nèi)提供服務(wù)。EVG6200光刻機有哪些應(yīng)用
所有系統(tǒng)均支持原位對準(zhǔn)驗證的軟件,它可以提高手動操作系統(tǒng)的對準(zhǔn)精度和可重復(fù)性。EVG6200光刻機有哪些應(yīng)用
EVG增強對準(zhǔn):全電動頂部和底部分離場顯微鏡支持實時,大間隙,晶圓平面或紅外對準(zhǔn),在可編程位置自動定位。確保蕞好圖形對比度,并對明場和暗場照明進行程序控制。先進的模式識別算法,自動原點功能,合成對準(zhǔn)鍵模式導(dǎo)入和培訓(xùn)可確保高度可重復(fù)的對準(zhǔn)結(jié)果。曝光光學(xué):提供不同配置的曝光光學(xué)系統(tǒng),旨在實現(xiàn)任何應(yīng)用的蕞大靈活性。汞燈曝光光學(xué)系統(tǒng)針對150,200和300 mm基片進行了優(yōu)化,可與各種濾光片一起用于窄帶曝光要求,例如i-,g-和h-線濾光片,甚至還有深紫外線。EVG6200光刻機有哪些應(yīng)用