浙江納米壓印試用

來源: 發(fā)布時(shí)間:2024-05-10

EVG®720自動(dòng)SmartNIL®UV納米壓印光刻系統(tǒng)自動(dòng)全視野的UV納米壓印溶液達(dá)150毫米,設(shè)有EVG's專有SmartNIL®技術(shù)EVG720系統(tǒng)利用EVG的創(chuàng)新SmartNIL技術(shù)和材料專業(yè)知識(shí),能夠大規(guī)模制造微米和納米級(jí)結(jié)構(gòu)。具有SmartNIL技術(shù)的EVG720系統(tǒng)能夠在大面積上印刷小至40nm*的納米結(jié)構(gòu),具有無人能比的吞吐量,非常適合批量生產(chǎn)下一代微流控和光子器件,例如衍射光學(xué)元件(DOEs)。*分辨率取決于過程和模板如果需要詳細(xì)的信息,請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。也可以訪問官網(wǎng),獲得更多信息。高 效,強(qiáng)大的SmartNIL工藝提供高圖案保真度,擁有高度均勻圖案層和蕞少殘留層,易于擴(kuò)展的晶圓尺寸和產(chǎn)量。浙江納米壓印試用

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EVG®770分步重復(fù)納米壓印光刻系統(tǒng)分步重復(fù)納米壓印光刻技術(shù),可進(jìn)行有效的母版制作EVG770是用于步進(jìn)式納米壓印光刻的通用平臺(tái),可用于有效地進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。這種方法允許從蕞大50mmx50mm的小模具到蕞大300mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。將鉆石車削或直接寫入方法相結(jié)合,分步重復(fù)刻印通常用于有效地制造晶圓級(jí)光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。EVG770的主要功能包括精確的對(duì)準(zhǔn)功能,完整的過程控制以及可滿足各種設(shè)備和應(yīng)用需求的靈活性。吉林納米壓印美元價(jià)在納米光學(xué)器件中,納米壓印可以用于制備納米級(jí)的光學(xué)結(jié)構(gòu),用于改善光學(xué)器件的性能。

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HERCULES®NIL:完全集成的納米壓印光刻解決方案,可實(shí)現(xiàn)300mm的大批量生產(chǎn)■批量生產(chǎn)低至40nm的結(jié)構(gòu)或更小尺寸(分辨率取決于過程和模板)■結(jié)合了預(yù)處理(清潔/涂布/烘烤/冷卻)和SmartNIL®技術(shù)■全自動(dòng)壓印和受控的低力分離,可蕞大程度地重復(fù)使用工作印章■具備工作印章制造能力EVG®770:連續(xù)重復(fù)的納米壓印光刻技術(shù),可進(jìn)行有效的母版制作■用于晶圓級(jí)光學(xué)器件的微透鏡的高效母模制造,直至SmartNIL®的納米結(jié)構(gòu)■不同類型的母版的簡(jiǎn)單實(shí)現(xiàn)■可變的光刻膠分配模式■分配,壓印和脫模過程中的實(shí)時(shí)圖像■用于壓印和脫模的原位力控制

EVG®720特征:體積驗(yàn)證的壓印技術(shù),具有出色的復(fù)制保真度專有SmartNIL®技術(shù),多使用聚合物印模技術(shù)集成式壓印,UV固化脫模和工作印模制造盒帶到盒帶自動(dòng)處理以及半自動(dòng)研發(fā)模式可選的頂部對(duì)準(zhǔn)可選的迷你環(huán)境適用于所有市售壓印材料的開放平臺(tái)從研發(fā)到生產(chǎn)的可擴(kuò)展性系統(tǒng)外殼,可實(shí)現(xiàn)ZUI佳過程穩(wěn)定性和可靠性技術(shù)數(shù)據(jù)晶圓直徑(基板尺寸)75至150毫米解析度:≤40nm(分辨率取決于模板和工藝)支持流程:SmartNIL®曝光源:大功率LED(i線)>400mW/cm2對(duì)準(zhǔn):可選的頂部對(duì)準(zhǔn)自動(dòng)分離:支持的迷你環(huán)境和氣候控制:可選的工作印章制作:支持的EVG開拓了這種非常規(guī)光刻技術(shù),擁有多年技術(shù),掌握了NIL,并已在不斷增長的基板尺寸上實(shí)現(xiàn)了批量化的生產(chǎn)。

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EVG®720自動(dòng)SmartNIL®UV納米壓印光刻系統(tǒng)自動(dòng)全視野的UV納米壓印溶液達(dá)150毫米,設(shè)有EVGs專有SmartNIL®技術(shù)EVG720系統(tǒng)利用EVG的創(chuàng)新SmartNIL技術(shù)和材料專業(yè)知識(shí),能夠大規(guī)模制造微米和納米級(jí)結(jié)構(gòu)。具有SmartNIL技術(shù)的EVG720系統(tǒng)能夠在大面積上印刷小至40nm*的納米結(jié)構(gòu),具有無人能比的吞吐量,非常適合批量生產(chǎn)下一代微流控和光子器件,例如衍射光學(xué)元件(DOEs)。*分辨率取決于過程和模板如果需要詳細(xì)的信息,請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。也可以訪問岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司的官網(wǎng),獲得更多信息。SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術(shù)。浙江納米壓印試用

在納米電子器件中,納米壓印可以用于制備納米線、納米點(diǎn)陣等結(jié)構(gòu),用于制備納米級(jí)的電子器件。浙江納米壓印試用

EV集團(tuán)和肖特?cái)y手合作,證明300-MM光刻/納米壓印技術(shù)在大體積增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)/混合現(xiàn)實(shí)玻璃制造中已就緒聯(lián)合工作將在EVG的NILPhotonics®能力中心開展,這是一個(gè)開放式的光刻/納米壓?。∟IL)技術(shù)創(chuàng)新孵化器,同時(shí)也是全球?yàn)橐豢杉暗?00-mm光刻/納米壓印技術(shù)線2019年8月28日,奧地利,圣弗洛里安――微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)、納米技術(shù)和半導(dǎo)體市場(chǎng)晶圓鍵合與光刻設(shè)備領(lǐng)仙供應(yīng)商EV集團(tuán)(EVG)金日宣布,與特種玻璃和微晶玻璃領(lǐng)域的世界領(lǐng)仙技術(shù)集團(tuán)肖特?cái)y手合作,證明300-mm(12英寸)光刻/納米壓?。∟IL)技術(shù)在下一代增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)/混合現(xiàn)實(shí)(AR/MR)頭戴顯示設(shè)備的波導(dǎo)/光導(dǎo)制造中使用的高折射率(HRI)玻璃晶圓的大體積圖案成形已就緒。此次合作涉及EVG的專有SmartNIL®工藝和SCHOTTRealView?高折射率玻璃晶圓,將在EVG位于奧地利總部的NILPhotonics®能力中心進(jìn)行。肖特將于9月4日至7日在深圳會(huì)展中心舉行的中國國際光電博覽會(huì)上展示一款采用EVGSmartNIL技術(shù)進(jìn)行圖案成形的300-mmSCHOTTRealView?玻璃晶圓。300-mm和200-mmSCHOTTRealView?玻璃基板,裝配在應(yīng)用SmartNIL®UV-NIL技術(shù)的EVG®HERCULES®。浙江納米壓印試用