退鎳洗槽劑庫存充足

來源: 發(fā)布時(shí)間:2022-05-26

蝕刻液原料:硫酸銨:一般選用工業(yè)品。甘油:一般選用工業(yè)品。水:自來水。配方:熱水12g,氟化銨15g,草酸8g,硫酸銨10g,甘油40g,硫酸鋇15g;氟化銨15g,草酸7g,硫酸銨8g,硫酸鈉14g,甘油35g,水10g;氫氟酸60(體積數(shù),下同),硫酸10,水30。配制方法:配制蝕刻液時(shí),將原料與60℃熱水混合,攪拌均勻即可。配置時(shí)不要使溶液濺到皮膚上,而且操作時(shí)應(yīng)戴上口罩。配制蝕刻液時(shí),按配方將氫氟酸和硫酸混合,然后將混合液倒入水中(不能將水倒入混合液),并不斷攪拌。剝掛加速劑BG-3006為無色透明酸性液體,25L/桶。退鎳洗槽劑庫存充足

化學(xué)鎳金的缸體材質(zhì):由于鎳缸和金缸操作溫度在80~90℃,所以缸體不但須耐高溫,而且須不易滲漏。所以一般使用316不銹鋼做鎳缸,缸壁盡量采用鏡面拋光。金缸一般使用耐熱PP或不銹鋼內(nèi)襯鐵弗龍。其它缸采用普通PP材質(zhì)即可。對于鎳缸,如果生產(chǎn)單雙面板,也可考慮使用耐熱PP材質(zhì)。但對于盲孔板,由于布線復(fù)雜,沉鎳金生產(chǎn)過程中,線路間有可能出現(xiàn)相互影響而易產(chǎn)生漏鍍,所以鎳缸操作比單﹑雙面板要高出5℃左右,甚至達(dá)到90℃以上。對采用PP材質(zhì)的鎳缸,不可避免產(chǎn)生大量的鎳沉積在缸底,給操作帶來很多問題。快速蝕刻液供應(yīng)鋁蝕刻液STM-AL100是一款專為蝕刻鋁目的去設(shè)計(jì)的化學(xué)品。

由于不同的制板所需的活性不同,為減輕化學(xué)鎳金的鎳缸控制的壓力(即增大鎳缸各參數(shù)的控制范圍),可以考慮采用不同的活化時(shí)間,例如正常生產(chǎn)Pd缸有一個(gè)時(shí)間,容易滲鍍的制板另設(shè)定活化時(shí)間。這樣一來,則可以組合成六個(gè)程序來進(jìn)行生產(chǎn)。需要留意的是,對于多程序生產(chǎn),應(yīng)當(dāng)遵循一個(gè)基本原則,就是所有程序飛巴的起始位置必須保持一致,否則連續(xù)生產(chǎn)中切換程序容易造成過多的麻煩。鎳缸的循環(huán)量一般設(shè)計(jì)在5~10turnover(每小時(shí)),布袋式過濾應(yīng)優(yōu)先選擇考慮。搖擺通常都是前后擺動設(shè)計(jì),但對于laser盲孔板,鎳缸和金缸設(shè)計(jì)為上下振動為佳。

側(cè)蝕嚴(yán)重影響印制導(dǎo)線的精度,嚴(yán)重側(cè)蝕將使制作精細(xì)導(dǎo)線成為不可能,當(dāng)側(cè)蝕和突沿降低時(shí),蝕刻系數(shù)就升高,高的蝕刻系數(shù)表示有保持細(xì)導(dǎo)線的能力,使蝕刻后的導(dǎo)線接近原圖尺寸。電鍍蝕刻抗蝕劑無論是錫-鉛合金,錫,錫-鎳合金或鎳,突沿過度都會造成導(dǎo)線短路。因?yàn)橥谎厝菀讛嗔严聛?,在?dǎo)線的兩點(diǎn)之間形成電的橋接。蝕刻液的種類:不同的蝕刻液化學(xué)組分不同,其蝕刻速率就不同,蝕刻系數(shù)也不同。例如:酸性氯化銅蝕刻液的蝕刻系數(shù)通常為3,堿性氯化銅蝕刻液的蝕刻系數(shù)可達(dá)到4。錫保護(hù)劑STM-668具有省錫,省電,省時(shí),省錫光劑等原材料成本的特點(diǎn)。

化學(xué)鎳金的鎳缸及其缸內(nèi)附件,包括加熱和打氣系統(tǒng),如果使用不銹鋼材質(zhì),則能夠通過正電保護(hù)壓制上鎳,不但使用鎳缸操作變得容易,而且在成本方面避免不必要的浪費(fèi)。沉鎳金生產(chǎn),往往不可能只有一兩種制板生產(chǎn)。由于每一種制板都有可能需要不同的活性,所以沉鎳金生產(chǎn)線,盡量有四個(gè)以上的程序段,來滿足不同的生產(chǎn)需求。前后處理設(shè)備:前處理,由于沉鎳金生產(chǎn)中“金面顏色不良”問題,通過調(diào)整系統(tǒng)活性以及加強(qiáng)微蝕速度等方式,雖然有時(shí)會湊效,但常常既費(fèi)時(shí)又費(fèi)力,而且這些措施很不安全,稍不注意就產(chǎn)生另一種報(bào)廢。蝕刻液原料:草酸:在蝕刻液中作還原劑使用,一般選用工業(yè)產(chǎn)品。昆山精細(xì)線路剝膜液

錫保護(hù)劑STM-668對所鍍錫面具有保護(hù)作用,其適合所有以錫面電鍍作為保護(hù)層來蝕刻的產(chǎn)品。退鎳洗槽劑庫存充足

鋁蝕刻劑的化學(xué)特性:蝕刻劑允許在制備和電路處理中發(fā)生合理的變化,而不嚴(yán)重影響蝕刻電路的質(zhì)量。對蝕刻劑的控制可以在普遍的溫度和成分范圍內(nèi)保持。在印刷電路工業(yè)中,化學(xué)蝕刻長期以來一直被公認(rèn)為生產(chǎn)金屬薄膜精確圖案的方法。蝕刻,結(jié)合目前的光刻技術(shù),提供亞微米線分辨率。盡管隨著圖案尺寸數(shù)量級接近晶粒尺寸,在電路圖案生產(chǎn)中有添加“提升”技術(shù)的趨勢,化學(xué)蝕刻仍然是圖案生產(chǎn)的重要方法。對于純鋁電路的蝕刻,有許多蝕刻劑配方可供選擇。退鎳洗槽劑庫存充足

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