松松云倉(cāng):對(duì)接WMS與ERP系統(tǒng),助力電商物流新篇章
松松云倉(cāng)物流代發(fā)貨服務(wù)
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EVG®610紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)具有紫外線納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),從碎片到蕞大達(dá)150毫米。該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并且可以選擇背面對(duì)準(zhǔn)。此外,該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻(NIL)。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具,以改變用戶需求,光刻和NIL之間的轉(zhuǎn)換時(shí)間瑾為幾分鐘。其先進(jìn)的多用戶概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到**級(jí)別的所有需求,因此使其成為大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用程序的理想選擇。納米壓印是一種利用納米技術(shù)進(jìn)行壓印的方法。甘肅納米壓印芯片堆疊應(yīng)用
EVG®7200LA特征:專(zhuān)有SmartNIL®技術(shù),提供了無(wú)人能比的印跡形大面積經(jīng)過(guò)驗(yàn)證的技術(shù),具有出色的復(fù)制保真度和均勻性多次使用的聚合物工作印模技術(shù)可延長(zhǎng)母版使用壽命并節(jié)省大量成本強(qiáng)大且精確可控的處理與所有市售的壓印材料兼容EVG®7200LA技術(shù)數(shù)據(jù):晶圓直徑(基板尺寸):直徑200毫米(蕞大Gen3)(550x650毫米)解析度:40nm-10μm(分辨率取決于模板和工藝)支持流程:SmartNIL®曝光源:大功率窄帶(>400mW/cm2)對(duì)準(zhǔn):可選的光學(xué)對(duì)準(zhǔn):≤±15μm自動(dòng)分離:支持的迷你環(huán)境和氣候控制:可選的工作印章制作:支持的河南納米壓印用于生物芯片EVG620 NT支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,以及背面對(duì)準(zhǔn)選項(xiàng)。
EVG®520HE熱壓印系統(tǒng)特色:經(jīng)通用生產(chǎn)驗(yàn)證的熱壓印系統(tǒng),可滿足ZUI高要求EVG520HE半自動(dòng)熱壓印系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于對(duì)熱塑性基材進(jìn)行高精度壓印。EVG的這種經(jīng)過(guò)生產(chǎn)驗(yàn)證的系統(tǒng)可以接受直徑ZUI大為200mm的基板,并且與標(biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造技術(shù)兼容。熱壓印系統(tǒng)配置有通用壓花腔室以及高真空和高接觸力功能,并管理適用于熱壓印的整個(gè)聚合物范圍。結(jié)合高縱橫比壓印和多種脫壓選項(xiàng),提供了許多用于高質(zhì)量圖案轉(zhuǎn)印和納米分辨率的工藝。如果需要詳細(xì)的信息,請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。
納米壓印光刻(NIL)技術(shù)EVG是納米壓印光刻(NIL)設(shè)備和集成工藝的市場(chǎng)lingxian供應(yīng)商。EVG從19年前的研究方法中率先掌握了NIL,并實(shí)現(xiàn)了從2英寸化合物半導(dǎo)體晶圓到300mm晶圓甚至大面積面板的各種尺寸基板的批量生產(chǎn)。NIL是產(chǎn)生納米尺度分辨率圖案的ZUI有前途且ZUI具成本效益的工藝,可用于生物MEMS,微流體,電子學(xué)以及ZUI近各種衍射光學(xué)元件的各種商業(yè)應(yīng)用。其中EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)型號(hào)包含:EVG®610EVG®620NTEVG®6200NTEVG®720EVG®7200EVG®7200LAHERCULES®NILEVG®770IQAligner®熱壓納米壓抑系統(tǒng)型號(hào)包含:EVG®510HEEVG®520HE詳細(xì)的參數(shù),請(qǐng)聯(lián)系我們岱美有限公司。EV Group的一系列高精度熱壓花系統(tǒng)是基于該公司市場(chǎng)領(lǐng)仙的晶圓鍵合技術(shù)。
UV-NIL/SmartNIL納米壓印系統(tǒng)EVGroup為基于紫外線的納米壓印光刻(UV-NIL)提供完整的產(chǎn)品線,包括不同的單步壓印系統(tǒng),大面積壓印機(jī)以及用于高效母版制作的分步重復(fù)系統(tǒng)。除了柔軟的UV-NIL,EVG還提供其專(zhuān)有的SmartNIL技術(shù)以及多種用途的聚合物印模技術(shù)。高效,強(qiáng)大的SmartNIL工藝可提供高圖案保真度,高度均勻的圖案層和蕞少的殘留層,并具有易于調(diào)整的晶圓尺寸和產(chǎn)量。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長(zhǎng)期承諾,即納米壓印是一種用于大規(guī)模生產(chǎn)微米和納米級(jí)結(jié)構(gòu)的高性能,低成本和具有批量生產(chǎn)能力的技術(shù)。這個(gè)系列的型號(hào)包括:EVG®610;EVG®620NT;EVG®6200NT;EVG®720;EVG®7200;EVG®7200LA;HERCULES®NIL;EVG®770;IQAligner®。EVG ? 6200 NT是SmartNIL UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。廣西納米壓印有誰(shuí)在用
納米壓印技術(shù)在納米科技領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景,可以推動(dòng)納米科技的發(fā)展和應(yīng)用。甘肅納米壓印芯片堆疊應(yīng)用
EVG®770分步重復(fù)納米壓印光刻系統(tǒng)分步重復(fù)納米壓印光刻技術(shù),可進(jìn)行有效的母版制作EVG770是用于步進(jìn)式納米壓印光刻的通用平臺(tái),可用于有效地進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。這種方法允許從蕞大50mmx50mm的小模具到蕞大300mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。將鉆石車(chē)削或直接寫(xiě)入方法相結(jié)合,分步重復(fù)刻印通常用于有效地制造晶圓級(jí)光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。EVG770的主要功能包括精確的對(duì)準(zhǔn)功能,完整的過(guò)程控制以及可滿足各種設(shè)備和應(yīng)用需求的靈活性。甘肅納米壓印芯片堆疊應(yīng)用