無氨氮鈀鈍化液生產(chǎn)基地

來源: 發(fā)布時間:2021-10-14

顯影液CY-7001使用高純度的無雜質(zhì)碳酸鉀,并同時加入特殊添加劑,加快了顯影速度,防止硬水水垢產(chǎn)生,并使槽液壽命延長達(dá)純堿的3~5倍,有效減少了廢水量。特點:槽液不易產(chǎn)生沉淀物;槽體內(nèi)可維持良好清潔度;PH計及自動添加控制槽液有效濃度易控制噴嘴不易堵塞;廢水量降低3倍以上;降低換槽頻率,有效提升生產(chǎn)效率;廢液易處理,操作簡便。安全及儲存:安全:操作時應(yīng)避免接觸皮膚和眼睛,如有接觸,應(yīng)立即用大量水沖洗,并送醫(yī)院就診。配制蝕刻液時,按配方將氫氟酸和硫酸混合,然后將混合液倒入水中(不能將水倒入混合液),并不斷攪拌。無氨氮鈀鈍化液生產(chǎn)基地

采用適當(dāng)?shù)腜CB藥水,通過污染物和溶劑之間的溶解反應(yīng)和皂化反應(yīng)提供能量,就可破壞它們之間的結(jié)合力,使污染物溶解在溶劑中,從而達(dá)到去除污染物的目的。另外,還可以采用特定的水去除水溶性助焊劑給組件留下的污染物。由于PCB印制電路板組件在焊接后被污染的程度不同、污染物的種類不同及不同產(chǎn)品對組件清洗后的潔凈度的要求不同,因此,可選用的清洗劑的種類也很多。那么,如何來選擇合適的清洗劑吧?下面smt加工廠技術(shù)人員就來介紹一些對清洗劑的基本要求。蝕刻因子改善劑經(jīng)銷商化學(xué)鍍工藝的形成與理論的完善也只有近20-30年的歷史。

PCB藥水溶解能力:在清洗SMA時,由于元器件與基板之間、元器件與元器件之間及元器件帶的I/O端子之間的距離非常微小,導(dǎo)致只有少量溶劑能接觸器件底下的污染物。因此,必須采用溶解能力高的溶劑,特別是要求在限定時間內(nèi)完成清洗時,如在聯(lián)機傳送帶清洗系統(tǒng)中要這樣考慮。但要注意到,溶解能力高的溶劑對被清洗零件的腐蝕性也大。多數(shù)焊膏和雙波峰焊中采用松香基焊劑,所以,在比較各種溶劑的溶解能力時,對松香基焊劑剩余物要特別重視。

PCB藥水密度高有利于減少其向大氣的散發(fā),從而節(jié)省了材料,降低了運行成本。沸點溫度:清洗溫度對清洗效率也有一定的影響,在多數(shù)情況下,溶劑溫度都控制在其沸點或接近沸點的溫度范圍。不同的溶劑混合物有不同的沸點,溶劑溫度的變化主要影響它的物理性能。蒸汽凝聚是清洗周期的重要環(huán)節(jié),溶劑沸點的提高允許獲得較高溫度的蒸氣,而較高的蒸氣溫度會導(dǎo)致更大量的蒸氣凝聚,可以在短時間內(nèi)去除大量污染物。這種關(guān)系在聯(lián)機傳送帶式波峰焊和清洗系統(tǒng)中重要,因為清洗劑傳送帶的速度必須與波峰焊傳送帶的速度相一致。避免過多污染物帶入槽液,影響微蝕速率及槽液壽命,同時不能接觸無機酸性或還原試劑。

活化缸,活化的作用是在銅面析出一層鈀,作為化學(xué)鎳金起始反應(yīng)之催化晶核。其形成過程則為Pd與Cu的化學(xué)置換反應(yīng)。從置換反應(yīng)來看,Pd與Cu的反應(yīng)速度會越來越慢,當(dāng)Pd與Cu完全覆蓋后(不考慮浸鍍的疏孔性),置換反應(yīng)即會停止,但實際生產(chǎn)中,人們不可能也不必要將銅面徹底活化(將銅面完全覆蓋)。從成本上講,這會使Pd的消耗大幅大升。更重要的是,這容易造成滲鍍等嚴(yán)重品質(zhì)問題。由于Pd的本身特性,活化缸存在著不穩(wěn)定這一因素,槽液中會產(chǎn)生細(xì)微的(5m濾芯根本不可能將其過濾)鈀顆粒,這些顆粒不但會沉積在PCB的Pad位上,而且會沉積在基材﹑綠油以及缸壁上。當(dāng)其積累到一定程度,就有可能造成PCB滲鍍以及缸壁發(fā)黑等現(xiàn)象。使用方法:使用刻蝕液時,把要蝕刻的玻璃洗凈、晾干,建議用電爐或紅外線燈將玻璃稍微加熱,以便于蝕刻。上海電路板清洗藥劑

剝掛加速劑BG-3006注意事項:操作時請帶手套、眼鏡等器具。無氨氮鈀鈍化液生產(chǎn)基地

臭氧破壞系數(shù):隨著社會的不斷進(jìn)步,人們的環(huán)保意識不斷增強,因此,在評價清洗劑能力的同時,也應(yīng)考慮到其臭氧層的破壞程度。較低限制值:較低限制值表示人體與溶劑接觸時所能承受的較高限量值,又稱為暴露極限。操作人員每天工作中不允許超出該溶劑的較低限制值。 清槽劑是專門針對顯影槽長期保養(yǎng)不當(dāng)造成的頑固性污漬及沉淀。清槽劑采用合成有機物能快速潔凈槽體,清潔后效果持久。清槽劑為腐蝕性化學(xué)品,不可以直接接觸,操作過程中佩戴防護(hù)用品,依照《化學(xué)品搬運規(guī)定》搬運。無氨氮鈀鈍化液生產(chǎn)基地

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