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ITO酸性蝕刻液用途可用于多層印制板的內(nèi)層電路圖形的制作或微波印制板陰板法直接蝕刻圖形的制作;而堿性蝕刻液一般適用于多層印制板的外層電路圖形的制作及純錫印制板的蝕刻。而總的來(lái)說,堿性與酸性蝕刻液用途要權(quán)衡對(duì)抗蝕層的破壞情況、蝕刻速度,溶液再生及銅的回收、環(huán)境保護(hù)及經(jīng)濟(jì)效果等各方面的影響因素選擇合適的試劑。ITO酸性蝕刻液的蝕刻速率易控制,蝕刻液在穩(wěn)定狀態(tài)下能達(dá)到高的蝕刻質(zhì)量;溶銅量大;蝕刻液容易再生與回收,從而減少污染;而堿性蝕刻液的蝕刻速率快,側(cè)蝕小;溶銅能力高,蝕刻容易控制;蝕刻液能連續(xù)再生循環(huán)使用,成本低。ITO顯影液濃度大,還易有結(jié)晶析出。網(wǎng)格發(fā)黑供求信息
ITO蝕刻液影響蝕刻速率的因素:堿性氯化銅蝕刻液。1、氯化銨含量的影響:通過蝕刻再生的化學(xué)反應(yīng)可以看出:[Cu(NH3)2]+的再生需要有過量的NH3和NH4Cl存在,如果溶液中缺乏NH4Cl,大量的[Cu(NH3)2]+得不到再生,蝕刻速率就會(huì)降低,以致失去蝕刻能力。所以,氯化銨的含量對(duì)蝕刻速率影響很大。隨著蝕刻的進(jìn)行,要不斷補(bǔ)加氯化銨。2、Cu2+離子濃度的影響:Cu2+是氧化劑,所以Cu2+的濃度是影響蝕刻速率的主要因素。研究銅濃度與蝕刻速率的關(guān)系表明:在0~82g/L時(shí),蝕刻時(shí)間長(zhǎng);在82~120g/L時(shí),蝕刻速率較低,且溶液控制困難;在135~165g/L時(shí),蝕刻速率高且溶液穩(wěn)定;在165~225g/L時(shí),溶液不穩(wěn)定,趨向于產(chǎn)生沉淀。蘇州無(wú)酸鈀網(wǎng)格黑化哪里有賣ITO蝕刻液是一種無(wú)色透明的液體。
ITO酸性蝕刻液的蝕刻速率易控制,蝕刻液在穩(wěn)定狀態(tài)下能達(dá)到高的蝕刻質(zhì)量;溶銅量大;蝕刻液容易再生與回收,從而減少污染;而堿性蝕刻液的蝕刻速率快(可達(dá)70μm/min以上),側(cè)蝕小;溶銅能力高,蝕刻容易控制;蝕刻液能連續(xù)再生循環(huán)使用,成本低。由以上特性決定,酸性蝕刻液用途可用于多層印制板的內(nèi)層電路圖形的制作或微波印制板陰板法直接蝕刻圖形的制作;而堿性蝕刻液一般適用于多層印制板的外層電路圖形的制作及純錫印制板的蝕刻。而總的來(lái)說,堿性與酸性蝕刻液用途要權(quán)衡對(duì)抗蝕層的破壞情況、蝕刻速度,溶液再生及銅的回收、環(huán)境保護(hù)及經(jīng)濟(jì)效果等各方面的影響因素選擇合適的試劑。
ITO顯影液的濃度是指顯影劑的相對(duì)含量,即NaOH、Na2SiO3總含量。市場(chǎng)上銷售的顯影液多是濃縮型液體,使用時(shí)需要按比例稀釋,顯影液的濃度多以顯影液的稀釋比來(lái)表示。在其他條件不變的前提下,顯影速度與顯影液濃度成正比關(guān)系,即顯影液濃度越大,顯影速度越快。當(dāng)溫度22℃,顯影時(shí)間為60秒時(shí),PD型顯影液濃度對(duì)PS版性能的影響。當(dāng)顯影液濃度過大時(shí),往往因顯影速度過快而使顯影操作不易控制;特別是它對(duì)圖文基礎(chǔ)的腐蝕性增強(qiáng),容易造成網(wǎng)點(diǎn)縮小、殘損、亮調(diào)小網(wǎng)點(diǎn)丟失及減薄涂層,從而造成耐印力下降等弊病;同時(shí)空白部位的氧化膜和封孔層也會(huì)受到腐蝕和破壞,版面出現(xiàn)發(fā)白現(xiàn)象,使印版的親水性和耐磨性變差。顯影液濃度大,還易有結(jié)晶析出。當(dāng)顯影液的濃度偏低時(shí),堿性弱,顯影速度慢,易出現(xiàn)顯影不凈、版面起臟、暗調(diào)小白點(diǎn)糊死等現(xiàn)象。ITO顯影液是一種化學(xué)用品的成分。
ITO蝕刻液影響蝕刻速率的因素:酸性氯化銅蝕刻液。Cl-含量的影響。溶液中氯離子濃度與蝕刻速率有著密切的關(guān)系,當(dāng)鹽酸濃度升高時(shí),蝕刻時(shí)間減少。在含有6N的HCl溶液中蝕刻時(shí)間至少是在水溶液里的1/3,并且能夠提高溶銅量。但是,鹽酸濃度不可超過6N,高于6N鹽酸的揮發(fā)量大且對(duì)設(shè)備腐蝕,并且隨著酸濃度的增加,氯化銅的溶解度迅速降低。添加Cl-可以提高蝕刻速率的原因是:在氯化銅溶液中發(fā)生銅的蝕刻反應(yīng)時(shí),生成的Cu2Cl2不易溶于水,則在銅的表面形成一層氯化亞銅膜,這種膜能夠阻止反應(yīng)的進(jìn)一步進(jìn)行。過量的Cl-能與Cu2Cl2絡(luò)合形成可溶性的絡(luò)離子(CuCl3)2-,從銅表面上溶解下來(lái),從而提高了蝕刻速率。ITO顯影劑在使用中,顯影劑與保護(hù)劑、促進(jìn)劑、阻止劑等配成顯影液使用。TIO蝕刻藥水價(jià)格
ITO蝕刻液是一種無(wú)色透明的液體,無(wú)刺激性氣味,有輕微腐蝕性。網(wǎng)格發(fā)黑供求信息
銅網(wǎng)格黑化藥液按質(zhì)量百分含量包括如下組分:亞硒酸0.05~5%,過硫酸鹽0~10%,穩(wěn)定劑0.01~1%,阻止劑0.01~1%,其余為水。金屬網(wǎng)格的黑化方法使用該黑化藥液對(duì)金屬網(wǎng)格進(jìn)行浸泡。銅網(wǎng)格黑化藥液緩解了目前涂布黑化層的物理黑化方式繁瑣、消影效果一般,容易影響金屬導(dǎo)電性能的缺陷。銅網(wǎng)格黑化藥液通過亞硒酸、穩(wěn)定劑和阻止劑的相互配合不但能夠起到很好的黑化效果,明顯降低金屬的反射率和亮度,目視不明顯,達(dá)到消影效果,而且黑化后線路完整、不影響其導(dǎo)電性能。網(wǎng)格發(fā)黑供求信息
蘇州圣天邁電子科技有限公司成立于2014-03-20,同時(shí)啟動(dòng)了以圣天邁為主的銅剝掛加速劑,蝕刻添加劑 ,剝鎳鈍化劑,印制電路板蝕刻液在線循環(huán)產(chǎn)業(yè)布局。業(yè)務(wù)涵蓋了銅剝掛加速劑,蝕刻添加劑 ,剝鎳鈍化劑,印制電路板蝕刻液在線循環(huán)等諸多領(lǐng)域,尤其銅剝掛加速劑,蝕刻添加劑 ,剝鎳鈍化劑,印制電路板蝕刻液在線循環(huán)中具有強(qiáng)勁優(yōu)勢(shì),完成了一大批具特色和時(shí)代特征的化工項(xiàng)目;同時(shí)在設(shè)計(jì)原創(chuàng)、科技創(chuàng)新、標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范等方面推動(dòng)行業(yè)發(fā)展。我們?cè)诎l(fā)展業(yè)務(wù)的同時(shí),進(jìn)一步推動(dòng)了品牌價(jià)值完善。隨著業(yè)務(wù)能力的增長(zhǎng),以及品牌價(jià)值的提升,也逐漸形成化工綜合一體化能力。圣天邁電子始終保持在化工領(lǐng)域優(yōu)先的前提下,不斷優(yōu)化業(yè)務(wù)結(jié)構(gòu)。在銅剝掛加速劑,蝕刻添加劑 ,剝鎳鈍化劑,印制電路板蝕刻液在線循環(huán)等領(lǐng)域承攬了一大批高精尖項(xiàng)目,積極為更多化工企業(yè)提供服務(wù)。