而使有光刻膠掩蔽的區(qū)域保存下來(lái),這樣便在基片表面得到所需要的成像圖形。蝕刻的基本要求是,圖形邊緣整齊,線(xiàn)條清晰,圖形變換差小,且對(duì)光刻膠膜及其掩蔽保護(hù)的表面無(wú)損傷和鉆蝕。蝕刻方式有濕法化學(xué)蝕刻和干法化學(xué)蝕刻。干法蝕刻所用氣體稱(chēng)蝕刻氣體,通常多為氟化物氣體,例如四氟化碳、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。干法蝕刻由于蝕刻方向性強(qiáng)、工藝控制精確、方便、無(wú)脫膠現(xiàn)象、無(wú)基片損傷和沾污,所以其應(yīng)用范圍日益***。1.特種氣體(Specialtygases):指那些在特定領(lǐng)域中應(yīng)用的,對(duì)氣體有特殊要求的純氣、高純氣或由高純單質(zhì)氣體配制的二元或多元混合氣。特種氣體門(mén)類(lèi)繁多,通??蓞^(qū)分為電子氣體、標(biāo)準(zhǔn)氣、**氣、醫(yī)用氣、焊接氣、**氣等,***用于電子、電力、石油化工、采礦、鋼鐵、有色金屬冶煉、熱力工程、生化、環(huán)境監(jiān)測(cè)、醫(yī)學(xué)研究及診斷、食品保鮮等領(lǐng)域。2、標(biāo)準(zhǔn)氣體(Standardgases):標(biāo)準(zhǔn)氣體屬于標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)。標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)是高度均勻的、良好穩(wěn)定和量值準(zhǔn)確的測(cè)定標(biāo)準(zhǔn),它們具有復(fù)現(xiàn)、保存和傳遞量值的基本作用,在物理、化學(xué)、生物與工程測(cè)量領(lǐng)域中用于校.d([準(zhǔn)測(cè)量?jī)x器和測(cè)量過(guò)程,評(píng)價(jià)測(cè)量方法的準(zhǔn)確度和檢測(cè)實(shí)驗(yàn)室的檢測(cè)能力,確定材料或產(chǎn)品的特性量值。重慶二氧化氮標(biāo)準(zhǔn)氣體源頭廠(chǎng)家推薦四川僑源氣體股份有限公司。四川乙烯標(biāo)準(zhǔn)氣體廠(chǎng)家有哪些
L:鋼瓶標(biāo)準(zhǔn)氣的濃度(ppm);Qs:鋼瓶標(biāo)準(zhǔn)氣的流量(L?min);Qa:壓縮空氣的流量(L?min;用此法配氣時(shí),在壓縮空氣的管路中應(yīng)安裝選擇性過(guò)濾器(凈化器),以除去空氣中影響配氣純度的雜質(zhì)。此外配氣出口的總流量應(yīng)略大于用氣口的流量,以保證所配氣體的濃度與純度。2.滲透管動(dòng)態(tài)配氣法(1)滲透管及滲透率的測(cè)定滲透管是動(dòng)態(tài)配氣法中的另一種氣源,其結(jié)構(gòu)見(jiàn)圖5。740)">在安培瓶1中裝入產(chǎn)生原料氣的液體(如汽油等),用不銹鋼加固環(huán)3將聚四氟乙烯塑料帽2和安培瓶1的頸部緊封牢固,塑料帽的上端是比較薄(壁厚在1毫米以下)的滲透面4。由于原料液體的揮發(fā)性,使安培瓶中有一定蒸氣壓,氣體分子在蒸氣壓力的作用下,通過(guò)滲透面向外滲透。單位時(shí)間的滲透量叫滲透率。在一定溫度下,滲透率的大小決定于滲透面的厚度和面積的大小等因素。滲透面越大,壁越薄,滲透率就越大。制作滲透管時(shí),就是通過(guò)改變滲透面積和厚度的辦法,以獲得不同滲透率的滲透管。任何滲透管在使用前都必須知道其滲透率。滲透率的測(cè)定方法是:在一干燥瓶的底部裝入粒狀氫氧化鈉,上面蓋一層尼龍紗網(wǎng),將滲透管放入干燥瓶中的紗網(wǎng)上。加蓋后,滲透出來(lái)的氣體(汽油蒸氣)就會(huì)被氫氧化鈉吸收。由于液體的蒸氣壓與溫度有關(guān)。四川乙烯標(biāo)準(zhǔn)氣體廠(chǎng)家有哪些福建標(biāo)準(zhǔn)氣體源頭廠(chǎng)家推薦四川僑源氣體股份有限公司。
主要包括砷烷、磷烷、三氟化磷、五氟化磷、三氟化砷、五氟化砷、三氯化硼和乙硼烷等。通常將摻雜源與運(yùn)載氣體(如氬氣和氮?dú)?在源柜中混合,混合后氣流連續(xù)流入擴(kuò)散爐內(nèi)環(huán)繞晶片四周,在晶片表面沉積上化合物摻雜劑,進(jìn)而與硅反應(yīng)生成摻雜金屬而徙動(dòng)進(jìn)入硅。7.熏蒸氣體(SterilizingGases):具有**作用的氣體稱(chēng)熏蒸氣體。常用的氣體品種有環(huán)氧乙烷、磷烷、溴甲烷、溴甲醛、環(huán)氧丙烷等。其**原理是利用烷化作用,使微生物**內(nèi)維持生命不可缺少的物質(zhì)惰化。**經(jīng)常使用的是以不同比例配制的環(huán)氧乙烷和二氧化碳的混合氣,根據(jù)用途不同,環(huán)氧乙烷的含量可以是10%、20%和30%等。也可采用環(huán)氧乙烷和氟利昂12的混合氣,環(huán)氧乙烷與氟利昂11和氟利昂12的混合氣等。**效果與各組分濃度、溫度、濕度、時(shí)間和壓力等因素有關(guān)。熏蒸氣體可以用于衛(wèi)生材料、醫(yī)療器具、化妝品原料、動(dòng)物飼料、糧食、紙鈔、香辣8.焊接保護(hù)氣體(WeldingGases):氣體保護(hù)焊由于具有焊接質(zhì)量好,效率高,易實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化等***而得以迅速發(fā)展。焊接保護(hù)氣體可以是單元?dú)怏w,也有二元、三元混合氣。采用焊接保護(hù)氣的目的在于提高焊縫質(zhì)量,減少焊縫加熱作用帶寬度,避免材質(zhì)氧化。單元?dú)怏w有氬氣、二氧化碳,二元混合氣有氬和氧。
CVD)的方法生長(zhǎng)一層或多層材料所用氣體稱(chēng)為外延氣體。硅外延氣體有4種,即硅烷、二氯二氫硅、三氯氫硅和四氯化硅,主要用于外延硅淀積,多晶硅淀積,淀積氧化硅膜,淀積氮化硅膜,太陽(yáng)電池和其他光感受器的非晶硅膜淀積。外延生長(zhǎng)是一種單晶材料淀積并生長(zhǎng)在襯底表面上的過(guò)程。此外延層的電阻率往往與襯底不同。5.蝕刻氣體(Etchinggases):蝕刻就是把基片上無(wú)光刻膠掩蔽的加工表面如氧化硅膜、金屬膜等蝕刻掉,而使有光刻膠掩蔽的區(qū)域保存下來(lái),這樣便在基片表面得到所需要的成像圖形。蝕刻的基本要求是,圖形邊緣整齊,線(xiàn)條清晰,圖形變換差小,且對(duì)光刻膠膜及其掩蔽保護(hù)的表面無(wú)損傷和鉆蝕。蝕刻方式有濕法化學(xué)蝕刻和干法化學(xué)蝕刻。干法蝕刻所用氣體稱(chēng)蝕刻氣體,通常多為氟化物氣體,例如四氟化碳、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。干法蝕刻由于蝕刻方向性強(qiáng)、工藝控制精確、方便、無(wú)脫膠現(xiàn)象、無(wú)基片損傷和沾污,所以其應(yīng)用范圍日益***。6.摻雜氣體(DopantGases):在半導(dǎo)體器件和集成電路制造中,將某種或某些雜質(zhì)摻入半導(dǎo)體材料內(nèi),以使材料具有所需要的導(dǎo)電類(lèi)型和一定的電阻率,用來(lái)制造PN結(jié)、電阻、埋層等。摻雜工藝所用的氣體摻雜源被稱(chēng)為摻雜氣體。成都標(biāo)準(zhǔn)氣體源頭廠(chǎng)家推薦四川僑源氣體股份有限公司。
在安培瓶1中裝入產(chǎn)生原料氣的液體(如汽油等),用不銹鋼加固環(huán)3將聚四氟乙烯塑料帽2和安培瓶1的頸部緊封牢固,塑料帽的上端是比較薄(壁厚在1毫米以下)的滲透面4。由于原料液體的揮發(fā)性,使安培瓶中有一定蒸氣壓,氣體分子在蒸氣壓力的作用下,通過(guò)滲透面向外滲透。單位時(shí)間的滲透量叫滲透率。在一定溫度下,滲透率的大小決定于滲透面的厚度和面積的大小等因素。滲透面越大,壁越薄,滲透率就越大。制作滲透管時(shí),就是通過(guò)改變滲透面積和厚度的辦法,以獲得不同滲透率的滲透管。任何滲透管在使用前都必須知道其滲透率。滲透率的測(cè)定方法是:在一干燥瓶的底部裝入粒狀氫氧化鈉,上面蓋一層尼龍紗網(wǎng),將滲透管放入干燥瓶中的紗網(wǎng)上。加蓋后,滲透出來(lái)的氣體(汽油蒸氣)就會(huì)被氫氧化鈉吸收。由于液體的蒸氣壓與溫度有關(guān),所以滲透率也隨溫度改變而改變。因此,在測(cè)定滲透率時(shí),必須將干燥瓶放入恒溫水浴中,溫度控制精度要達(dá)到±011℃。在恒溫放置過(guò)程中,每隔一定的時(shí)間(至少12小時(shí))用精密天平快速稱(chēng)量滲透管一次(必須在10分鐘內(nèi)稱(chēng)完),相鄰兩次的重量差就是滲透管在該時(shí)間段的滲透量。測(cè)出滲透量后,就可用下式求出該滲透管的滲透率。740)">式中:G:滲透率(Lg?min);△G:相鄰兩次稱(chēng)量的重量差(mg)。福建便攜式氣體源頭廠(chǎng)家推薦四川僑源氣體股份有限公司。四川乙烯標(biāo)準(zhǔn)氣體廠(chǎng)家有哪些
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