EVG770自動UV-NIL納米壓印步進機,用于制作主圖章。母模是晶圓大小的模板,里面完全裝有微透鏡模具,每個模具都采用分步重復的方法從一個透鏡模板中復制。EVG從金屬或玻璃制成的單鏡頭母版開始,提供了涵蓋了制作母模的所有基本工藝步驟的工藝流程,具有WUYULUNBI的鏡片位置精度和GAODUAN鏡片制造所需的高鏡片形狀可重復性晶圓級相機模塊。IQAligner自動UV-NIL納米壓印系統(tǒng),用于UV微透鏡成型。軟UV壓印光刻技術是用于制造聚合物微透鏡(WLO系統(tǒng)的關鍵要素)的高度并行技術。EVG從晶圓尺寸的主圖章復制的軟性圖章開始,提供了混合和整體式微透鏡成型工藝,可以輕松地將其應用于工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合。此外,EVGroup提供合格的微透鏡成型工藝,包括所有相關的材料專業(yè)知識。EVG40NT自動測量系統(tǒng)。支持非常高的分辨率和精度的垂直和橫向測量,計量對于驗證是否符合嚴格的工藝規(guī)范并立即優(yōu)化集成的工藝參數(shù)至關重要。在WLO制造中,EVG的度量衡解決方案可用于關鍵尺寸(CD)測量和透鏡疊層對準驗證,以及許多其他應用。EVG同樣為客戶提供量產(chǎn)型掩模對準系統(tǒng)。西藏光刻機實際價格
這使得可以在工業(yè)水平上開發(fā)新的設備或工藝,這不僅需要高度的靈活性,而且需要可控和可重復的處理。EVG在要求苛刻的應用中積累了多年的旋涂和噴涂經(jīng)驗,并將這些知識技能整合到EVG100系列中,可以利用我們的工藝知識為客戶提供支持。光刻膠處理設備有:EVG101光刻膠處理,EVG105光刻膠烘焙機,EVG120光刻膠處理自動化系統(tǒng);EVG150光刻膠處理自動化系統(tǒng)。如果您需要了解每個型號的特點和參數(shù),請聯(lián)系我們,我們會給您提供蕞新的資料?;蛘咴L問我們的官網(wǎng)獲取相關信息。西藏光刻機實際價格我們用持續(xù)的技術和市場領導地位證明了自己的實力,包括EVG在使用各種非標準抗蝕劑方面的無人可比的經(jīng)驗。
集成化光刻系統(tǒng)HERCULES光刻量產(chǎn)軌道系統(tǒng)通過完全集成的生產(chǎn)系統(tǒng)和結合了掩模對準和曝光以及集成的預處理和后處理功能的高度自動化,完善了EVG光刻產(chǎn)品系列。HERCULES光刻軌道系統(tǒng)基于模塊化平臺,將EVG已建立的光學掩模對準技術與集成的清潔,光刻膠涂層,烘烤和光刻膠顯影模塊相結合。這使HERCULES平臺變成了“一站式服務”,在這里將經(jīng)過預處理的晶圓裝載到工具中,然后返回完全結構化的經(jīng)過處理的晶圓。目前可以預定的型號為:HERCULES。請訪問岱美儀器的官網(wǎng)獲取更多的信息。
這使得可以在工業(yè)水平上開發(fā)新的設備或工藝,這不僅需要高度的靈活性,而且需要可控和可重復的處理。EVG在要求苛刻的應用中積累了多年的旋涂和噴涂經(jīng)驗,并將這些知識技能整合到EVG100系列中,可以利用我們的工藝知識為客戶提供支持。光刻膠處理設備有:EVG101光刻膠處理,EVG105光刻膠烘焙機,EVG120光刻膠處理自動化系統(tǒng);EVG150光刻膠處理自動化系統(tǒng)。如果您需要了解每個型號的特點和參數(shù),請聯(lián)系我們,我們會給您提供蕞新的資料?;蛘咴L問岱美儀器的官網(wǎng)獲取相關信息。岱美是EVG光刻機在中國的代理商,提供本地化的貼心服務。
EVG的掩模對準系統(tǒng)含有:EVG610;EVG620NT半自動/全自動掩模對準系統(tǒng);EVG6200NT半自動/全自動掩模對準系統(tǒng);IQAligner自動掩模對準系統(tǒng);IQAlignerNT自動掩模對準系統(tǒng);【EVG®610掩模對準系統(tǒng)】EVG®610是一個緊湊的和多用途R&d系統(tǒng),可以處理小基板片和高達200毫米的晶片。EVG®610技術數(shù)據(jù):EVG610支持多種標準光刻工藝,例如真空,硬,軟和接近曝光模式,并可選擇背面對準功能。此外,該系統(tǒng)還提供其他功能,包括鍵合對準和納米壓印光刻(NIL)。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具,可滿足用戶需求的變化,轉換時間不到幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應從初學者到**級別的所有需求,因此使其非常適合大學和研發(fā)應用。HERCULES可以配置成處理彎曲,翹曲,變薄或非SEMI標準形狀的晶片和基片。EVG620光刻機應用
EVG150光刻膠處理系統(tǒng)擁有:Ergo裝載盒式工作站/ SMIF裝載端口/ SECS / GEM / FOUP裝載端口。西藏光刻機實際價格
EVG®150特征:晶圓尺寸可達300毫米多達6個過程模塊可自定義的數(shù)量-多達20個烘烤/冷卻/汽化堆多達四個FOUP裝載端口或盒式磁帶裝載可用的模塊包括旋轉涂層,噴涂,NanoCoat?,顯影,烘烤/冷卻/蒸氣/上等EV集團專有的OmniSpray®超聲波霧化技術提供了****的處理結果,當涉及到極端地形的保形涂層可選的NanoSpray?模塊實現(xiàn)了300微米深圖案的保形涂層,長寬比*高為1:10,垂直側壁廣范的支持材料烘烤模塊溫度高達250°CMegasonic技術用于清潔,聲波化學處理和顯影,可提高處理效率并將處理時間從數(shù)小時縮短至數(shù)分鐘。西藏光刻機實際價格