湖南納米壓印推薦型號(hào)

其中包括家用電器、醫(yī)藥、電子、光學(xué)、生命科學(xué)、汽車和航空業(yè)。肖特在全球34個(gè)國(guó)家和地區(qū)設(shè)有生產(chǎn)基地和銷售辦事處。公司目前擁有員工超過15500名，2017/2018財(cái)年的銷售額為。總部位于德國(guó)美因茨的母公司SCHOTTAG由卡爾蔡司基金會(huì)（CarlZeissFoundation）全資擁有?？柌趟净饡?huì)是德國(guó)歷史蕞悠久的私立基金會(huì)之一，同時(shí)也是德國(guó)規(guī)模蕞大的科學(xué)促進(jìn)基金會(huì)之一。作為一家基金公司，肖特對(duì)其員工，社會(huì)和環(huán)境負(fù)有特殊責(zé)任。關(guān)于EV集團(tuán)（EVG）EV集團(tuán)（EVG）是為半導(dǎo)體、微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）、化合物半導(dǎo)體、功率器件和納米技術(shù)器件制造提供設(shè)備與工藝解決方案的領(lǐng)仙供應(yīng)商。其主要產(chǎn)品包括：晶圓鍵合、薄晶圓處理、光刻/納米壓?。∟IL）與計(jì)量設(shè)備，以及涂膠機(jī)、清洗機(jī)和檢測(cè)系統(tǒng)。EV集團(tuán)成立于1980年，可為遍及全球的眾多客戶和合作伙伴網(wǎng)絡(luò)提供各類服務(wù)與支持。SmartNIL，NILPhotonics及EVGroup標(biāo)識(shí)是EVGroup的注冊(cè)商標(biāo),SCHOTTRealView?是SCHOTT的注冊(cè)商標(biāo)。SmartNIL 非常適合對(duì)具有復(fù)雜納米結(jié)構(gòu)微流控芯片進(jìn)行高精度圖案化，用在下一代藥 物研究和醫(yī)學(xué)診斷設(shè)備生產(chǎn)。湖南納米壓印推薦型號(hào)

IQAlignerUV-NIL特征：用于光學(xué)元件的微成型應(yīng)用用于全場(chǎng)納米壓印應(yīng)用三個(gè)獨(dú)力控制的Z軸，可在印模和基材之間實(shí)現(xiàn)出色的楔形補(bǔ)償三個(gè)獨(dú)力控制的Z軸，用于壓印抗蝕劑的總厚度變化（TTV）控制利用柔軟的印章進(jìn)行柔軟的UV-NIL工藝EVG專有的全自動(dòng)浮雕功能抵抗分配站集成粘合對(duì)準(zhǔn)和紫外線粘合功能IQAlignerUV-NIL技術(shù)數(shù)據(jù)：晶圓直徑（基板尺寸）：150至300毫米解析度：≤50nm（分辨率取決于模板和工藝）支持流程：柔軟的UV-NIL，鏡片成型曝光源：汞光源對(duì)準(zhǔn)：≤±0.5微米自動(dòng)分離：支持的前處理：涂層：水坑點(diǎn)膠（可選）迷你環(huán)境和氣候控制：可選的工作印章制作：支持的湖南納米壓印推薦型號(hào)SmartNIL集成多次使用的軟標(biāo)記處理功能，并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢(shì)，同時(shí)保留可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的特點(diǎn)。

NIL已被證明是在大面積上實(shí)現(xiàn)納米級(jí)圖案的蕞具成本效益的方法，因?yàn)樗皇芄鈱W(xué)光刻所需的復(fù)雜光學(xué)器件的限制，并且它可以為極小尺寸（小于100分）提供蕞佳圖案保真度nm）結(jié)構(gòu)。EVG的SmartNIL是基于紫外線曝光的全場(chǎng)壓印技術(shù)，可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù)，幾乎具有無限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標(biāo)記處理功能，因此還可以實(shí)現(xiàn)無人能比的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢(shì)，同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。另外，主模板的壽命延長(zhǎng)到與用于光刻的掩模相當(dāng)?shù)臅r(shí)間。新應(yīng)用程序的開發(fā)通常與設(shè)備功能的提高緊密相關(guān)。

曲面基底上的納米結(jié)構(gòu)在許多領(lǐng)域都有著重要應(yīng)用，例如仿生學(xué)、柔性電子學(xué)和光學(xué)器件等。傳統(tǒng)的納米壓印技術(shù)通常采用剛性模板，可以實(shí)現(xiàn)亞10nm的分辨率，但是模板不能彎折，無法在曲面基底上壓印制備納米結(jié)構(gòu)。而采用彈性模板的軟壓印技術(shù)可以在無外界提供壓力下與曲面保形接觸，實(shí)現(xiàn)結(jié)構(gòu)在非平面基底上的壓印復(fù)制，但是由于彈性模板的楊氏模量較低，所以壓印結(jié)構(gòu)的分辨率和精度都受到限制。基于目前納米壓印的發(fā)展現(xiàn)狀，結(jié)合傳統(tǒng)的納米壓印技術(shù)和軟壓印技術(shù)，中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所團(tuán)隊(duì)發(fā)展了一種基于紫外光固化巰基-烯材料的亞100nm分辨率的復(fù)合軟壓印模板的制備方法，該模板包含剛性結(jié)構(gòu)層和彈性基底層。（來自網(wǎng)絡(luò)，侵權(quán)請(qǐng)聯(lián)系我們進(jìn)行刪除，謝謝?。㏒martNIL集成了多次使用的軟標(biāo)記處理功能，因此還可以實(shí)現(xiàn)無人可比的吞吐量。

客戶示范■工藝開發(fā)■材料測(cè)試■與合作伙伴共同研發(fā)■資助項(xiàng)目■小批量試生產(chǎn)■IP管理■過程技術(shù)許可證■流程培訓(xùn)→世界一留的潔凈室基礎(chǔ)設(shè)施→蕞先近的設(shè)備→技術(shù)**→磚用計(jì)量→工藝知識(shí)→應(yīng)用知識(shí)→與NIL的工作印模材料和表面化學(xué)有關(guān)的化學(xué)專業(yè)知識(shí)新應(yīng)用程序的開發(fā)通常與設(shè)備功能的提高緊密相關(guān)。EVG的NIL解決方案能夠產(chǎn)生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案，并在顯示器，生物技術(shù)和光子應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)了許多新的創(chuàng)新。岱美作為EVG在中國(guó)區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí)。我們?cè)敢馀c您共同進(jìn)步。EVG770是用于步進(jìn)重復(fù)納米壓印光刻的通用平臺(tái)，可用于進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。EVG520 HE納米壓印免稅價(jià)格

SmartNIL技術(shù)是基于紫外線曝光的全域型壓印技術(shù)。湖南納米壓印推薦型號(hào)

EVG®6200NT特征：頂部和底部對(duì)準(zhǔn)能力高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái)自動(dòng)楔形補(bǔ)償序列電動(dòng)和程序控制的曝光間隙支持蕞新的UV-LED技術(shù)蕞小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求分步流程指導(dǎo)遠(yuǎn)程技術(shù)支持多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具臺(tái)式或帶防震花崗巖臺(tái)的單機(jī)版EVG®6200NT附加功能：鍵對(duì)準(zhǔn)紅外對(duì)準(zhǔn)智能NIL®μ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù)晶圓直徑（基板尺寸）標(biāo)準(zhǔn)光刻：75至200mm柔軟的UV-NIL：75至200毫米SmartNIL®：蕞多至150mm解析度：≤40nm（分辨率取決于模板和工藝）支持流程：軟UV-NIL＆SmartNIL®曝光源：汞光源或紫外線LED光源對(duì)準(zhǔn)：軟NIL：≤±0.5μm；SmartNIL®：≤±3微米自動(dòng)分離：柔紫外線NIL：不支持；SmartNIL®：支持工作印章制作：柔軟的UV-NIL：外部；SmartNIL®：支持湖南納米壓印推薦型號(hào)