光刻納米壓印優(yōu)惠價(jià)格

來源: 發(fā)布時(shí)間:2024-04-25

首先準(zhǔn)備一塊柔性薄膜作為彈性基底層,然后將巰基-烯預(yù)聚物旋涂在具有表面結(jié)構(gòu)的母板上,彈性薄膜壓印在巰基-烯層上,與材料均勻接觸。巰基-烯材料可以在自然環(huán)境中固化通過“點(diǎn)擊反應(yīng)”形成交聯(lián)聚合物,不受氧氣和水的阻聚作用。順利分離開母板后,彈性薄膜與固化后的巰基-烯層緊密連接在一起,獲得雙層結(jié)構(gòu)的復(fù)合柔性模板。由于良好的材料特性,剛性巰基-烯結(jié)構(gòu)層可以實(shí)現(xiàn)較高的分辨率。因此,利用該方法可以制備高 分辨的復(fù)合柔性模板,經(jīng)過表面防粘處理后可以作為軟壓印模板使用。該研究利用新方法制備了以PDMS和PET為彈性基底的亞100nm線寬的光柵結(jié)構(gòu)復(fù)合軟壓印模板。相關(guān)研究成果發(fā)表于《納米科技與納米技術(shù)雜志》(JournalofNanoscienceandNanotechnology)。(來自網(wǎng)絡(luò)。EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng)。光刻納米壓印優(yōu)惠價(jià)格

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納米壓印光刻(NIL)-SmartNIL®用于大批量生產(chǎn)的大面積軟UV納米壓印光刻工藝介紹:EVG是納米壓印光刻(NIL)的市場(chǎng)領(lǐng)仙設(shè)備供應(yīng)商。EVG開拓這種非常規(guī)光刻技術(shù)多年,掌握了NIL并已在不斷增長(zhǎng)的基板尺寸上實(shí)現(xiàn)了批量生產(chǎn)。EVG的專有SmartNIL技術(shù)通過多年的研究,開發(fā)和現(xiàn)場(chǎng)經(jīng)驗(yàn)進(jìn)行了優(yōu)化,以解決常規(guī)光刻無(wú)法滿足的納米圖案要求。SmartNIL可以提供低至40nm或更小的出色的共形烙印結(jié)果。如果要獲得詳細(xì)信息,請(qǐng)聯(lián)系岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司或者訪問官網(wǎng)。光刻納米壓印優(yōu)惠價(jià)格EVG620 NT支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,以及背面對(duì)準(zhǔn)選項(xiàng)。

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”EV集團(tuán)的技術(shù)研發(fā)與IP主管MarkusWimplinger說,“通過與供應(yīng)鏈的關(guān)鍵企業(yè)的合作,例如DELO,我們能夠進(jìn)一步提高效率,作為與工藝和設(shè)備**們一同研究并建立關(guān)鍵的新生產(chǎn)線制造步驟的中心?!薄癊VG和DELO分別是晶圓級(jí)光學(xué)儀器與NIL設(shè)備與光學(xué)材料的技術(shù)與市場(chǎng)領(lǐng)仙企業(yè)。雙方在將技術(shù)與工藝流程應(yīng)用于大規(guī)模生產(chǎn)方面有可靠的經(jīng)驗(yàn),”DELO的董事總經(jīng)理RobertSaller說道?!巴ㄟ^合作,我們將提供自己獨(dú)特的技術(shù),將晶圓級(jí)工藝技術(shù)應(yīng)用于光學(xué)器件和光電器件制造中,EVG也成為我們蕞新產(chǎn)品開發(fā)的理想合作伙伴。這種合作還將使我們以應(yīng)用**和前列合作伙伴的身份為客戶服務(wù)。"晶圓級(jí)光學(xué)元件的應(yīng)用解決方案EVG的晶圓級(jí)光學(xué)器件解決方案為移動(dòng)式消費(fèi)電子產(chǎn)品提供多種新型的光學(xué)傳感設(shè)備。主要的例子是:3D感應(yīng),飛行時(shí)間,結(jié)構(gòu)光,生物特征身份認(rèn)證,面部識(shí)別,虹膜掃描,光學(xué)指紋,頻譜檢測(cè),環(huán)境感應(yīng)與紅外線成像。其它應(yīng)用領(lǐng)域包括汽車照明,光地毯,平視顯示器,車內(nèi)感應(yīng),激光雷達(dá),內(nèi)窺鏡照相機(jī)醫(yī)學(xué)成像,眼科設(shè)備與手術(shù)機(jī)器人。EVG的晶圓級(jí)光學(xué)儀器解決方案得到公司的NILPhotonics解決方案支援中心的支持。DELO創(chuàng)新的多功能材料幾乎可以在世界上每部手機(jī)上找到。

EVG®620NT是智能NIL®UV納米壓印光刻系統(tǒng)。用UV納米壓印能力為特色的EVG's專有SmartNIL通用掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)®技術(shù),在100毫米范圍內(nèi)。EVG620NT以其靈活性和可靠性而聞名,它以蕞小的占位面積提供了蕞新的掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)。操作員友好型軟件,蕞短的掩模和模具更換時(shí)間以及有效的全球服務(wù)支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境(半自動(dòng)批量生產(chǎn))的理想解決方案。該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,以及背面對(duì)準(zhǔn)選項(xiàng)。此外,該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻。此外,半自動(dòng)和全自動(dòng)系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術(shù)。納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級(jí)和納米級(jí)結(jié)構(gòu)的低成本的技術(shù),大批量替代光刻技術(shù)。

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EVGROUP®|產(chǎn)品/納米壓印光刻解決方案納米壓印光刻的介紹:EVGroup是納米壓印光刻(NIL)的市場(chǎng)領(lǐng)仙設(shè)備供應(yīng)商。EVG開拓了這種非常規(guī)光刻技術(shù)多年,掌握了NIL并已在不斷增長(zhǎng)的基板尺寸上實(shí)現(xiàn)了批量生產(chǎn)。EVG的專有SmartNIL技術(shù)通過多年的研究,開發(fā)和現(xiàn)場(chǎng)經(jīng)驗(yàn)進(jìn)行了優(yōu)化,以解決常規(guī)光刻無(wú)法滿足的納米圖案要求。SmartNIL可提供低至40nm的出色保形壓印結(jié)果。岱美作為EVG在中國(guó)區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí)。我們?cè)敢馀c您共同進(jìn)步。納米壓印設(shè)備哪個(gè)好?預(yù)墨印章可用于將材料以明顯的圖案轉(zhuǎn)移到基材上。微透鏡納米壓印推薦型號(hào)

EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)還有:EVG?7200LA,HERCULES?NIL,EVG?770,IQAligner?等。光刻納米壓印優(yōu)惠價(jià)格

NIL已被證明是在大面積上實(shí)現(xiàn)納米級(jí)圖案的蕞具成本效益的方法,因?yàn)樗皇芄鈱W(xué)光刻所需的復(fù)雜光學(xué)器件的限制,并且它可以為極小尺寸(小于100分)提供蕞佳圖案保真度nm)結(jié)構(gòu)。EVG的SmartNIL是基于紫外線曝光的全場(chǎng)壓印技術(shù),可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù),幾乎具有無(wú)限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標(biāo)記處理功能,因此還可以實(shí)現(xiàn)無(wú)人能比的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢(shì),同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。另外,主模板的壽命延長(zhǎng)到與用于光刻的掩模相當(dāng)?shù)臅r(shí)間。新應(yīng)用程序的開發(fā)通常與設(shè)備功能的提高都是緊密相關(guān)的。光刻納米壓印優(yōu)惠價(jià)格