松松云倉(cāng):對(duì)接WMS與ERP系統(tǒng),助力電商物流新篇章
松松云倉(cāng)物流代發(fā)貨服務(wù)
提升電商運(yùn)營(yíng)效率,松松云倉(cāng)物流服務(wù)為賣家保駕護(hù)航
優(yōu)化電商運(yùn)營(yíng):松松云倉(cāng)物流代發(fā)貨服務(wù)的優(yōu)勢(shì)
松松云倉(cāng):電商賣家的物流解決方案,助您提升效率與銷售
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光刻機(jī)處理結(jié)果:EVG在光刻技術(shù)方面的合心競(jìng)爭(zhēng)力在于其掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)(EVG6xx和IQAligner系列)以及高度集成的涂層平臺(tái)(EVG1xx系列)的高吞吐量的接近和接觸曝光能力。EVG所有光刻設(shè)備平臺(tái)均為300mm,可完全集成到HERCULES光刻軌道系統(tǒng)中,并輔以其用于從上到下側(cè)對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證的計(jì)量工具。高級(jí)封裝:在EVG®IQAligner®上結(jié)合NanoSpray?曝光的涂層TSV底部開口;在EVG的IQAlignerNT®上進(jìn)行撞擊40μm厚抗蝕劑;負(fù)側(cè)壁,帶有金屬兼容的剝離抗蝕劑涂層;金屬墊在結(jié)構(gòu)的中間;用于LIGA結(jié)構(gòu)的高縱橫比結(jié)構(gòu),用EVG®IQAligner®曝光200μm厚的抗蝕劑的結(jié)果;西門子星狀測(cè)試圖暴露在EVG®6200NT上,展示了膏分辨率的厚抗蝕劑圖形處理能力;MEMS結(jié)構(gòu)在20μm厚的抗蝕劑圖形化的結(jié)果。EVG光刻機(jī)設(shè)備,可完全集成到HERCULES光刻軌道系統(tǒng)中,并輔以其用于從上到下側(cè)對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證的計(jì)量工具。MEMS光刻機(jī)試用
HERCULES光刻軌道系統(tǒng)特征:生產(chǎn)平臺(tái)以蕞小的占地面積結(jié)合了EVG精密對(duì)準(zhǔn)和光刻膠處理系統(tǒng)的所有優(yōu)勢(shì);多功能平臺(tái)支持各種形狀,尺寸,高度變形的模具晶片甚至托盤的全自動(dòng)處理;高達(dá)52,000cP的涂層可制造高度高達(dá)300微米的超厚光刻膠特征;CoverSpinTM旋轉(zhuǎn)蓋可降低光刻膠消耗并優(yōu)化光刻膠涂層的均勻性;OmniSpray®涂覆用于高地形表面的優(yōu)化的涂層;納流®涂布,并通過(guò)結(jié)構(gòu)的保護(hù);自動(dòng)面膜處理和存儲(chǔ);光學(xué)邊緣曝光和/或溶劑清潔以去除邊緣顆粒;使用橋接工具系統(tǒng)對(duì)多種尺寸的晶圓進(jìn)行易碎,薄或翹曲的晶圓處理;返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統(tǒng);多用戶的概念(無(wú)限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問(wèn)權(quán)限,不同的用戶界面語(yǔ)言)。MEMS光刻機(jī)技術(shù)支持EVG同樣為客戶提供量產(chǎn)型掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)。
EVG®610曝光源:汞光源/紫外線LED光源;楔形補(bǔ)償全自動(dòng)軟件控制;晶圓直徑(基板尺寸)高達(dá)100/150/200毫米;曝光設(shè)定:真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式;曝光選項(xiàng):間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光;先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)功能:手動(dòng)對(duì)準(zhǔn)/原位對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證手動(dòng)交叉校正大間隙對(duì)準(zhǔn);EVG®610光刻機(jī)系統(tǒng)控制:操作系統(tǒng):Windows文件共享和備份解決方案/無(wú)限制程序和參數(shù)多語(yǔ)言用戶GUI和支持:CN,DE,F(xiàn)R,IT,JP,KR實(shí)時(shí)遠(yuǎn)程訪問(wèn),診斷和故障排除使用的納米壓印光刻技術(shù)是“無(wú)紫外線”。
對(duì)EVGWLO制造解決方案的需求在一定程度上是由對(duì)用于移動(dòng)消費(fèi)電子產(chǎn)品的新型光學(xué)傳感解決方案和設(shè)備的需求驅(qū)動(dòng)的。關(guān)鍵示例包括3D感測(cè)(對(duì)于獲得更真實(shí)的虛擬和增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)(VR/AR)用戶體驗(yàn)至關(guān)重要),生物特征感測(cè)(對(duì)于安全應(yīng)用而言越來(lái)越關(guān)鍵),環(huán)境感測(cè),紅外(IR)感測(cè)和相機(jī)陣列。其他應(yīng)用包括智能手機(jī)中用于高級(jí)深度感應(yīng)以改善相機(jī)自動(dòng)對(duì)焦性能的其他光學(xué)傳感器以及微型顯示器。EVGroup企業(yè)技術(shù)開發(fā)兼IP總監(jiān)MarkusWimplinger表示:“毫無(wú)疑問(wèn),晶圓級(jí)光學(xué)和3D傳感技術(shù)正在出現(xiàn)高度可持續(xù)的趨勢(shì)。“由于在我們公司總部的NILPhotonics能力中心支持的大量正在進(jìn)行的客戶項(xiàng)目,我們預(yù)計(jì)在不久的將來(lái)將更GUANGFAN地使用該技術(shù)。”如果需要光刻機(jī)(掩膜曝光機(jī)),請(qǐng)聯(lián)系我們。
EVG®120--光刻膠自動(dòng)化處理系統(tǒng)EVG
®120是用于當(dāng)潔凈室空間有限,需要生產(chǎn)一種緊湊的,節(jié)省成本光刻膠處理系統(tǒng)。
新型EVG120通用和全自動(dòng)光刻膠處理工具能夠處理各種形狀和尺寸達(dá)200mm/8“的基板。新一代EVG120采用全新的超緊湊設(shè)計(jì),并帶有新開發(fā)的化學(xué)柜,可用于外部存儲(chǔ)化學(xué)品,同時(shí)提供更高的通量能力,針對(duì)大批量客戶需求進(jìn)行了優(yōu)化,并準(zhǔn)備在大批量生產(chǎn)(HVM)中使用EVG120為用戶提供了一套詳盡的好處,這是其他任何工具所無(wú)法比擬的,并保證了ZUI高的質(zhì)量各個(gè)應(yīng)用領(lǐng)域的標(biāo)準(zhǔn),擁有成本卻非常低。 HERCULES 全電動(dòng)頂部和底部分離場(chǎng)顯微鏡支持實(shí)時(shí)、大間隙、晶圓平面或紅外對(duì)準(zhǔn),在可編程位置自動(dòng)定位。微流體光刻機(jī)免稅價(jià)格
EVG已經(jīng)與研究機(jī)構(gòu)合作超過(guò)35年,能夠深入了解他們的獨(dú)特需求。MEMS光刻機(jī)試用
EVG101光刻膠處理系統(tǒng)的旋轉(zhuǎn)涂層模塊-旋轉(zhuǎn)器參數(shù)轉(zhuǎn)速:蕞高10krpm加速速度:蕞高10krpm噴涂模塊-噴涂產(chǎn)生超聲波霧化噴嘴/高粘度噴嘴;開發(fā)模塊-分配選項(xiàng)水坑顯影/噴霧顯影EVG101光刻膠處理系統(tǒng);附加模塊的選項(xiàng):預(yù)對(duì)準(zhǔn):機(jī)械系統(tǒng)控制參數(shù):操作系統(tǒng):Windows文件共享和備份解決方案/無(wú)限制程序和參數(shù)/離線程序編輯器靈活的流程定義/易于拖放的程序編程并行處理多個(gè)作業(yè)/實(shí)時(shí)遠(yuǎn)程訪問(wèn),診斷和故障排除多語(yǔ)言用戶GUI和支持:CN,DE,F(xiàn)R,IT,JP,KRMEMS光刻機(jī)試用
岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司正式組建于2002-02-07,將通過(guò)提供以半導(dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測(cè)量設(shè)備,光刻機(jī) 鍵合機(jī),膜厚測(cè)量?jī)x等服務(wù)于于一體的組合服務(wù)。岱美中國(guó)經(jīng)營(yíng)業(yè)績(jī)遍布國(guó)內(nèi)諸多地區(qū)地區(qū),業(yè)務(wù)布局涵蓋半導(dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測(cè)量設(shè)備,光刻機(jī) 鍵合機(jī),膜厚測(cè)量?jī)x等板塊。隨著我們的業(yè)務(wù)不斷擴(kuò)展,從半導(dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測(cè)量設(shè)備,光刻機(jī) 鍵合機(jī),膜厚測(cè)量?jī)x等到眾多其他領(lǐng)域,已經(jīng)逐步成長(zhǎng)為一個(gè)獨(dú)特,且具有活力與創(chuàng)新的企業(yè)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司業(yè)務(wù)范圍涉及磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測(cè)試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國(guó)際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢服務(wù) 等多個(gè)環(huán)節(jié),在國(guó)內(nèi)儀器儀表行業(yè)擁有綜合優(yōu)勢(shì)。在半導(dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測(cè)量設(shè)備,光刻機(jī) 鍵合機(jī),膜厚測(cè)量?jī)x等領(lǐng)域完成了眾多可靠項(xiàng)目。