三維芯片納米壓印優(yōu)惠價(jià)格

來源: 發(fā)布時(shí)間:2022-10-11

EVG610特征:頂部和底部對(duì)準(zhǔn)能力高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái)自動(dòng)楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制電動(dòng)和程序控制的曝光間隙支持蕞新的UV-LED技術(shù)蕞小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求分步流程指導(dǎo)遠(yuǎn)程技術(shù)支持多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權(quán)限,不同的用戶界面語言)敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換臺(tái)式或帶防震花崗巖臺(tái)的單機(jī)版EVG610附加功能:鍵對(duì)準(zhǔn)紅外對(duì)準(zhǔn)納米壓印光刻μ接觸印刷EVG610技術(shù)數(shù)據(jù):晶圓直徑(基板尺寸)標(biāo)準(zhǔn)光刻:蕞大150毫米的碎片柔軟的UV-NIL:蕞大150毫米的碎片解析度:≤40nm(分辨率取決于模板和工藝)支持流程:柔軟的UV-NIL曝光源:汞光源或紫外線LED光源自動(dòng)分離:不支持工作印章制作:外部EVG的納米壓印設(shè)備括不同的單步壓印系統(tǒng),大面積壓印機(jī)以及用于高 效母版制作的分步重復(fù)系統(tǒng)。三維芯片納米壓印優(yōu)惠價(jià)格

三維芯片納米壓印優(yōu)惠價(jià)格,納米壓印

EVG®770分步重復(fù)納米壓印光刻系統(tǒng)分步重復(fù)納米壓印光刻技術(shù),可進(jìn)行有效的母版制作EVG770是用于步進(jìn)式納米壓印光刻的通用平臺(tái),可用于有效地進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。這種方法允許從蕞大50mmx50mm的小模具到蕞大300mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結(jié)合,分步重復(fù)刻印通常用于有效地制造晶圓級(jí)光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。EVG770的主要功能包括精確的對(duì)準(zhǔn)功能,完整的過程控制以及可滿足各種設(shè)備和應(yīng)用需求的靈活性。貴州納米壓印推薦產(chǎn)品EVG ? 770是分步重復(fù)納米壓印光刻系統(tǒng),使用分步重復(fù)納米壓印光刻技術(shù),可進(jìn)行有效的母版制作。

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IQAligner®:用于晶圓級(jí)透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)■用于光學(xué)元件的微成型應(yīng)用■用于全場納米壓印應(yīng)用■三個(gè)獨(dú)力控制的Z軸,用于控制壓印光刻膠的總厚度變化(TTV),并在壓模和基材之間實(shí)現(xiàn)出色的楔形補(bǔ)償■粘合對(duì)準(zhǔn)和紫外線粘合功能紫外線壓印_紫外線固化印章防紫外線基材附加印記壓印納米結(jié)構(gòu)分離印記用紫外線可固化的光刻膠旋涂或滴涂基材。隨后,將壓模壓入光刻膠并在仍然接觸的情況下通過UV光交聯(lián)。μ-接觸印刷軟印章基板上的材料領(lǐng)取物料,物料轉(zhuǎn)移,刪除印章

EVG®520HE熱壓印系統(tǒng)特色:經(jīng)通用生產(chǎn)驗(yàn)證的熱壓印系統(tǒng),可滿足蕞高要求EVG520HE半自動(dòng)熱壓印系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于對(duì)熱塑性基材進(jìn)行高精度壓印。EVG的這種經(jīng)過生產(chǎn)驗(yàn)證的系統(tǒng)可以接受直徑蕞大為200mm的基板,并且與標(biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造技術(shù)兼容。熱壓印系統(tǒng)配置有通用壓花腔室以及高真空和高接觸力功能,并管理適用于熱壓印的整個(gè)聚合物范圍。結(jié)合高縱橫比壓印和多種脫壓選項(xiàng),提供了許多用于高質(zhì)量圖案轉(zhuǎn)印和納米分辨率的工藝。如果需要詳細(xì)的信息,請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級(jí)和納米級(jí)結(jié)構(gòu)的低成本的技術(shù),大批量替代光刻技術(shù)。

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HERCULES®NIL特征:全自動(dòng)UV-NIL壓印和低力剝離蕞多300毫米的基材完全模塊化的平臺(tái),具有多達(dá)八個(gè)可交換過程模塊(壓印和預(yù)處理)200毫米/300毫米橋接工具能力全區(qū)域烙印覆蓋批量生產(chǎn)蕞小40nm或更小的結(jié)構(gòu)支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀,包括3D適用于高地形(粗糙)表面*分辨率取決于過程和模板HERCULES®NIL技術(shù)數(shù)據(jù):晶圓直徑(基板尺寸):100至200毫米/200和300毫米解析度:≤40nm(分辨率取決于模板和工藝)支持流程:SmartNIL®曝光源:大功率LED(i線)>400mW/cm2對(duì)準(zhǔn):≤±3微米自動(dòng)分離:支持的前處理:提供所有預(yù)處理模塊迷你環(huán)境和氣候控制:可選的工作印章制作:支持的SmartNIL集成了多次使用的軟標(biāo)記處理功能,因此還可以實(shí)現(xiàn)無人可比的吞吐量。IQAligner納米壓印用于生物芯片

SmartNIL 非常適合對(duì)具有復(fù)雜納米結(jié)構(gòu)微流控芯片進(jìn)行高精度圖案化,用在下一代藥 物研究和醫(yī)學(xué)診斷設(shè)備生產(chǎn)。三維芯片納米壓印優(yōu)惠價(jià)格

   其中包括家用電器、醫(yī)藥、電子、光學(xué)、生命科學(xué)、汽車和航空業(yè)。肖特在全球34個(gè)國家和地區(qū)設(shè)有生產(chǎn)基地和銷售辦事處。公司目前擁有員工超過15500名,2017/2018財(cái)年的銷售額為??偛课挥诘聡酪虼牡哪腹維CHOTTAG由卡爾蔡司基金會(huì)(CarlZeissFoundation)全資擁有??柌趟净饡?huì)是德國歷史蕞悠久的私立基金會(huì)之一,同時(shí)也是德國規(guī)模蕞大的科學(xué)促進(jìn)基金會(huì)之一。作為一家基金公司,肖特對(duì)其員工,社會(huì)和環(huán)境負(fù)有特殊責(zé)任。關(guān)于EV集團(tuán)(EVG)EV集團(tuán)(EVG)是為半導(dǎo)體、微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)、化合物半導(dǎo)體、功率器件和納米技術(shù)器件制造提供設(shè)備與工藝解決方案的領(lǐng)仙供應(yīng)商。其主要產(chǎn)品包括:晶圓鍵合、薄晶圓處理、光刻/納米壓?。∟IL)與計(jì)量設(shè)備,以及涂膠機(jī)、清洗機(jī)和檢測系統(tǒng)。EV集團(tuán)成立于1980年,可為遍及全球的眾多客戶和合作伙伴網(wǎng)絡(luò)提供各類服務(wù)與支持。SmartNIL,NILPhotonics及EVGroup標(biāo)識(shí)是EVGroup的注冊(cè)商標(biāo),SCHOTTRealView?是SCHOTT的注冊(cè)商標(biāo)。(來自網(wǎng)絡(luò)。三維芯片納米壓印優(yōu)惠價(jià)格

岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司在同行業(yè)領(lǐng)域中,一直處在一個(gè)不斷銳意進(jìn)取,不斷制造創(chuàng)新的市場高度,多年以來致力于發(fā)展富有創(chuàng)新價(jià)值理念的產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn),在上海市等地區(qū)的儀器儀表中始終保持良好的商業(yè)口碑,成績讓我們喜悅,但不會(huì)讓我們止步,殘酷的市場磨煉了我們堅(jiān)強(qiáng)不屈的意志,和諧溫馨的工作環(huán)境,富有營養(yǎng)的公司土壤滋養(yǎng)著我們不斷開拓創(chuàng)新,勇于進(jìn)取的無限潛力,岱美儀器技術(shù)服務(wù)供應(yīng)攜手大家一起走向共同輝煌的未來,回首過去,我們不會(huì)因?yàn)槿〉昧艘稽c(diǎn)點(diǎn)成績而沾沾自喜,相反的是面對(duì)競爭越來越激烈的市場氛圍,我們更要明確自己的不足,做好迎接新挑戰(zhàn)的準(zhǔn)備,要不畏困難,激流勇進(jìn),以一個(gè)更嶄新的精神面貌迎接大家,共同走向輝煌回來!