提供高精度光學(xué)光刻旋轉(zhuǎn)平臺，即氣浮轉(zhuǎn)臺，一般采用公司標(biāo)準(zhǔn)系列氣浮轉(zhuǎn)臺，詳見本網(wǎng)站氣浮轉(zhuǎn)臺頁面，或以此為基礎(chǔ)改制。光學(xué)行業(yè)已經(jīng)應(yīng)用的場合有：偏測儀、定心車、大鏡面研拋加工（機(jī)器人配合）、大鏡面掃描測量；芯片半導(dǎo)體行業(yè)應(yīng)用有：芯片測量、硅片拋光、硅片減薄、光刻、LDI光刻、手機(jī)生產(chǎn)鏈檢測。
提供高精度光學(xué)光刻氣浮位移平臺：一般采用定制形式，光學(xué)行業(yè)已經(jīng)應(yīng)用的場合有：偏測儀Z軸臺、定心車、CCD拼接儀、大鏡面研拋加工、大鏡面測量；芯片半導(dǎo)體行業(yè)應(yīng)用有：芯片制程中的測量和檢測、LED制程中的檢測、光刻、LDI光刻、手機(jī)生產(chǎn)鏈檢測。
氣浮位移平臺產(chǎn)品現(xiàn)狀：目前有幾種基本形式。一種是采用氣足組合的，類似三坐標(biāo)測量機(jī)位移平臺結(jié)構(gòu)。優(yōu)點是成本低、搭建相對容易；缺點是剛度低只適合低速低頻、結(jié)構(gòu)復(fù)雜零件多、調(diào)整部件太多不穩(wěn)定、精度相對較低。另一種是以美國areotech為代表的半導(dǎo)體行業(yè)專用氣浮位移平臺，優(yōu)點是采用一體化的設(shè)計，精度高、可高速高頻；缺點是對環(huán)境要求太高，尤其是對溫度環(huán)境要求太高；其實對環(huán)境的過分要求，也會影響實際可以達(dá)到的精度，這類平臺的精度指標(biāo)都指的是在幾乎理想環(huán)境下的指標(biāo)。
天津中精微/北京航星聯(lián)合的氣浮位移平臺，克服了目前各種結(jié)構(gòu)形式的缺點，是目前國內(nèi)國外高精度氣浮位移平臺首選：
1，在設(shè)計上消除了熱膨脹系數(shù)的影響，溫度適用性非常強(qiáng)
2，產(chǎn)品采用整體設(shè)計，精度高沒有調(diào)整環(huán)節(jié)。
3，充分發(fā)掘潛力，最大程度提高氣膜面積，承載往往超出數(shù)倍，剛度極好。適合高速高頻運(yùn)動。
提供高精度光學(xué)光刻氣浮位移平臺快速定制服務(wù)
以下高精度光學(xué)光刻氣浮位移平臺可以直接采用
