【光譜分光不良的補救(補色)之其他情況】:分光不良分為二種情況:一是全部膜系鍍制完成后,經(jīng)測試分光不良,此類不良主要按六節(jié)所述方法處理,一般減反膜難以補救。但對于高反膜、帶通濾光膜等可以通過加層的方法補救。二是鍍制中途中斷(包括發(fā)現(xiàn)錯誤中斷)造成的分光不良,一般都可以通過后續(xù)努力補救。后續(xù)方法正確,補救成功率比較高。中斷的原因形式之其他情況:對于用錯程序,錯誤操作(預熔未關(guān)閉擋板等)人為中斷需要補救的;以及反光膜、濾光膜鍍后需要補救的情況處理方案:模擬:將實測分光數(shù)據(jù)輸入計算機膜系設(shè)計程序的優(yōu)化目標值。通過計算機模擬(一般是Zui后一層的膜厚確認),找到與實現(xiàn)測試值結(jié)果相應(yīng)的膜系數(shù)據(jù)。PVD真空鍍膜設(shè)備公司。福建微型真空鍍膜設(shè)備
【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之灰點臟】: 現(xiàn)象:鏡片膜層表面或內(nèi)部有一些電子(不是膜料點),有些可擦除,有些不能擦除。并且會有點狀脫膜產(chǎn)生。 原因: 1. 真空室臟 2. 鏡圈或碟片臟 3. 鏡片上傘時就有灰塵點,上傘時沒有檢查挑選。 4. 鍍制完成后的環(huán)境污染是膜外灰點的主要成因,特別是當鏡片熱的時候,更容易吸附灰塵,而且難以擦除。 改善思路:杜絕灰塵源 1. 工作環(huán)境改造成潔凈車間,嚴格按潔凈車間規(guī)范實施。 2. 盡可能做好環(huán)境衛(wèi)生。盡量利用潔凈工作臺。 3. 真空室周期打掃,保持清潔。 天津真空鍍膜設(shè)備哪種好國產(chǎn)真空鍍膜設(shè)備廠商推薦。
【真空鍍膜設(shè)備】主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。需要鍍膜的被成為基片,鍍的材料被成為靶材?;c靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來,并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長)形成薄膜。對于濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,并且終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過蒸發(fā)鍍膜設(shè)備+所鍍產(chǎn)品圖蒸發(fā)鍍膜設(shè)備+所鍍產(chǎn)品圖程,終形成薄膜。
【濺射的四要素】:①靶材物質(zhì),②電磁場,③底物,④一整套完整配備的鍍膜設(shè)備 【濺射收益】:1)離子每一次撞擊靶材時,靶材所釋放出的靶材原子;2)影響濺射收益的因素: ①等離子體中離子動能, ②入射離子的入射角度; 3)Zui大濺射收益的決定因素:①入射角度在45°&50°左右,②取決于靶材物質(zhì); 4)入射角度的影響因素 ①由電場決定,②靶材表面于入射源的相對角度。 【濺射率】: 定義:每單位時間內(nèi)靶材物質(zhì)所釋放出的原子個數(shù)。 濺射率的影響因素:①離子動能(取決于電源電壓和氣體壓力)②等離子密度(取決于氣體壓力和電流)。統(tǒng)計學公式:Rs(統(tǒng)計學)=d/t。 注:濺射原子溢出角度大部分在0~10度之間,因此在腔室內(nèi)所有區(qū)域都可能被鍍上一層膜,久之會產(chǎn)生污染。所以真空濺射腔室內(nèi)必須進行定期清潔。真空鍍膜機詳細鍍膜方法。
【真空鍍膜機概述】: 真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空電阻加熱蒸發(fā),電子搶加熱蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積,離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。 真空鍍膜機構(gòu)造的五大系統(tǒng):排氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、蒸鍍系統(tǒng)、監(jiān)控系統(tǒng)、輔助系統(tǒng)。 真空鍍膜三要素:真空度、抽氣時間、溫度;任何鍍膜工藝都需要為這三個要素設(shè)定目標值;因此,只有當三個條件同時滿足時,自動化程序才會自動運行。 真空鍍膜機需要做定期定期保養(yǎng),目的在于:讓鍍膜機能長時間地正常運轉(zhuǎn);降低故障時間,避免影響產(chǎn)能,減少損失;提高機器精度,穩(wěn)定品質(zhì);加快抽氣速度,提升機器利用率等。真空鍍膜機參數(shù)怎么調(diào)?安徽真空鍍膜設(shè)備應(yīng)用
真空鍍膜設(shè)備真空四個階段。福建微型真空鍍膜設(shè)備
【光學鍍膜的目的】: &反射率的提高或透射率的降低 &反射率的降低或透射率的提高 &分光作用:中性分光、變色分光、偏極光分光 &光譜帶通、帶止及長波通或短波通之濾光作用 &相位改變 &液晶顯示功能之影顯 &色光顯示、色光反射、偽chao及有價證券之防止 &光波的引導、光開關(guān)及集體光路 a. 在膜層中,波的干涉結(jié)果,如R%, T%都是與膜質(zhì)本身和兩邊界邊的折射率率有關(guān)系,相位變化也是如此。 b. 由于干涉作用造成的反射率有時升高,有時反而降低,都要視磨蹭的折射率高于或低于基板折射率而定。若Nf>Ns,則反射率會提高(Ns為基底),若Nf福建微型真空鍍膜設(shè)備