貴州真空鍍膜設備采購計劃

來源: 發(fā)布時間:2023-11-24

【真空鍍膜產品常見不良分析及改善對策之膜外色斑】: 色斑(也稱膜色亞克、燒蝕)是指鏡片上的膜色局部變異。有膜內色斑和膜外色斑二種。 膜外色斑改善對策: 1. 對減反膜,設計條件許可時,外層加以SiO2層,10nm左右即可(一般的外層膜是MgF2)。使外層趨于光滑、致密、減少有害物質的侵蝕。 2. 適當降低蒸鍍速率(在一定范圍內),提高膜層光滑度,減少吸附。 3. 鏡片在出罩后,待冷卻后再下傘和擦拭。 4. 鏡片在出罩后,放置在潔凈干燥的場合待冷卻。減少污染可能。 5. 用碳酸鈣粉,輕擦去除外層附著物。 6. 改善工作環(huán)境的濕度、溫差 7. 改善充氣口附近的環(huán)境,使充入的大氣干燥、潔凈。 8. 工作人員的個人衛(wèi)生改善 9. 檢討真空室返油狀況,防止返油。 10. 適當降低基片溫度。 11. 改善膜系,取消太薄的膜層,根據硝材特性,選擇合適的膜層材料。真空鍍膜機詳細鍍膜方法。貴州真空鍍膜設備采購計劃

【真空鍍膜產品常見不良分析及改善對策之膜內白霧】: 白霧形成在膜內,無法用擦拭方法去除。 可能成因: 1. 基片臟 2. 鏡片表面腐蝕污染 3. 膜料與膜料之間、膜料與基片之間的匹配 4. 氧化物充氧不夠 5. 第yi層氧化鋯膜料,可能對某些基片產生白暈現象 6. 基片進罩前(洗凈后)受潮氣污染 7. 洗凈或擦拭不良,洗凈痕跡,擦拭痕跡 8. 真空室臟、水汽過重 9. 環(huán)境濕度大 改善對策:基片本身的問題可能時主要的鍍膜室盡量彌補,鍍膜本身Zui大的可能室膜料匹配問題。 1. 改進膜系,第yi層不用氧化鋯 2. 盡量減少真空室開門時間 3. 真空室在更換護板、清潔后,Zui好能空罩抽真空烘烤一下,更換的護板等真空室部件必須干燥、干凈 4. 改善環(huán)境 5. 妥善保護進罩前在傘片上的鏡片,免受污染 6. 改善洗凈、擦拭效果 7. 改善膜匹配(考慮第yi層用Al2O3) 8. 改善膜充氧和蒸發(fā)速率(降低) 9. 加快前工程的流程。前工程對已加工光面的保護加強。 10. 拋光加工完成的光面,必須立即清潔干凈,不能有拋光粉或其他雜質附著干結。陜西af真空鍍膜設備真空鍍膜設備哪個牌子的好?

【濺射鍍膜定義】:定義:所謂濺射,就是這充滿腔室的工藝氣體在高電壓的作用下,形成氣體等離子體(輝光放電),其中的陽離子在電場力作用下高速向靶材沖擊,陽離子和靶材進行能量交換,使靶材原子獲得足夠的能量從靶材表面逸出(其中逸出的還可能包含靶材離子)。這一整個的動力學過程,就叫做濺射。入射離子轟擊靶面時,將其部分能量傳輸給表層晶格原子,引起靶材中原子的運動。有的原子獲得能量后從晶格處移位,并克服了表面勢壘直接發(fā)生濺射;有的不能脫離晶格的束縛,只能在原位做振動并波及周圍原子,結果使靶的溫度升高;而有的原子獲得足夠大的能量后產生一次反沖,將其臨近的原子碰撞移位,反沖繼續(xù)下去產生高次反沖,這一過程稱為級聯(lián)碰撞。級聯(lián)碰撞的結果是部分原子達到表面,克服勢壘逸出,這就形成了級聯(lián)濺射,這就是濺射機理。當級聯(lián)碰撞范圍內反沖原子密度不高時,動態(tài)反沖原子彼此間的碰撞可以忽略,這就是線性級聯(lián)碰撞。

【光譜分光不良的補救(補色)之其他情況】:分光不良分為二種情況:一是全部膜系鍍制完成后,經測試分光不良,此類不良主要按六節(jié)所述方法處理,一般減反膜難以補救。但對于高反膜、帶通濾光膜等可以通過加層的方法補救。二是鍍制中途中斷(包括發(fā)現錯誤中斷)造成的分光不良,一般都可以通過后續(xù)努力補救。后續(xù)方法正確,補救成功率比較高。中斷的原因形式之其他情況:對于用錯程序,錯誤操作(預熔未關閉擋板等)人為中斷需要補救的;以及反光膜、濾光膜鍍后需要補救的情況處理方案:模擬:將實測分光數據輸入計算機膜系設計程序的優(yōu)化目標值。通過計算機模擬(一般是Zui后一層的膜厚確認),找到與實現測試值結果相應的膜系數據。優(yōu)化:根據模擬得到的膜系數據,輸入產品要求的優(yōu)化目標值,通過加層、優(yōu)化后續(xù)膜層的方法,重新優(yōu)化設計一個補救膜系。試鍍:確認、完善補救膜系效果補救鍍:完成補救工作真空鍍膜設備機組介紹。

【離子鍍膜法之直流二極型(DCIP)】: 直流二極型(DCIP):利用電阻或電子束加熱使膜材氣化;被鍍基體作為陰極,利用高電壓直流輝光放電將充入的氣體氬(Ar)(也可充少量反應氣體)離化。這種方法的特點是:基板溫升大、繞射性好、附著性好,膜結構及形貌差,若用電子束加熱必須用差壓板;可用于鍍耐腐蝕潤滑機械制品。 【離子鍍膜法之多陰極型】: 多陰極型:利用電阻或電子束加熱使膜材氣化;依靠熱電子、陰極發(fā)射的電子及輝光放電使充入的真空惰性氣體或反應氣體離化。這種方法的特點是:基板溫升小,有時需要對基板加熱;可用于鍍精密機械制品、電子器件裝飾品。真空鍍膜設備抽真空步驟。廣東國外真空鍍膜設備廠商

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【光譜分光不良的補救(補色)之機器故障和人為中斷】: 分光不良分為二種情況:一是全部膜系鍍制完成后,經測試分光不良,此類不良主要按六節(jié)所述方法處理,一般減反膜難以補救。但對于高反膜、帶通濾光膜等可以通過加層的方法補救。二是鍍制中途中斷(包括發(fā)現錯誤中斷)造成的分光不良,一般都可以通過后續(xù)努力補救。后續(xù)方法正確,補救成功率比較高。 中斷的原因形式之機器故障和人為中斷: 模擬:根據已經實鍍的鏡片(測試比較片)實測分光數據輸入計算機膜系設計程序的優(yōu)化目標值,再根據已經掌握的膜系信息輸入,采用倒推法逐層優(yōu)化,模擬出實際鍍制的膜系數據。 *測試比較片是指隨鏡片一起鍍制(在傘片上、與鏡片同折射率),用于測試鍍后分光曲線的平片。 優(yōu)化:再鎖定通過模擬得到的膜系數據,通過后續(xù)層膜厚優(yōu)化找到實現目標的Zui佳方案。 試鍍:根據新優(yōu)化的后續(xù)膜層數據,試鍍若干鏡片或測試片,確認補色膜系的可行性。 補色鍍:對試鍍情況確認后實施補色鍍。補色鍍前,確認基片是否潔凈,防止產生其他不良。貴州真空鍍膜設備采購計劃