【真空鍍膜之磁控濺射鍍膜】 磁控濺射對陰極濺射中電子使基片溫度上升過快的缺點加以改良,形成了電場和磁場方向相互垂直的特點。在正交的電磁場的作用下,電子以擺線的方式沿著靶表面前進,從而xianzhu地延長了電子的運動路程,增加了同工作氣體分子的碰撞幾率,提高了電子的電離效率。由于電子每經過一次碰撞損失一部分動能,經過多次碰撞后,喪失了能量成為“*終電子”進入離陰極靶面較遠的弱電場區(qū),*后到達陽極時已經是能量消耗殆盡的低能電子,也就不再會使基片過熱。同時高密度等離子體被束縛在靶面附近,又不與基片接觸,這樣電離產生的正離子能十分有效地轟擊靶面,而基片又可免受等離子體的轟擊,因而基片溫度又可降低。在濺射儀起輝以后,并不把樣品轉入陽極的生長位置,也不通循環(huán)水,使樣品隨放電的熱能而逐漸升高至一定溫度后,才開始生長,以減小應力,獲得牢固度較高的薄膜。另外在樣品盤中還安裝了溫控儀(精度小于1℃)以監(jiān)控薄膜生長過程中的樣品溫度。 真空鍍膜機的培訓資料。江蘇手機真空鍍膜機
【真空鍍膜機清洗工藝之放電清洗】利用熱絲或電極作為電子源,在其相對于待清洗的表面加負偏壓可以實現(xiàn)離子轟擊的氣體解吸及某些碳氫化合物的去除。清洗效果取決于電極材料、幾何形狀及其與表面的關系。即取決于單位表面積上的離子數(shù)和離子能量,從而取決于有效電功率。在真空室中充入適當分壓力的惰性氣體(典型的如Ar氣),可以利用兩個適當?shù)碾姌O間的低壓下的輝光放電產生的離子轟擊來達到清洗的目的。該方法中,惰性氣體被離化并轟擊真空室內壁、真空室內的其它結構件及被鍍基片,它可以使某些真空系統(tǒng)免除被高溫烘烤。如果在充入的氣體中加入氧氣,對某些碳氫化合物可以獲得更好的清洗效果。因為氧氣可以使某些碳氫化合物氧化生成易揮發(fā)性氣體而容易被真空系統(tǒng)排除。不銹鋼高真空和超高真空容器表面上雜質的主要成分是碳和碳氫化合物。一般情況下,其中的碳不能單獨揮發(fā).經化學清洗后,需要引入Ar或Ar+O2混合氣體進行輝光放電清洗,使表面上的雜質和由于化學作用被束縛在表面上的氣體得到qing除。陜西全自動真空鍍膜機磁控濺射真空鍍膜機是什么?
【真空鍍膜的膜層結構分布】基材:ABS、PC、ABS+PC、PP、PPMA、POM等樹脂類均可成型真空電鍍, 要求底材為純原料,電鍍級別更佳,不可加再生材; 底漆:UV底漆,對基材表面做預處理,為膜層的附著提供活性界面,底漆厚度一般在5-10um,特殊情況可酌情加厚; 膜層:靶材蒸發(fā)的結果,VM膜層可導電,NCVM鍍層不導電,且抗干擾性效果很好,膜層厚度0.3um以下。 面漆:面漆利用三基色原理可與色漿搭配出各類顏色,同時對真空膜層起保護作用,再加上UV、PU的表面裝飾,效果更漂亮,厚度 一般在8-10um,特殊情況可酌情加厚 。
【如何減少真空鍍膜的灰塵】1、使用的源材料要符合必要的純度要求。2、樣品取出后放置環(huán)境要注意清潔的問題。3、鍍膜一段時間后,真空室內壁必須要清潔處理。4、清洗襯底材料,必須要做到嚴格合乎工藝要求。5、工作人員有專門的服裝,操作要戴手套、腳套等。6、適當?shù)脑黾迎h(huán)境的濕度,有利于降低周圍環(huán)境的懸浮固體顆粒物。7、技術上明確允許的*da顆粒尺寸和單位面積顆粒物的數(shù)量的上限da致是多少。8、室內空氣流動性低、地面干凈,如果是裸露的水泥地,需要覆蓋處理。墻壁、屋頂不能使用一般的灰質涂料粉刷。真空鍍膜機的相關資料。
【真空鍍膜之陽極氧化】陽極氧化:主要是鋁的陽極氧化,是利用電化學原理,在鋁和鋁合金的表面生成一層Al2O3(氧化鋁)膜。這層氧化膜具有防護性、裝飾性、絕緣性、耐磨性等特殊特性 適用材料: 鋁、鋁合金等鋁制品 工藝成本:生產過程中,水、電的消耗是相當da的,特別是在氧化工序。機器本身的熱耗,需要不停地用循環(huán)水進行降溫,噸電耗往往在1000度左右。 環(huán)境影響:陽極氧化在能效方面不算出色,同時在鋁電解生產中,陽極效應還會產生對da氣臭氧層造成破壞性副作用的氣體。 關于真空鍍膜機,你知道多少?江蘇真空鍍膜機廠
真空鍍膜機機組是怎樣的?江蘇手機真空鍍膜機
【真空鍍膜設備撿漏需注意】真空鍍膜設備檢漏是保證真空鍍膜設備真空度的一項檢查措施,簡稱檢漏,真空度的高低是直接影響到鍍膜效果的,所以檢漏是必不可少的。 一、要確認漏氣到底的虛漏還是實漏。因為工件材料加熱后都會在不同程度上產生氣體,有可能誤以為是從外部流進的氣體,這就是虛漏,要排除這種情況。 二、測試好真空室的氣體密封性能。確保氣密性能符合要求。 三、檢查漏孔的da小,形狀、位置,漏氣的速度,制備出可解決方案并實施。 四、確定檢測儀器的*小可檢漏率和檢漏靈敏性,以*da范圍的檢測出漏氣情況,避免一些漏孔被忽略,提高檢漏的準確性。 五、把握檢漏儀器的反應時間和消除時間。把時間掌握好,保證檢漏儀器工作到位,時間少了,檢漏效果肯定差,時間長了,浪費檢漏氣體和人工電費。 六、還要避免漏孔堵塞。有時由于操作失誤,檢漏過程中,一些灰塵或液體等把漏孔堵塞了,以為在該位置沒有漏孔,但當這些堵塞物由于內外壓強差異提高或其他原因使漏孔不堵了,那漏氣還是存在的。 為真空鍍膜設備做好檢漏工作是很重要的,造成真空度下降的原因多種多樣,我們要一一的解決這些原因,穩(wěn)定鍍膜的效果。 江蘇手機真空鍍膜機
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