杭州絕緣陶瓷片

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-11-09

    氧化鋁陶瓷是一種以氧化鋁(Al2O3)為主體的陶瓷材料,用于厚膜集成電路。氧化鋁陶瓷有較好的傳導(dǎo)性、機(jī)械強(qiáng)度和耐高溫性。需要注意的是需用超聲波進(jìn)行洗滌。氧化鋁陶瓷是一種用途的陶瓷,因?yàn)槠鋬?yōu)越的性能,在現(xiàn)代社會(huì)的應(yīng)用已經(jīng)越來(lái)越,滿足于日用和特殊性能的需要。中文名氧化鋁陶瓷外文名aluminawhiteware主體氧化鋁類型陶瓷材料應(yīng)用厚膜集成電路特性較好的傳導(dǎo)性、機(jī)械強(qiáng)度目錄1基本資料2類別3制作工藝?粉體制備?成型方法4燒成技術(shù)5特點(diǎn)6燒結(jié)設(shè)備7技術(shù)指標(biāo)8現(xiàn)狀及趨勢(shì)氧化鋁陶瓷基本資料編輯氧化鋁陶瓷的技術(shù)日漸的成熟,但有些指標(biāo)還有待改善,這需要大家共同的研究。同時(shí),關(guān)于氧化鋁陶瓷的一些性能參數(shù),也希望大家明確的提出,讓研究者和廠家可以根據(jù)用戶的要求來(lái)研究設(shè)計(jì),不至于沒(méi)有目的。[1]氧化鋁陶瓷類別編輯氧化鋁陶瓷分為高純型與普通型兩種。高純型氧化鋁陶瓷系A(chǔ)l2O3含量在99.9%以上的陶瓷材料,由于其燒結(jié)溫度高達(dá)1650—1990℃,透射波長(zhǎng)為1~6μm,一般制成熔融玻璃以取代鉑坩堝;利用其透光性及可耐堿金屬腐蝕性用作鈉燈管;在電子工業(yè)中可用作集成電路基板與高頻絕緣材料。普通型氧化鋁陶瓷系按Al2O3含量不同分為99瓷、95瓷、90瓷、85瓷等品種。氧化鋁陶瓷具有高硬度,僅次于金剛石,能有效抵抗磨損和刮擦。杭州絕緣陶瓷片

杭州絕緣陶瓷片,陶瓷

    熱等靜壓燒成采用高溫高壓氣體作壓力傳遞介質(zhì),具有各向均勻受熱之***,很適合形狀復(fù)雜制品的燒結(jié)。由于結(jié)構(gòu)均勻,材料性能比冷壓燒結(jié)提高30~50%。比一般熱壓燒結(jié)提高10-15%。因此,一些高附加值氧化鋁陶瓷產(chǎn)品或需用的特殊零部件、如陶瓷軸承、反射鏡、核燃料及管等制品、場(chǎng)采用熱等靜壓燒成方法。此外,微波燒結(jié)法、電弧等離子燒結(jié)法、自蔓延燒結(jié)技術(shù)亦正在開(kāi)發(fā)研究中。[1]精加工與封裝工序有些氧化鋁陶瓷材料在完成燒結(jié)后,尚需進(jìn)行精加工。如可用作人工骨的制品要求表面有很高的光潔度、如鏡面一樣,以增加潤(rùn)滑性。由于氧化鋁陶瓷材料硬度較高,需用更硬的研磨拋光磚材料對(duì)其作精加工。如SIC、B4C或金剛鉆等。通常采用由粗到細(xì)磨料逐級(jí)磨削,終表面拋光。一般可采用<1μm微米的Al2O3微粉或金剛鉆膏進(jìn)行研磨拋光。此外激光加工及超聲波加工研磨及拋光的方法亦可采用。[1]氧化鋁陶瓷強(qiáng)化工藝為了增強(qiáng)氧化鋁陶瓷,提高其力學(xué)強(qiáng)度,國(guó)外新推一種氧化鋁陶瓷強(qiáng)化工藝。該工藝新穎簡(jiǎn)單,所采取的技術(shù)手段是在氧化鋁陶瓷表面,采用電子射線真空鍍膜、濺射真空鍍膜或化學(xué)氣相蒸鍍方法,鍍上一層硅化合物薄膜,在1200℃~1580℃的加熱處理,使氧化鋁陶瓷鋼化。河源氧化鋯陶瓷批發(fā)粉末的粒度和均勻性對(duì)陶瓷的燒結(jié)質(zhì)量和性能有影響。

杭州絕緣陶瓷片,陶瓷

    不同的部分熔化**源于復(fù)合陶瓷粉末中Al2O3與TiO2之間的熔點(diǎn)差異。納米陶瓷涂層中的顯微結(jié)構(gòu)的變化改善了涂層的孔隙率和韌性,涂層的顯微硬度和結(jié)合強(qiáng)度比傳統(tǒng)涂層有了明顯提高。在沖蝕過(guò)程中,常規(guī)陶瓷涂層表面剝落嚴(yán)重,而納米陶瓷涂層的沖蝕質(zhì)量損失較小;納米AT13涂層的熱震失效循環(huán)次數(shù)明顯高于常規(guī)氧化鋁涂層,且熱震溫度越高表現(xiàn)越明顯;火焰噴燒試驗(yàn)表明,納米AT13涂層失效時(shí)較常規(guī)涂層燒損面積小,且抗燒蝕時(shí)間更長(zhǎng)。2激光重熔等離子噴涂Al2O3涂層的研究等離子噴涂氧化鋁涂層已在工業(yè)得到,但等離子噴涂工藝制約涂層質(zhì)量,激光重熔為這一技術(shù)難題的解決提供了新的途徑,激光重熔能克服等離子噴涂層的片層狀、孔隙率高、裂紋較多、涂層與基體機(jī)械結(jié)合等缺陷。國(guó)內(nèi)外學(xué)者將激光重熔技術(shù)和等離子噴涂技術(shù)結(jié)合起來(lái)制備氧化鋁陶瓷復(fù)合涂層,探究激光重熔對(duì)陶瓷涂層**結(jié)構(gòu)和性能的影響。激光重熔技術(shù)激光重熔技術(shù)是在惰性氣體保護(hù)下,采用聚焦激光束連續(xù)輻照并掃過(guò)涂層,快速加熱涂層的表面至熔化狀態(tài),隨后的冷卻過(guò)程中向基材金屬快速傳熱,在大的冷卻速度下快速凝固,在噴涂陶瓷層表面獲得結(jié)構(gòu)均勻致密、晶粒細(xì)化的陶瓷涂層。

    由于氧化鋁熔點(diǎn)高達(dá)2050℃,導(dǎo)致氧化鋁陶瓷的燒結(jié)溫度普遍較高,這在一定程度上限制了它的生產(chǎn)和更大量的應(yīng)用。因此,降低氧化鋁陶瓷的燒結(jié)溫度,一直是企業(yè)所關(guān)心和急需解決的重要課題。當(dāng)前各種氧化鋁陶瓷的低溫?zé)Y(jié)技術(shù),歸納起來(lái),主要是從原料加工、配方設(shè)計(jì)和燒成工藝等三方面來(lái)采取措施。1通過(guò)降低氧化鋁粉體的粒徑,提高粉體活性來(lái)降低燒結(jié)溫度粉體具有較高的表面自由能。粉體的這種表面能是其燒結(jié)的內(nèi)在動(dòng)力。因此,Al2O3粉體的顆粒越細(xì),活化程度越高,粉體就越容易燒結(jié),燒結(jié)溫度越低。在氧化鋁瓷低溫?zé)Y(jié)技術(shù)中,使用高活性易燒結(jié)氧化鋁粉體作原料是重要的手段之一,因而粉體制備技術(shù)成為陶瓷低溫?zé)Y(jié)技術(shù)中一個(gè)基礎(chǔ)環(huán)節(jié)。目前,制備超細(xì)活化易燒結(jié)氧化鋁粉體的方法分為二大類,一類是機(jī)械法,另一類是化學(xué)法?!緳C(jī)械法】是用機(jī)械外力作用使Al2O3粉體顆粒細(xì)化,常用的粉碎工藝有球磨粉碎、振磨粉碎、砂磨粉碎、氣流粉碎等等。通過(guò)機(jī)械粉碎方法來(lái)提高粉料的比表面積,盡管是有效的,但有一定限度,通常只能使粉料的平均粒徑小至1μm左右或更細(xì)一點(diǎn),而且有粒徑分布范圍較寬,容易帶入雜質(zhì)的缺點(diǎn)?!净瘜W(xué)法】近年來(lái),采用濕化學(xué)法制造超細(xì)高純Al2O3粉體發(fā)展較快。它是機(jī)械制造領(lǐng)域中耐磨部件、密封件和刀具的重要材料。

杭州絕緣陶瓷片,陶瓷

    有時(shí)Al2O3含量在80%或75%者也劃為普通氧化鋁陶瓷系列。其中99氧化鋁瓷材料用于制作高溫坩堝、耐火爐管及特殊耐磨材料,如陶瓷軸承、陶瓷密封件及水閥片等;95氧化鋁瓷主要用作耐腐蝕、耐磨部件;85瓷中由于常摻入部分滑石,提高了電性能與機(jī)械強(qiáng)度,可與鉬、鈮、鉭等金屬封接,有的用作電真空裝置器件。[2]氧化鋁陶瓷制作工藝編輯氧化鋁陶瓷粉體制備將入廠的氧化鋁粉按照不同的產(chǎn)品要求與不同成型工藝制備成粉體材料。粉體粒度在1μm以下,若制造高純氧化鋁陶瓷制品除氧化鋁純度在99.99%外,還需超細(xì)粉碎且使其粒徑分布均勻。采用擠壓成型或注射成型時(shí),粉料中需引入粘結(jié)劑與可塑劑,一般為重量比在10-30%的熱塑性塑膠或樹(shù)脂有機(jī)粘結(jié)劑應(yīng)與氧化鋁粉體在150-200溫度下均勻混合,以利于成型操作。采用熱壓工藝成型的粉體原料則不需加入粘結(jié)劑。若采用半自動(dòng)或全自動(dòng)干壓成型,對(duì)粉體有特別的工藝要求,需要采用噴霧造粒法對(duì)粉體進(jìn)行處理、使其呈現(xiàn)圓球狀,以利于提高粉體流動(dòng)性便于成型中自動(dòng)充填模壁。此外,為減少粉料與模壁的摩擦,還需添加1~2%的潤(rùn)滑劑,如硬脂酸,及粘結(jié)劑PVA。欲干壓成型時(shí)需對(duì)粉體噴霧造粒,其中引入聚乙烯醇作為粘結(jié)劑。其耐磨性好,在機(jī)械加工、礦山開(kāi)采等領(lǐng)域可延長(zhǎng)設(shè)備使用壽命。珠海氧化鋯陶瓷定做價(jià)格

原料的純度對(duì)氧化鋁陶瓷的性能有重要影響,高純度原料能制備出高質(zhì)量的陶瓷。杭州絕緣陶瓷片

    然后在120℃干燥、800℃下排膠,得到陶瓷坯體。(3)先將陶瓷坯體在1450℃下常壓燒結(jié)3h,然后以氮?dú)鉃榧訅航橘|(zhì),在1325℃、150mpa下進(jìn)行熱等靜壓燒結(jié)2h,得到氧化鋁陶瓷。實(shí)施例4本實(shí)施例的氧化鋁陶瓷的制備過(guò)程具體如下:(1)按質(zhì)量百分含量計(jì),稱取如下原料:70%al2o3、28%zro2和2%燒結(jié)助劑,其中,燒結(jié)助劑為%mgo、%cao、%na2o、%hf2o及%k2o的混合物。然后將上述原料與氧化鋯球及酒精按質(zhì)量比為∶∶,并在高能球磨機(jī)中進(jìn)行濕磨96h,再在80℃下干燥12h,然后過(guò)400目篩網(wǎng),得到陶瓷粉體。(2)將陶瓷粉體進(jìn)行干壓成型,然后在80℃干燥、600℃下排膠,得到陶瓷坯體。(3)先將陶瓷坯體在1500℃下常壓燒結(jié)4h,然后以氬氣為加壓介質(zhì),在1300℃、200mpa下進(jìn)行熱等靜壓燒結(jié)3h,得到氧化鋁陶瓷。實(shí)施例5本實(shí)施例的氧化鋁陶瓷的制備過(guò)程與實(shí)施例1的氧化鋁陶瓷的制備過(guò)程相似,區(qū)別在于:步驟(1)中,按質(zhì)量百分含量計(jì),原料為:88%al2o3、11%zro2和1%燒結(jié)助劑,其中,燒結(jié)助劑為%mgo、%cao、%na2o、%hf2o及%k2o的混合物。對(duì)比例1對(duì)比例1的氧化鋁陶瓷的制備過(guò)程與實(shí)施例1的氧化鋁陶瓷的制備過(guò)程相似,區(qū)別在于:步驟(1)中,按質(zhì)量百分含量計(jì)。杭州絕緣陶瓷片

標(biāo)簽: 陶瓷