下面為大家介紹一下石墨盤(pán)烤盤(pán)爐一.產(chǎn)品介紹真空烤盤(pán)爐是與MOCVD設(shè)備配套使用的爐體,爐內(nèi)抽真空,被處理工件放置在爐膛內(nèi),采用清洗氣體加熱反應(yīng)方式進(jìn)行干式清洗(清洗氣體:N2,H2)。主要用于有效清洗除MOCVD承受器(SiC涂層石墨盤(pán)或石英盤(pán))上的氮化鎵和氮化鋁等,可達(dá)到有效清潔處理,提高制品質(zhì)量的目的。二、設(shè)計(jì)特點(diǎn)1、后門(mén)設(shè)計(jì)熱風(fēng)電機(jī)2、降溫時(shí)風(fēng)機(jī)開(kāi)啟,同時(shí)兩端降溫封頭開(kāi)啟,爐膛內(nèi)產(chǎn)生如圖所示的氣體流向3、通過(guò)氣體介質(zhì)將隔熱層內(nèi)與水冷壁之間進(jìn)行熱交換,達(dá)到快速降溫的目的三、技術(shù)指標(biāo)1、使用溫度:1450℃;比較高溫度:1500℃;2、絕熱材料:石墨纖維毯、石墨紙;4、加熱元件:石墨加熱棒;5、冷卻方式:氣冷+循環(huán)風(fēng)冷降溫;6、控溫穩(wěn)定度:±2℃,具有PID參數(shù)自整定功能;7、爐膛溫度均勻度:±5℃(恒溫1500℃);8、氣氛:可向爐膛內(nèi)通入干燥、潔凈、無(wú)油的高純度氮?dú)?純度≥99.999%;9、極限真空:10-3torr級(jí);10、抽氣速率:空載下,30min達(dá)到10-2torr11、升溫功率:170kW;12、升溫速率:15℃/min(空載);13、降溫速率:1450℃至80℃,240分鐘14、腔體尺寸:1000*1000*1000mm(寬*深*高)合肥真萍向您介紹工業(yè)烤箱的好處。寧波工業(yè)烤箱生產(chǎn)廠家
工業(yè)烤箱是一種工業(yè)用的干燥設(shè)備,并非是我們生活中常見(jiàn)的烘烤食物的烤箱。工業(yè)烤箱是由角鋼、薄鋼板等鋼板組成,并且在箱體進(jìn)行加強(qiáng),在箱體的表面涂上一層漆,然后一個(gè)工業(yè)烤箱就成型了。工業(yè)烤箱的內(nèi)膽是用硅酸鋁纖維充填的,這樣就可以在工業(yè)烤箱內(nèi)形成一層保溫層,以此來(lái)確??鞠鋬?nèi)的溫度,使烤箱正常工作。而工業(yè)烤箱在生產(chǎn)中的應(yīng)用的范圍很,因?yàn)楹投鞫喙I(yè)物料需要通過(guò)干燥以后才能夠加以使用,所以工業(yè)烤箱可以說(shuō)是通用的干燥設(shè)備,在各種需要烘干材料的工業(yè)中都有用武之地。立式工業(yè)烤箱供應(yīng)廠家合肥真萍與您分享工業(yè)烤箱對(duì)如今市場(chǎng)的影響。
HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性:在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。  增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。
冷熱沖擊試驗(yàn)箱具有模擬大氣環(huán)境中溫度變化規(guī)律。主要針對(duì)于電工,電子產(chǎn)品,以及其元器件及其它材料在高溫,低溫綜合環(huán)境下運(yùn)輸,使用時(shí)的適應(yīng)性試驗(yàn)。用于產(chǎn)品設(shè)計(jì),改進(jìn),鑒定及檢驗(yàn)等環(huán)節(jié)。溫度范圍指產(chǎn)品工作室能耐受和(或)能達(dá)到的極限溫度。通常含有能控制恒定的概念,應(yīng)該是可以相對(duì)長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定運(yùn)行的極值。一般溫度范圍包括極限高溫和極限低溫。一般標(biāo)準(zhǔn)要求指標(biāo)為≤1℃或±0.5℃。溫度均勻度舊標(biāo)準(zhǔn)稱(chēng)均勻度,新標(biāo)準(zhǔn)稱(chēng)梯度。溫度穩(wěn)定后,在任意時(shí)間間隔內(nèi),工作空間內(nèi)任意兩點(diǎn)的溫度平均值之差的較大值。這個(gè)指標(biāo)比下面的溫度偏差指標(biāo)更可以考核產(chǎn)品的**技術(shù),因此好多公司的樣本及方案刻意隱藏此項(xiàng)。一般標(biāo)準(zhǔn)要求指標(biāo)為≤2℃。溫度偏差溫度穩(wěn)定后,在任意時(shí)間間隔內(nèi),工作空間中心溫度的平均值和工作空間內(nèi)其它點(diǎn)的溫度平均值之差。雖然新舊標(biāo)準(zhǔn)對(duì)此指標(biāo)的定義和稱(chēng)呼相同,但檢測(cè)已有所改變,新標(biāo)準(zhǔn)更實(shí)際,更苛刻一點(diǎn),但考核時(shí)間短點(diǎn)。一般標(biāo)準(zhǔn)要求指標(biāo)為±2℃,純高溫試驗(yàn)箱200℃以上可按實(shí)際使用溫度攝氏度(℃)±2%要求。合肥真萍工業(yè)烤箱的運(yùn)用領(lǐng)域!
工作原理:空氣循環(huán)系統(tǒng)采用雙電機(jī)水平循環(huán)送風(fēng)方式,風(fēng)循環(huán)均勻高效。風(fēng)源由循環(huán)送風(fēng)電機(jī)(采用無(wú)觸點(diǎn)開(kāi)關(guān))帶動(dòng)風(fēng)輪經(jīng)由電熱器,而將熱風(fēng)送出,再經(jīng)由風(fēng)道至烘箱內(nèi)室,再將使用后的空氣吸入風(fēng)道成為風(fēng)源再度循環(huán),加熱使用。確保室內(nèi)溫度均勻性。當(dāng)因開(kāi)關(guān)門(mén)動(dòng)作引起溫度值發(fā)生擺動(dòng),可介此送風(fēng)循環(huán)系統(tǒng)迅速恢復(fù)操作狀態(tài)溫度值。老化試驗(yàn)箱采用國(guó)外先進(jìn)的加熱氣流方法,解決了原轉(zhuǎn)盤(pán)式的溫度不均勻先天缺陷,同時(shí)提高了試樣放置的安全性,有效空間利用率是原轉(zhuǎn)盤(pán)式的200%以上,適用于電子元件,橡膠零部件等材料在高溫下的老化適應(yīng)性試驗(yàn)。工業(yè)烤箱的基本結(jié)構(gòu)級(jí)應(yīng)用!泉州工業(yè)烤箱生產(chǎn)廠家
有哪些領(lǐng)域需要使用工業(yè)烤箱?寧波工業(yè)烤箱生產(chǎn)廠家
冷熱沖擊試驗(yàn)箱具有模擬大氣環(huán)境中溫度變化規(guī)律。主要針對(duì)于電工,電子產(chǎn)品,以及其元器件及其它材料在高溫,低溫綜合環(huán)境下運(yùn)輸,使用時(shí)的適應(yīng)性試驗(yàn)。用于產(chǎn)品設(shè)計(jì),改進(jìn),鑒定及檢驗(yàn)等環(huán)節(jié)。真萍科技作為冷熱沖擊試驗(yàn)箱設(shè)備制造廠商,在冷熱沖擊試驗(yàn)箱設(shè)備制造領(lǐng)域的專(zhuān)業(yè)性是不用多說(shuō)的。下面讓真萍科技從溫度方面,帶您了解冷熱沖擊試驗(yàn)箱。一、溫度波動(dòng)度這個(gè)指標(biāo)也有叫溫度穩(wěn)定度,控制溫度穩(wěn)定后,在給定任意時(shí)間間隔內(nèi),工作空間內(nèi)任一點(diǎn)的較高和較低溫度之差。這里有個(gè)小小的區(qū)別“工作空間”并不是“工作室”,是大約工作室去掉離箱壁各自邊長(zhǎng)的1/10的一個(gè)空間。這個(gè)指標(biāo)考核產(chǎn)品的控制技術(shù)。二、溫度范圍指產(chǎn)品工作室能耐受和(或)能達(dá)到的極限溫度。通常含有能控制恒定的概念,應(yīng)該是可以相對(duì)長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定運(yùn)行的極值。一般溫度范圍包括極限高溫和極限低溫。一般標(biāo)準(zhǔn)要求指標(biāo)為≤1℃或±0.5℃。三、溫度均勻度舊標(biāo)準(zhǔn)稱(chēng)均勻度,新標(biāo)準(zhǔn)稱(chēng)梯度。溫度穩(wěn)定后,在任意時(shí)間間隔內(nèi),工作空間內(nèi)任意兩點(diǎn)的溫度平均值之差的較大值。這個(gè)指標(biāo)比下面的溫度偏差指標(biāo)更可以考核產(chǎn)品的**技術(shù),因此好多公司的樣本及方案刻意隱藏此項(xiàng)。一般標(biāo)準(zhǔn)要求指標(biāo)為≤2℃。寧波工業(yè)烤箱生產(chǎn)廠家