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隧道爐適用于五金模具、航天航空、納米材料、精密陶瓷、粉末治金、鐵氟龍噴涂、五金、鋰電池、化工、運動器材、汽車零配件、電機、化工、工業(yè)等的烘烤、干燥、預熱回火、退火、老化等用途。下面為大家介紹一下真萍科技隧道爐的產(chǎn)品特性。 1.采用智能型溫度控制模塊，PID自動演算，LED顯示，配合SSR大功率可控硅輸出，能精確控制溫度之精細度； 2.分段控制（當?shù)竭_設定溫度時可任意關掉其中幾段發(fā)熱管，降低加熱功率，其達到省電效果）； 3.內箱采用1.5mm厚SUS304#不銹鋼(清潔無塵，防生銹、耐腐蝕)，外箱采用1.5mm厚Q235冷軋鋼板(強度、塑性和焊接綜合性能相當好)； 4.整機控制系統(tǒng)采用觸摸屏加PLC程序控制，設備加熱、運風、傳動、自動門開關均采用智能控制，有效防止失誤動作； 5.當實際檢測溫度超過超溫保護溫控器設定值時，自動切斷加熱電源，起到雙重保護功能。試驗箱在社會上的重要性。大試驗箱多少錢一臺

真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮氣柜主要應用于解決晶圓片的潮濕、氧化及被其它氣體(ex阿摩利亞氣體)破壞，解決探針卡潮濕及氧化問題解決光罩的受潮問題---黃光部封裝的金線，解決液晶的受潮問題，解決線路板受潮問題。下面為大家簡單介紹一下真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮氣柜的柜體規(guī)格、配備。1.左右雙開門，3mm鋼化玻璃，1mm厚不銹鋼板，氣密式隱藏鎖把手。2.柜體密封高吸附力磁性膠條與柜體密閉，腳墊采高承載車輪及調整高低腳墊。3.附高載重不銹鋼隔板，柜體加裝高載重煞車輪。4.上掀式氣密蓋，方便FFU保養(yǎng)及維修。5.回風循環(huán)設計，單向氮氣循環(huán)不產(chǎn)生紊流。6.背面氣密開門式設計，方便潔凈清理與保養(yǎng)。上海銷售試驗箱試驗箱的運用領域有哪些呢？

中溫氣氛箱式爐主要用于磷酸鐵鋰正極材料等類似產(chǎn)品的高溫燒結、熱處理等階段。下面為大家介紹一下中溫氣氛箱式爐的系統(tǒng)配置。 一、冷卻系統(tǒng) 1.冷卻結構 無 2.產(chǎn)品降溫 隨爐降溫 3.安全保護 4.報警指示 超溫、斷偶、停水、停氣等聲光報警保護 5.設備安全升溫速率 ≤5℃/min 二、溫度控制系統(tǒng) 1.溫度測量 采用 K 分度熱偶測量 2.控制儀表 采用進口智能調節(jié)儀控制。具有 PID 參數(shù)自整定、高溫 3.上限報警、熱電偶失效指示等多項報警保護功能 4.控制方式 固態(tài)繼電器過零控制 5.超溫處理 ⑴.當測量溫度超過設定的安全值時，斷加熱，并報警。 ⑵.當測量溫度超過目標溫度達到安全偏差值時，報警。

精密鼓風烘箱適用于電子元器件、橡膠、塑料、裝飾材料等行業(yè)對溫度均勻性要求比較嚴格的實驗。真萍科技作為精密鼓風烤箱的優(yōu)良原廠廠家，設備都是自主生產(chǎn)銷售，質量可靠，品質保證，歡迎來電咨詢。大家對精密鼓風烘箱有沒有些許了解呢，下面小編就帶大家走近精密鼓風烘箱，為大家介紹一下真萍科技精密鼓風烤箱的參數(shù)。技術參數(shù)：1.型號：CB-9023A2.產(chǎn)品類型：液晶顯示3.電源電壓：AC220V±10%/50Hz±2%4.控溫范圍：室溫+10℃-200℃5.溫度分辨率：0.1℃6.溫度波動度：≤±0.2℃7.溫度均勻度：≤±1.5%8.輸入功率：500W9.工作室尺寸(mm)：300（寬）*300（深）*270（高）10.載物托架：2塊11.定時范圍：0-9999分鐘試驗箱給社會帶來了什么好處？

電熱鼓風烤箱適用于各種產(chǎn)品或材料及電氣、儀表、元器件、電子、電工及汽車、航空、通訊塑膠、機械、食品、化工、化學品、五金工具在恒溫環(huán)境條件下作干燥和各種恒溫適應性試驗。下面為大家介紹一下真萍科技電熱鼓風烤箱的箱體結構。1.工作室與外箱之間的保溫材質是優(yōu)良超細玻璃纖維保溫棉，保溫厚度：＞70mm，隔溫效果好，高性能的絕緣結構。從內到外有內腔、外殼、超細玻璃纖維、鋁制反射鋁箔片、空氣夾層，內膽熱量損失少。內膽外箱及門膽結構獨特，極大減少了內腔熱量的外傳。2.門與門框之間采用高性能密封材料及獨特的橡膠密封結構，密封、耐高溫性、抗老化性好。3.箱內風道采用雙循環(huán)系統(tǒng)，不銹鋼多翼式離心風輪及循環(huán)風道組成，置于箱體背部的電加熱器熱量通過側面風道向前排出，經(jīng)過干燥物后再被背部的離心風輪吸入，形成合理的風道，能使熱氣充分對流，使箱內溫度相當大限度達到均勻。提高了空氣流量加熱的能力，大幅改善了干燥箱的溫度均勻性。4.加熱器用不銹鋼電加熱管，升溫快，壽命長。試驗箱常見的用途有哪些？合肥真萍告訴您。上海銷售試驗箱

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本篇介紹專業(yè)全自動HMDS真空烤箱，首先簡單介紹一下HMDS預處理系統(tǒng)的必要性：在半導體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環(huán)節(jié)，涂膠質量直接影響到光刻的質量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導致光刻圖形轉移的失敗，同時濕法腐蝕容易發(fā)生側向腐蝕。增黏劑HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著偶聯(lián)劑的作用。大試驗箱多少錢一臺