浙江實驗室Nanoscribe子公司

   對于光纖上打印的SERS探針，研究人員必須克服幾個制造上的挑戰(zhàn)。首先，他們設計了一個定制的光纖支架，可以在光纖的切面上打印。然后，打印的物體必須與光纖的重要部分部分完全對齊，以激發(fā)制造的拉曼熱點。剩下的一個挑戰(zhàn)，特別是對于像單體陣列這樣的絲狀結構，是對可能傾斜的基材表面的補償。光纖傾斜的基材表面導致SERS活性微結構的產量很低。為了推動光學領域的創(chuàng)新以及在醫(yī)療設備的應用和光學傳感的發(fā)展，例如光纖SERS探頭，Nanoscribe近期推出了更新的3D打印系統(tǒng)QuantumXalign。憑借其專有的在光纖上的打印設置和在所有空間方向上的傾斜校正，新的3D打印系統(tǒng)可能已經為在光纖上打印SERS探針的挑戰(zhàn)提供了答案，并為進一步改進和新的創(chuàng)新奠定了基礎。

更多有關3D雙光子無掩模光刻技術和產品咨詢，歡迎致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維。浙江實驗室Nanoscribe子公司

IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期，包括仿生表面，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術，斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上，構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭，包括導管鞘在內的直徑只為0.457?mm。 江蘇科研Nanoscribe微流道Nanoscribe一直致力于推動各個科研領域，諸如力學超材料，微納機器人等。

NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及普遍的材料-基板選擇。因此，它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經分布在30多個國家的前沿研究中，超過1,000個開創(chuàng)性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力的證明。

對準雙光子光刻技術(A2PL®)是Nanoscribe基于雙光子聚合（2PP）的一種新型專利納米微納制造技術。該技術可以將打印的結構自動對準到光纖和光子芯片上，例如用于光子封裝中的光學互連。同時高精度檢測系統(tǒng)還可以識別基準點或拓撲基底特征，確保對3D打印進行高度精確的對準。 Nanoscribe對準雙光可光刻技術搭配nanoPrintX，一種基于場景圖概念的軟件工具，可用于定義對準3D打印的打印項目。樹狀數據結構提供了所有與打印相關的對象和操作的分層組織，用于定義何時、何地、以及如何進行打印。在nanoPrintX中可以定義單個對準標記以及基板特征，例如芯片邊緣和光纖表面。使用Quantum X align系統(tǒng)的共焦單元或光纖照明單元，可以識別這些特定的基板標記，并將其與在nanoPrintX中定義的數字模型進行匹配。對準雙光子光刻技術和nanoPrintX軟件是Quantum X align系統(tǒng)的標配?？茖W家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術，實現微流道母版制造和密閉通道系統(tǒng)內部的芯片內直接打印。

Nanoscribe雙光子灰度光刻（2GL®）是一種用于生成2.5D拓撲的新型增材制造技術。通過這種技術，在掃描一層的情況下，可以打印離散和準確的步驟以及基本連續(xù)的拓撲，從而縮短了打印時間。2GL是無掩膜灰度光刻技術家族的新成員，其使用功率調節(jié)激光來塑造微納米結構功能器件的高度輪廓。雙光子灰度光刻（2GL®）是一項突破性的創(chuàng)新技術，將灰度光刻的優(yōu)勢與雙光子聚合（2PP）的精度和靈活性相結合。光學元件如何對準并打印到光子芯片上？打印對象的 3D 對準技術是基于具有高分辨率 3D 拓撲繪制的共聚焦單元。 為了精確對準光子芯片上的光學元件，智能軟件算法會自動識別預定義的標記和拓撲特征，以確定芯片上波導的確切位置和方向。 然后將虛擬坐標系設置到波導的出口，使其光軸和方向完美對準。 根據該坐標系打印的光學元件可確保比較好的光學質量并比較大限度地減少耦合損耗。 該項技術可以利用自由空間微光耦合 (FSMOC) 實現高效的光耦合。高度定制化產品，咨詢納糯三維科技（上海）有限公司。湖南2GLNanoscribe工藝

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   對于光纖上打印的SERS探針，研究人員必須克服幾個制造上的挑戰(zhàn)。首先，他們設計了一個定制的光纖支架，可以在光纖的切面上打印。然后，打印的物體必須與光纖的重要部分部分完全對齊，以激發(fā)制造的拉曼熱點。剩下的一個挑戰(zhàn)，特別是對于像單體陣列這樣的絲狀結構，是對可能傾斜的基材表面的補償。光纖傾斜的基材表面導致SERS活性微結構的產量很低。為了推動光學領域的創(chuàng)新以及在醫(yī)療設備的應用和光學傳感的發(fā)展，例如光纖SERS探頭，Nanoscribe近期推出了更新的3D打印系統(tǒng)QuantumXalign。憑借其專有的在光纖上的打印設置和在所有空間方向上的傾斜校正，新的3D打印系統(tǒng)可能已經為在光纖上打印SERS探針的挑戰(zhàn)提供了答案，并為進一步改進和新的創(chuàng)新奠定了基礎浙江實驗室Nanoscribe子公司