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高功率光學(xué)鍍膜的制造之材料的選擇：在諸如紫外 (UV) 或可見光/近紅外 (VIS-NIR) 區(qū)域等特定電磁波譜波長范圍內(nèi)工作時(shí)，需要使用不同的材料。視應(yīng)用是需要高功率連續(xù)照射還是需要高功率脈沖照射而定，也會(huì)使用不同的材料。例如，連續(xù)波(CW) 激光 會(huì)導(dǎo)致光學(xué)鍍膜升溫和熔化，而短脈沖激光可以產(chǎn)生強(qiáng)度高的電磁場。遺憾的是，鍍膜設(shè)計(jì)師受限于高功率應(yīng)用所適用的材料數(shù)量。例如，高反射性反射鏡鍍膜的制作方式是交替采用厚度為四分之一波長的高折射率或低折射率材料層。這種材料堆疊設(shè)計(jì)可以大幅改變鍍膜的激光損傷閾值 (LIDT)。例如，只需添加厚度為一半波長的低折射率材料層就可以大幅提高 LIDT。選擇適當(dāng)?shù)牡驼凵渎屎透哒凵渎什牧蠒r(shí)，介電金屬氧化物憑借其低吸收能力獲得鍍膜技術(shù)人員的青睞。二氧化硅 (SiO2) 已獲得普遍接受，是低折射率層的普遍選擇，但是，選擇高折射率層的材料并不簡單：鈦、鉭、鋯、鉿、鈧和鈮的氧化物都是受歡迎的選擇。目前“預(yù)熔化”光學(xué)材料在國內(nèi)外得到大規(guī)模應(yīng)用。蚌埠鍍膜材料費(fèi)用

光學(xué)鍍膜材料你還知道有哪些呢？鍺化鋅(ZnGe)：疏散的鍺化鋅具有一個(gè)比其相對較高的折射率,在500NM時(shí)N=2.6,在可見光譜區(qū)以及12000—14000NM區(qū)域具有較少的吸收性并且疏散的鍺化鋅沒有其材質(zhì)那么硬.使用鉭舟將其蒸發(fā)到150攝氏度的基板上制備SI/ZnGe及ZnGe/LaF3膜層試圖獲到長波長IR漸低折射率的光學(xué)濾鏡。氧化鉿(HfO2)：在150攝氏度的基板上有用電子槍蒸著,折射率在2.0左右,用氧離子助鍍可能取和得2.05—2.1穩(wěn)定的折射率,在8000—12000NM區(qū)HFO2用作鋁保護(hù)膜外層好過SIO2。蚌埠鍍膜材料費(fèi)用光學(xué)鍍膜加工已在光學(xué)和光電子技術(shù)領(lǐng)域進(jìn)行普遍的應(yīng)用了。

光學(xué)鍍膜產(chǎn)品的不良，部分是鍍膜工序的本身造成的，部分是前工程遺留的不良，鍍膜較終的品質(zhì)是整個(gè)光學(xué)零件加工的（特別是拋光、清洗）的綜合反映，對策鍍膜不良時(shí)必須綜合考慮，才能真正找到不良產(chǎn)生的原因，對策改善才能取得成效。要看點(diǎn)子是發(fā)生在鍍膜前，鍍膜中，還是鍍膜后的。 鍍膜后一般能擦掉或者洗掉。 鍍膜前一般改善清洗，或者開鍍前離子風(fēng)除下靜電，或者開鍍前離子源轟一下也能改善。 鍍膜中的比較復(fù)雜，要具體情況具體分析（比如點(diǎn)子的顏色，形狀，鍍膜條件……）。

“預(yù)熔化”光學(xué)鍍膜材料：傳統(tǒng)的光學(xué)鍍膜材料其形態(tài)主要包括自由顆粒和藥片狀兩種。鍍膜時(shí)，先往坩堝中填充一定量的材料，然后進(jìn)行預(yù)熔，一般地，根據(jù)不同的鍍膜需要，預(yù)熔時(shí)間大約2h～4h。采用傳統(tǒng)材料主要有以下問題:?其一，由于顆粒和小片堆積密度小，因此坩堝裝料有限；其二，預(yù)熔需要大量時(shí)間，對于工業(yè)生產(chǎn)，降低了生產(chǎn)效率；其三，在實(shí)際鍍膜過程中，隨著材料的消耗，往往會(huì)產(chǎn)生薄膜性能的差異，所以實(shí)際上材料利用率非常有限。因此，當(dāng)鍍制多層精密膜系和規(guī)?；a(chǎn)時(shí)，傳統(tǒng)材料具有一定的局限性?！邦A(yù)熔化”光學(xué)鍍膜材料正是針對以上缺點(diǎn)而設(shè)計(jì)的一種的材料。真空鍍膜時(shí)的預(yù)熔過程是通過電子口轟擊來實(shí)現(xiàn)的，對于氧化物鍍膜材料來說，電子束轟擊預(yù)熔過程使材料在坩堝中完全或部分熔化成一體，但同時(shí)失去少量晶格氧。光學(xué)鍍膜可以通過基本電鍍膜和透明介質(zhì)多層膜獲得多種顏色、色調(diào)和金屬光澤。

光學(xué)鍍膜材料濾光片特點(diǎn)： 其主要特點(diǎn)是尺寸可做得相當(dāng)大，薄膜濾光片，一般透過的波長較長，多用做紅外濾光片，后者是在一定片基，用真空鍍膜法交替形成具有一定厚度的高折射率或低折射率的金屬-介質(zhì)-金屬膜，或全介質(zhì)膜，構(gòu)成一種低級次的﹑膜層的材料﹑厚度和串聯(lián)方式的選擇，由所需要的中心波長和透射帶寬λ確定。 濾光片產(chǎn)品主要按光譜波段、光譜特性、膜層材料、應(yīng)用特點(diǎn)等方式分類。 光譜波段：紫外濾光片、可見濾光片、紅外濾光片； 光譜特性：帶通濾光片、截止濾光片、分光濾光片、中性密度濾光片、反射濾光片； 膜層材料：軟膜濾光片、硬膜濾光片； 硬膜濾光片：不只指薄膜硬度方面，更重要的是它的激光損傷閾值，所以它普遍應(yīng)用于激光系統(tǒng)當(dāng)中，面軟膜濾光片則主要用于生化分析儀當(dāng)中； 帶通型： 選定波段的光通過，通帶以外的光截止，其光學(xué)指標(biāo)主要是中心波長(CWL)，半帶寬(FWHM)，分為窄帶和寬帶，比如窄帶濾光片。光學(xué)薄膜的特性：表面光滑。蚌埠鍍膜材料費(fèi)用

離子源將束流從離子噴頭指向基底表面和正在生長的薄膜來改善傳統(tǒng)電子束蒸發(fā)的薄膜特性。蚌埠鍍膜材料費(fèi)用

光學(xué)鍍膜基本原理：光的干涉在薄膜光學(xué)中普遍應(yīng)用。光學(xué)薄膜技術(shù)的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜，一般用來控制基板對入射光束的反射率和透過率，以滿足不同的需要。為了消除光學(xué)零件表面的反射損失，提高成像質(zhì)量，涂鍍一層或多層透明介質(zhì)膜，稱為增透膜或減反射膜。隨著激光技術(shù)的發(fā)展，對膜層的反射率和透過率有不同的要求，促進(jìn)了多層高反射膜和寬帶增透膜的發(fā)展。為各種應(yīng)用需要，利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉濾光片等。蚌埠鍍膜材料費(fèi)用

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