邵陽鍍膜材料公司

光學(xué)鍍膜材料是在光學(xué)零件表面上改變光學(xué)零件表面特性的一種層或多層涂層。它可以是金屬薄膜、介電膜或這兩種膜的組合。光學(xué)鍍膜材料是先進(jìn)的光電技術(shù)中不可缺少的一部分。它不只可以提高系統(tǒng)的性能，而且是達(dá)到設(shè)計(jì)目標(biāo)的必要手段。光學(xué)薄膜的應(yīng)用領(lǐng)域和光學(xué)系統(tǒng)的各個(gè)方面，包括激光系統(tǒng)、光學(xué)通信、光顯示、光存儲等，主要的光學(xué)鍍膜材料器件包括反射膜、反反射膜、偏光膜、干涉濾光片和分光鏡。它們在國民經(jīng)濟(jì)和**建設(shè)中得到了普遍的應(yīng)用，越來越受到科學(xué)家和技術(shù)人員的重視。為了消除光學(xué)部件表面上的反射損失并改善圖像質(zhì)量，涂覆了一層或多層透明介電膜，稱為抗反射膜或抗反射膜。邵陽鍍膜材料公司

光學(xué)鍍膜材料你還知道有哪些呢？氧化鎂(MgO)：必須使用電子口蒸發(fā)因該材料升華,堅(jiān)硬耐久且有良好的紫外線(UV)穿透性,250nm時(shí)n=1.86, 190nm時(shí)n=2.06. 166nm時(shí)K值為0.1, n=2.65.可用作紫外線薄膜材料。MGO/MGF2膜堆從200nm---400nm區(qū)域透過性良好,但膜層被限制在60層以內(nèi)(由于膜應(yīng)力)500nm時(shí)環(huán)境基板上得到n=1.70.由于大氣CO2的干擾,MGO暴露表面形成一模糊的淺藍(lán)的散射表層,可成功使用傳統(tǒng)的MHL折射率3層AR膜(MgO/CeO2/MgF2)。硫化鋅(ZnS)：折射率為2.35, 400—13000nm的透光范圍,具有良好的應(yīng)力和良好的環(huán)境耐久性, ZnS在高溫蒸著時(shí)極易升華,這樣在需要的膜層附著之前它先在基板上形成一無吸附性膜層,因此需要徹底清爐,并且在較高溫度下烘干,花數(shù)小時(shí)才能把鋅的不良效果消除.HASS等人稱紫外線(UV)對ZNS有較大的影響,由于紫外線在大氣中導(dǎo)致15—20nm厚的硫化鋅膜層完全轉(zhuǎn)變成氧化鋅(ZNO)。安慶鍍膜材料生產(chǎn)廠家光學(xué)薄膜一般用來控制基板對入射光束的反射率和透過率，以滿足不同的需要。

光學(xué)鍍膜技術(shù)在過去幾十年實(shí)現(xiàn)了長足的進(jìn)展，從舟蒸發(fā)、電子束熱蒸發(fā)及其離子束輔助沉積技術(shù)發(fā)展到離子束濺射和磁控濺射技術(shù)。近年來在這些沉積技術(shù)和裝備領(lǐng)域的主要技術(shù)進(jìn)展包括：間歇式直接光控。光學(xué)鍍膜過程中越來越多地使用間歇式信號采集系統(tǒng)，對鍍膜過程產(chǎn)品片實(shí)現(xiàn)直接監(jiān)控。相對于間接光控和晶控系統(tǒng)，間歇式直接光控系統(tǒng)有利于降低實(shí)際產(chǎn)品上的薄膜厚度分布誤差，可以進(jìn)一步提高產(chǎn)品良率并減少了工藝調(diào)試時(shí)間；漸變折射率結(jié)構(gòu)薄膜技術(shù)與裝備。已經(jīng)有大量研究工作已經(jīng)證實(shí)Rugate無界面型薄膜結(jié)構(gòu)和準(zhǔn)Rugate多種折射率薄膜結(jié)構(gòu)通過加強(qiáng)調(diào)制折射率在薄膜厚度方向上分布，能設(shè)計(jì)出非常復(fù)雜的光譜性能，(部分)消除了薄膜界面特征，(部分)消除界面效應(yīng)，如電磁波在界面上比薄膜內(nèi)部更高密度的吸收中心和散射，也可以增加了薄膜力學(xué)穩(wěn)定性。

光學(xué)鍍膜由薄膜層組合而成，它會產(chǎn)生干涉效應(yīng)來改變光學(xué)系統(tǒng)的透射或反射性能。光學(xué)鍍膜的性能取決于層數(shù)、每層的厚度和不同層之間的折射率。精密光學(xué)中常見鍍膜類型有：增透膜(AR)、高反射（鏡）膜、分光鏡膜和濾光片膜（短波通，長波通，陷波等）。增透膜適用于大多數(shù)折射光學(xué)件，可以增大光通量并減少不必要的反射。高反射膜可以在單個(gè)波長或某段波長范圍內(nèi)提供較大反射，多用于反射鏡。分光鏡膜用于將入射光分為透射光和反射光輸出。濾光片鍍膜適用于大量生命科學(xué)和醫(yī)學(xué)應(yīng)用，能夠以特定波長透射、反射、吸收或衰減光。光學(xué)鍍膜技術(shù)的常用方法是通過真空濺射在玻璃基板上涂覆薄膜。

光學(xué)鍍膜用于增強(qiáng)光學(xué)組件的透射、反射或偏振特性。例如，每個(gè)未鍍膜玻璃器件表面將會有大約10%的入射光被反射。采用增透膜可將各表面的反射率降低到 0.1% 以下，采用高反射介電膜可將反射率提高到 99.99% 以上。光學(xué)鍍膜由氧化物、金屬或稀土材料等薄層材料組成。光學(xué)鍍膜的性能取決于層數(shù)、厚度和不同層之間的折射率差異。為了較大程度地提高或降低干涉，它們的光學(xué)厚度通常為應(yīng)用中所使用的光的波長的 λ/4 光學(xué)厚度 (QWOT) 或 λ/2 光學(xué)厚度 (HWOT)。這些薄膜由高折射率和低折射率交替而成，從而誘發(fā)需要的干涉效應(yīng)。當(dāng)薄膜暴露于潮濕空氣中時(shí)，這些孔逐漸被水蒸氣填充。邵陽鍍膜材料公司

采用預(yù)熔化材料進(jìn)行鍍膜，能提高坩堝的裝填量，減少預(yù)熔時(shí)間，提高材料的利用率，并有可能提高薄膜的性能。邵陽鍍膜材料公司

光學(xué)鍍膜材料常見不良現(xiàn)象：膜層應(yīng)力：薄膜的成膜過程，是一個(gè)物質(zhì)形態(tài)的轉(zhuǎn)變過程，不可避免地在成膜后的膜層中會有應(yīng)力存在，對于多層膜來說有不同膜料的組合，各膜層體現(xiàn)出的應(yīng)力是有所不同的，有的是張應(yīng)力、有的是壓應(yīng)力，還有膜層及基片的熱應(yīng)力。應(yīng)力的存在對膜強(qiáng)度是有害的，輕者是膜層耐不住摩擦，重者，造成膜層的龜裂或網(wǎng)狀細(xì)道子。對于減反膜，由于層數(shù)不多，應(yīng)力一般體現(xiàn)不明顯，(但有些硝材的鏡片即便是減反膜也有應(yīng)力問題存在。)而層數(shù)較多的高反膜、濾光膜，應(yīng)力是一個(gè)常見的不良因素，應(yīng)特別注意。邵陽鍍膜材料公司

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