黃石光學(xué)鍍膜材料售價(jià)

光學(xué)鍍膜材料的分類及特點(diǎn)：從化學(xué)組成上，薄膜材料可分為： 氧化物類： 一氧化硅、二氧化硅、二氧化鋯、二氧化鈦、三氧化二鋁等； 氟化物類：氟化鎂、氟化鐿、氟化鋇等； 其它化合物類：硫化鋅、硒化鋅等； 金屬（合金）類： 鉻粒、鈦粒、硅粒等； 從材料功能分，鍍膜材料可分為： a.光介質(zhì)材料：起傳輸光線的作用。這些材料以折射、反射和透射的方式改變光線的方向、強(qiáng)度和相位，使光線按預(yù)定要求傳輸，也可吸收或透過一定波長范圍的光線而調(diào)整光譜成份。?? b.光功能材料：這種材料在外場（力、聲、熱、電、磁和光）的作用下，光學(xué)性質(zhì)會(huì)發(fā)生變化，因此可作為探測、保護(hù)和能量轉(zhuǎn)換的材料（如AgCl2,WO3等）。??薄膜沉積的傳統(tǒng)方法一直是熱蒸發(fā)，或采用電阻加熱蒸發(fā)源或采用電子束蒸發(fā)源。黃石光學(xué)鍍膜材料售價(jià)

光學(xué)鍍膜材料的特點(diǎn)：從化學(xué)結(jié)構(gòu)上看，固體材料（薄膜）中存在著以下鍵力：離子鍵、共價(jià)鍵、金屬鍵、分子鍵。由于化學(xué)鍵的特性，決定了不同薄膜材料或薄膜具有以下不同特點(diǎn)：氧化物膜料大都是雙電荷（或多電荷）的離子型晶體結(jié)構(gòu)，因此，決定了氧化物膜料具有熔點(diǎn)高、比重大、高折射率和高機(jī)械強(qiáng)度。它們的折射率一般在1.46~2.7之間。它們也被稱作硬介質(zhì)光學(xué)材料。而氟化物中除含有離子鍵外，大多含有一定的結(jié)合力相對弱的分子鍵，而且氟離子的單電荷性都決定了氟化物膜料具有低熔點(diǎn)、小比重、低折射率和較差的機(jī)械強(qiáng)度（膜層較軟）。它們的折射率一般在1.35~1.47之間，它們也被稱為軟介質(zhì)光學(xué)薄膜材料。金屬或合金含有大量的自由電子，當(dāng)光射到金屬或合金表面時(shí)，光子同電子云的表面層相互作用，使得金屬中的電子得到能量而本征激發(fā)，顯示金屬特有的光澤。一般金屬具有較強(qiáng)的反光性和吸光性，因此金屬（或合金）材料一般作為反光薄膜材料或光調(diào)節(jié)材料。??黃石光學(xué)鍍膜材料售價(jià)光學(xué)鍍膜基本原理：光的干涉在薄膜光學(xué)中普遍應(yīng)用。

光學(xué)鍍膜膜層應(yīng)力現(xiàn)象的改善措施：（一）鍍后烘烤，然后一層膜鍍完后，烘烤不要馬上停止，延續(xù) 10分鐘“回火”。讓膜層結(jié)構(gòu)趨于穩(wěn)定。（二）降溫時(shí)間適當(dāng)延長，退火時(shí)效。減少由于真空室內(nèi)外溫差過大帶來的熱應(yīng)力。（三）對高反膜、濾光膜等在蒸鍍過程中，基片溫度不宜過高，高溫易產(chǎn)生熱應(yīng)力。并且對氧化鈦、氧化鉭等膜料的光學(xué)穩(wěn)定性有負(fù)面作用。（四）鍍膜過程離子輔助，減少應(yīng)力。（五）對氧化物膜料全部充氧反應(yīng)鍍，根據(jù)不同膜料控制氧進(jìn)氣量。

真空鍍膜和光學(xué)鍍膜原理的區(qū)別：1、真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法。2、光的干涉在薄膜光學(xué)中普遍應(yīng)用。光學(xué)薄膜技術(shù)的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜，一般用來控制基板對入射光束的反射率和透過率，以滿足不同的需要。為了消除光學(xué)零件表面的反射損失，提高成像質(zhì)量，涂鍍一層或多層透明介質(zhì)膜，稱為增透膜或減反射膜。對于各種應(yīng)用需求，使用高反射膜來制造偏振反射膜，分色膜，冷光膜，干涉濾光片等。

光學(xué)鍍膜所涉及的制造工藝是勞動(dòng)和資本密集型的，并且十分耗時(shí)。 影響鍍膜成本的因素包括被鍍膜的光學(xué)件的數(shù)量，類型，尺寸，需要鍍多少層膜以及光學(xué)件上需要鍍膜的表面數(shù)量。鍍膜采用的沉積工藝對鍍膜成本以及鍍膜性能方面的影響也十分巨大。此外，在這之前還需要做大量的準(zhǔn)備工作，以確保每個(gè)鍍膜光學(xué)件的質(zhì)量都能達(dá)到較高水平。在鍍膜之前，清潔和準(zhǔn)備光學(xué)件是非常重要的。 光學(xué)元件必須具有適合鍍膜粘附的清潔表面。一旦鍍上膜，基片上未預(yù)先除去的污漬就很難被去除了。常規(guī)鍍膜工藝要求升高基底溫度(通常約為300℃)。黃石光學(xué)鍍膜材料售價(jià)

光學(xué)鍍膜由薄層介質(zhì)組成，通過界面?zhèn)鞑ス馐｜S石光學(xué)鍍膜材料售價(jià)

光學(xué)鍍膜材料：金屬（合金）類：鍺：稀有金屬，無毒無放射性，主要用于半導(dǎo)體工業(yè)塑料工業(yè)，紅外光學(xué)器件，航天工業(yè)，光纖通訊等；鉻：有時(shí)用在分光鏡上并且通常用作”膠質(zhì)層”來增強(qiáng)附著力；鋁：在紫外域中它是普通金屬中反射性能較好的一種，其膜的有效厚度為50NM以上；銀：如果蒸發(fā)速度足夠快并且基板溫度不很高時(shí)，銀和鋁一樣具有良好的反射性，這是在高速低溫下大量集結(jié)的結(jié)果，這一集結(jié)同時(shí)導(dǎo)致更大的吸收；金在紅外線100nm波長以上是已知材料中具有較高反射性的材料。黃石光學(xué)鍍膜材料售價(jià)

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