江蘇自動(dòng)化電鍍銅設(shè)備組件

銅電鍍是一種非接觸式的電極金屬化技術(shù)，在基體金屬表面通過(guò)電解方法沉積金屬銅制作銅柵線，收集光伏效應(yīng)產(chǎn)生的 載流子。為解決電鍍銅與透明導(dǎo)電薄膜（TCO）之間的接觸與附著性問(wèn)題，需先 使用 PVD 設(shè)備鍍一層極薄的銅種子層（100nm），銜接前序的 TCO 和后序的電 鍍銅，種子層制備后還需對(duì)其進(jìn)行快速燒結(jié)處理，以進(jìn)一步強(qiáng)化附著力。同時(shí)， 銅種子層作為后續(xù)電鍍銅的勢(shì)壘層，可防止銅向硅內(nèi)部擴(kuò)散。銀漿成本高有四大降本路徑，兩大方向。一是減少高價(jià)低溫銀漿用量，例如多主 柵（MBB）、激光轉(zhuǎn)印；二是減少銀粉的用量，使用賤金屬替代部分銀粉，例 如銀包銅、電鍍銅。光伏電鍍銅技術(shù)，開(kāi)啟無(wú)銀時(shí)代。江蘇自動(dòng)化電鍍銅設(shè)備組件

電鍍銅的電流效率是指在電鍍過(guò)程中，實(shí)際沉積在工件表面的銅質(zhì)量與理論上應(yīng)沉積的銅質(zhì)量之比。電流效率的計(jì)算公式為：電流效率=實(shí)際沉積銅質(zhì)量/理論沉積銅質(zhì)量×100%其中，實(shí)際沉積銅質(zhì)量可以通過(guò)稱量電鍍前后工件的重量差來(lái)計(jì)算，而理論沉積銅質(zhì)量則可以通過(guò)法拉第電解定律來(lái)計(jì)算。法拉第電解定律表明，在相同的電流密度下，電解質(zhì)量與電流時(shí)間成正比，與電解液中離子濃度成正比。因此，在電鍍銅的過(guò)程中，需要控制電流密度和電解液中銅離子的濃度，以提高電流效率。同時(shí)，還需要注意電鍍過(guò)程中的溫度、攪拌速度、PH值等因素，以保證電鍍質(zhì)量的穩(wěn)定性和一致性。河南泛半導(dǎo)體電鍍銅設(shè)備價(jià)格 光伏電鍍銅設(shè)計(jì)的導(dǎo)電方式主要有彈片式導(dǎo)電舟方式。

太陽(yáng)能電池電鍍銅技術(shù)。這項(xiàng)技術(shù)不僅可提升太陽(yáng)能電池板效能，而且可大規(guī)模降低成本。以開(kāi)掘市場(chǎng)潛力，全新的電鍍工藝旨在進(jìn)一步針對(duì)低成本電池的需求，光伏銅電鍍技術(shù)采用金屬銅完全代替銀漿作為柵線電極，實(shí)現(xiàn)整片電池的工藝轉(zhuǎn)換，打破瓶頸，創(chuàng)新行業(yè)發(fā)展。光伏電鍍銅設(shè)計(jì)的導(dǎo)電方式主要有彈片式導(dǎo)電舟方式、水平滾輪導(dǎo)電、模具掛架式、彈片重力夾具等方式。合理的導(dǎo)電方式對(duì)光伏電鍍銅設(shè)備非常重要是實(shí)現(xiàn)可量產(chǎn)的關(guān)鍵因素之一。優(yōu)良的導(dǎo)電方式可以實(shí)現(xiàn)設(shè)備的便捷維修和改善電鍍銅片與片之間的電鍍銅厚極差，甚至可以實(shí)現(xiàn)單片硅上分布電流的可監(jiān)控性。

異質(zhì)結(jié)電鍍銅的主要工序：前面的兩道工藝制絨和PVD濺射。增加的工藝是用曝光機(jī)替代絲網(wǎng)印刷機(jī)和烤箱。具體分為圖形化和金屬化兩個(gè)環(huán)節(jié)：（1）金屬化：首先完成銅的沉積（電鍍銅），然后使用不同的抗氧化方法進(jìn)行處理（電鍍鋅或使用抗氧化劑制作保護(hù)層）。去掉之前的掩膜、銅種子層，露出原本的ITO。然后做表面處理，比如文字、標(biāo)簽或者組裝玻璃，這是一整道工序，即完成銅電鍍的所有過(guò)程。（2）圖形化：先使用PVD設(shè)備做一層銅的種子層，然后使用油墨印刷機(jī)（掩膜一體機(jī)）的濕膜法制作掩膜。在經(jīng)過(guò)掩膜一體機(jī)的印刷、烘干、曝光處理后，在感光膠或光刻膠上的圖形可以通過(guò)顯影的方法顯現(xiàn)出來(lái)，即圖形化工藝。電鍍銅設(shè)備是實(shí)現(xiàn)金屬化的重點(diǎn)，各家紛紛布局主要電鍍?cè)O(shè)備有龍門電鍍線、水平電鍍線、VCP垂直連續(xù)電鍍線。

電鍍銅的硬度可以通過(guò)以下幾種方式進(jìn)行控制：1.電鍍液的成分：電鍍液的成分可以影響電鍍銅的硬度。例如，添加一些有機(jī)添加劑可以使電鍍銅的硬度增加。2.電鍍液的溫度：電鍍液的溫度可以影響電鍍銅的晶粒大小和分布，從而影響其硬度。一般來(lái)說(shuō)，較高的電鍍液溫度可以使電鍍銅的硬度增加。3.電鍍時(shí)間：電鍍時(shí)間也可以影響電鍍銅的硬度。一般來(lái)說(shuō)，較長(zhǎng)的電鍍時(shí)間可以使電鍍銅的硬度增加。4.電流密度：電流密度可以影響電鍍銅的晶粒大小和分布，從而影響其硬度。一般來(lái)說(shuō)，較高的電流密度可以使電鍍銅的硬度增加。5.預(yù)處理：在電鍍之前，對(duì)基材進(jìn)行適當(dāng)?shù)念A(yù)處理可以改善電鍍銅的硬度。例如，通過(guò)機(jī)械打磨或化學(xué)處理可以使基材表面更加平整，從而使電鍍銅的硬度增加?？傊?，電鍍銅的硬度可以通過(guò)調(diào)整電鍍液的成分、溫度、時(shí)間和電流密度等參數(shù)以及對(duì)基材進(jìn)行適當(dāng)?shù)念A(yù)處理來(lái)進(jìn)行控制。圖形化與電鍍銅替代銀漿絲網(wǎng)印刷。廣東釜川電鍍銅技術(shù)路線

光伏電鍍銅設(shè)備，主要用于光伏電池硅片鍍銅代替銀漿絲網(wǎng)印刷。江蘇自動(dòng)化電鍍銅設(shè)備組件

銅柵線更細(xì)，線寬線距尺寸小，發(fā)電效率更高。柵線細(xì)、線寬線距小意味著柵線密度更大，更多的柵線可以更好地將光照產(chǎn)生的內(nèi)部載流子通過(guò)電流形式導(dǎo)出電池片，從而提高發(fā)電效率，銅電鍍技術(shù)電池轉(zhuǎn)化效率比絲網(wǎng)印刷高0.3%~0.5%。①低溫銀漿較為粘稠，印刷寬度更寬。高溫銀漿印刷線寬可達(dá)到20μm，但是低溫銀漿印刷的線寬大約為40μm。②銅電鍍銅離子沉積只有電子交換，柵線寬度更小。銅電鍍的線寬大約為20μm，采用類半導(dǎo)體的光刻技術(shù)可低于20μm。江蘇自動(dòng)化電鍍銅設(shè)備組件