水在實(shí)驗(yàn)室中非常常見,從實(shí)驗(yàn)器皿的清洗、漂洗,滅菌鍋等用水設(shè)備的加水,到緩沖液、標(biāo)準(zhǔn)品的制備或稀釋,再到分子生化/細(xì)胞實(shí)驗(yàn)用水、高精密分析儀器如HPLC、IC-MS、GC-MS等,是無(wú)處不在的。水質(zhì)對(duì)于實(shí)驗(yàn)結(jié)果的潛在影響卻很容易被忽視,因此,在使用純水機(jī)時(shí),知道哪些“該做”、哪些“不該做”就顯得非常重要,這樣可以時(shí)刻提醒我們,正確的操作習(xí)慣可以保證好質(zhì)量的純水。首先,取水前,沖洗終端;純度越高的水越容易受到周圍環(huán)境中污染物的影響,特別是當(dāng)一臺(tái)純水機(jī)閑置整晚或幾天不用時(shí),實(shí)驗(yàn)室空氣中的揮發(fā)性污染物可能會(huì)對(duì)取水終端產(chǎn)生污染。良好的操作習(xí)慣是在取水前先排出一定量的純水(1L或2L),然后再收集好質(zhì)量的純水。純水設(shè)備采用先進(jìn)的預(yù)處理技術(shù),提高水質(zhì)穩(wěn)定性。蘇州反滲透超純水儀大概多少錢
水在實(shí)驗(yàn)室中非常常見,從實(shí)驗(yàn)器皿的清洗、漂洗,滅菌鍋等用水設(shè)備的加水,到緩沖液、標(biāo)準(zhǔn)品的制備或稀釋,再到分子生化/細(xì)胞實(shí)驗(yàn)用水、高精密分析儀器如HPLC、IC-MS、GC-MS等,是無(wú)處不在的。水質(zhì)對(duì)于實(shí)驗(yàn)結(jié)果的潛在影響卻很容易被忽視,因此,在使用純水機(jī)時(shí),知道哪些“該做”、哪些“不該做”就顯得非常重要,這樣可以時(shí)刻提醒我們,正確的操作習(xí)慣可以保證好質(zhì)量的純水。比如:監(jiān)測(cè)您的水質(zhì);“電阻率”和“TOC”(總可氧化碳)是純水水質(zhì)2個(gè)重要指標(biāo)。電阻率用于監(jiān)測(cè)水中無(wú)機(jī)離子的情況,TOC用于監(jiān)測(cè)水中有機(jī)物的情況。超純水的電阻率值需達(dá)到18.2 MΩ·cm@25℃,TOC值需≤5 ppb(ug/L)。如超純水電阻率低于18.2 MΩ·cm,需警惕系統(tǒng)內(nèi)存在潛在的污染或者需要更換純化柱和終端過(guò)濾器、水箱過(guò)濾器。上海工業(yè)超純水機(jī)哪個(gè)牌子好純水設(shè)備提供水質(zhì)報(bào)告,確保水質(zhì)達(dá)標(biāo)。
甚至,就你偶爾電鍍個(gè)貴金屬,18M的超純水真的夠了,你不知道18和?六、18M+超純水工藝(電子級(jí)/半導(dǎo)體級(jí))傳統(tǒng)預(yù)處理+二級(jí)RO+EDI+一級(jí)脫氣+三級(jí)TOC+二級(jí)拋光傳統(tǒng)預(yù)處理+二級(jí)RO+EDI+強(qiáng)陰床+二級(jí)脫氣+二級(jí)TOC+二級(jí)拋光傳統(tǒng)預(yù)處理+二級(jí)RO+EDI+強(qiáng)陰床+二級(jí)脫氣+三級(jí)TOC+二級(jí)拋光超濾預(yù)處理+二級(jí)RO+EDI+強(qiáng)陰床+二級(jí)脫氣+二級(jí)TOC+二級(jí)拋光傳統(tǒng)預(yù)處理+2B3T+RO+混床+二級(jí)脫氣+二級(jí)TOC+一級(jí)拋光電子級(jí)/半導(dǎo)體級(jí)18M+超純水工藝的幾個(gè)要點(diǎn):①水質(zhì)指標(biāo)不單純以電阻率為指標(biāo),需同時(shí)滿足溶解性氣體(溶解氧為主)、顆粒物(終端超濾基本能保證)、電阻率(相對(duì)容易達(dá)到,一級(jí)不夠就二級(jí)拋光)及TOC和特定離子含量的要求(TOC的脫除主要靠UV-TOC脫除器,當(dāng)然前面工藝也要努力;硅、硼的守門員是強(qiáng)陰床或混床中的陰床或特定的除硼樹脂等,特別是對(duì)硼而言,拋光混穿效果不行,跟pH相關(guān);其他金屬離子相對(duì)容易去除)。國(guó)標(biāo)電子級(jí)水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)M國(guó)ASTM-D超純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)②關(guān)于EDI前面的UV-TOC脫除器,無(wú)論是放置在EDI增壓泵的前后都需要防范水錘現(xiàn)象。③關(guān)于強(qiáng)陰床/除硼樹脂,個(gè)人建議置于EDI膜堆后,EDI水箱前。有部分工藝置于EDI水箱后,TOC脫除器前,而后接一級(jí)拋光混床。
主要的考慮是此類工藝真的越來(lái)越少見了。雖然在EDI的使用說(shuō)明方面,我們一般講進(jìn)水電導(dǎo)率<40μs/cm即可,但是在實(shí)際運(yùn)行中一級(jí)RO產(chǎn)水電導(dǎo)率緩慢或意外變高,導(dǎo)致的EDI產(chǎn)水水質(zhì)不如預(yù)期(一般合理預(yù)期為1-5MΩ*cm),甚至損壞的情況時(shí)有發(fā)生。上述情況跟我前文說(shuō)過(guò)的一級(jí)RO+二級(jí)EDI工藝的逐漸消失,本質(zhì)上是同一個(gè)原因---工藝設(shè)計(jì)太理想且高估了設(shè)備的日常運(yùn)維水平。EDI進(jìn)水水質(zhì)要求五、18M超純水工藝(工業(yè)級(jí))18M超純水工藝圖(工業(yè)級(jí))一級(jí)TOC脫除18M超純水工藝圖(工業(yè)級(jí))二級(jí)TOC脫除工業(yè)級(jí)一般18M超純水工藝的幾個(gè)要點(diǎn):①預(yù)處理階段一般建議同時(shí)配置軟水器和阻垢劑加*,及其他加*工藝以確定系統(tǒng)長(zhǎng)期穩(wěn)定的運(yùn)行。②EDI純水箱需要氮封或同等功能設(shè)計(jì),且超純水會(huì)同步設(shè)置循環(huán)管路及水質(zhì)判定裝置,以確定終端用水的長(zhǎng)期穩(wěn)定。③預(yù)處理階段如選用盤濾+UF工藝,可替代機(jī)械過(guò)濾工藝;在部分以自來(lái)水作為水源的工藝設(shè)計(jì)中甚至有用盤濾+UF替代機(jī)械過(guò)濾,同時(shí)省略活性炭過(guò)濾及軟化的工藝,個(gè)人持保留意見態(tài)度。④關(guān)于EDI+一級(jí)拋光系統(tǒng)是否能長(zhǎng)期穩(wěn)定達(dá)到18MΩ*cm的終端產(chǎn)水水質(zhì),及品牌之間存在的差距,請(qǐng)廠商及客戶自行判斷選擇。同時(shí)奉勸各位客戶,不要?jiǎng)硬粍?dòng)就要求18M+。純水設(shè)備設(shè)計(jì)考慮節(jié)能,降低能源消耗。
純水機(jī)能夠?yàn)榛瘜W(xué)反應(yīng)提供高質(zhì)量的工藝用水,促進(jìn)反應(yīng)的順利進(jìn)行;為精密機(jī)械提供清潔的冷卻水和潤(rùn)滑水,延長(zhǎng)設(shè)備的使用壽命;為熱處理過(guò)程提供穩(wěn)定的純水,確保產(chǎn)品的質(zhì)量和性能。 工業(yè)純水設(shè)備通過(guò)其復(fù)雜的組成和先進(jìn)的技術(shù),為工業(yè)生產(chǎn)提供了高質(zhì)量、高純度的純水,為各個(gè)行業(yè)的發(fā)展提供了有力的支持。隨著科技的不斷進(jìn)步和工業(yè)生產(chǎn)需求的不斷提高,,工業(yè)純水設(shè)備將繼續(xù)發(fā)揮更加重要的作用,為現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)注入更加強(qiáng)勁的動(dòng)力。純水設(shè)備在半導(dǎo)體行業(yè)中保證超純水的供應(yīng)。超純水器售價(jià)
純水設(shè)備的設(shè)計(jì)符合人體工程學(xué)原理。蘇州反滲透超純水儀大概多少錢
反滲透膜組件能夠阻擋水中的離子、微生物、有機(jī)物等,只允許水分子通過(guò),從而得到高純度的純水。此外,離子交換系統(tǒng)、電滲析等技術(shù)也常用于進(jìn)一步去除水中的離子和微量雜質(zhì)。 后處理系統(tǒng)則是對(duì)純水進(jìn)行再次凈化和儲(chǔ)存的環(huán)節(jié)。這通常包括紫外線消毒器、臭氧發(fā)生器等設(shè)備,用于殺滅水中的細(xì)菌、病毒等微生物,確保純水的衛(wèi)生安全。同時(shí),儲(chǔ)水罐則用于儲(chǔ)存經(jīng)過(guò)處理的純水,以滿足生產(chǎn)過(guò)程中的用水需求。 從主要用途上來(lái)看,工業(yè)純水設(shè)備廣泛應(yīng)用于醫(yī)藥、食品、電子、化工、精密機(jī)械、熱處理等多個(gè)行業(yè)。蘇州反滲透超純水儀大概多少錢