線陣光譜共焦測距

來源: 發(fā)布時間:2024-10-21

光譜共焦位移傳感器基本原理如圖1所示,由光源、分光鏡、光學色散鏡頭組、小孔以及光譜儀等部分組成。傳感器通過色散鏡頭進行色散,將位移信息轉(zhuǎn)換成波長信息,使用光譜儀進行光譜分解得出波長的變化信息,再反解得出被測位移。其中色散鏡頭作為光學部分完成了波長和位移的一一映射 ,實現(xiàn)了波長和位移之間的編碼轉(zhuǎn)化。光譜儀則實現(xiàn)波長的測量及位移反解輸出。當光譜信息突破小孔的限制,借助平面光柵、凹面反射鏡進行光線的衍射和匯聚,將反射出來的匯聚光照射在線陣CCD上進行光電轉(zhuǎn)換,借助光譜信號采集實現(xiàn)模數(shù)轉(zhuǎn)換,?通過解碼得到位移信息。光譜共焦位移傳感器的工作原理是通過激光束和光纖等光學元件實現(xiàn)的。線陣光譜共焦測距

這篇文章介紹了一種具有1毫米縱向色差的超色差攝像鏡頭,它具有0.4436的圖像室內(nèi)空間NA和0.991的線性相關系數(shù)R2,其構造達到了原始設計要求并顯示出了良好的光學性能。實現(xiàn)線性散射需要考慮一些關鍵條件,并可以采用不同的優(yōu)化方法來改進設計。首先,線性散射的實現(xiàn)需要確保攝像鏡頭的各種光譜成分具有相同的焦點位置,以減少色差。為了實現(xiàn)這個要求,需要采用精確的光學元件制造和裝配,確保不同波長的光線匯聚到同一焦點。同時,特殊的透鏡設計和涂層技術也可以減小縱向色差。在優(yōu)化設計方面,可以采用非球面透鏡或使用折射率不同的材料組合來提高圖像質(zhì)量。此外,改進透鏡的曲率半徑、增加光圈葉片數(shù)量和設計更復雜的光學系統(tǒng)也可以進一步提高性能。總的來說,這項研究強調(diào)了高線性縱向色差和高圖像室內(nèi)空間NA在超色差攝像鏡頭設計中的重要性。這種設計方案展示了光學工程的進步,表明光譜共焦位移傳感器的商品化生產(chǎn)將朝著高線性縱向色差和高圖像室內(nèi)空間NA的方向發(fā)展,從而提供更加精確和高性能的成像設備,滿足不同領域的需求 。國產(chǎn)光譜共焦成本價光譜共集技術可以測量位移,利用返回光譜的峰值波長位置。

隨著社會不斷的發(fā)展,我們智能設備的進化越發(fā)迅速,愈發(fā)精密的設備意味著,對點膠設備提出更高的要求,需要應對更高的點膠精度。更靈活的點膠角度。目前手機中板和屏幕模組貼合時,需要在中板上點一圈透明的UV膠,這種膠由于白色反光的原因,只能使用光譜共焦傳感器進行完美測量,使用非接觸式光譜共焦傳感器,可以避免不必要的磕碰。由于光譜共焦傳感器的復合光特性,可以完美的高速測量膠水的高度和寬度。由于膠水自身特性:液體,成型特性:帶有弧形,材料特性:透明或半透明。普通測量工具測試困難 。

光譜共焦測量技術由于其具有測量精度高、測量速度快、可以實現(xiàn)非接觸測量的獨特優(yōu)勢而被大量應用于工業(yè)級測量。讓我們先來看一下光譜共焦技術的起源和光譜共焦技術在精密幾何量計量測試中的成熟典型應用。共焦顯微術的概念首先是由美國的 Minsky 于 1955年提出, 其利用共焦原理搭建臺共焦顯微鏡, 并于1957年申請了專利。自20世紀90年代, ? 隨著計算機技術的飛速發(fā)展, ? 共焦顯微術成了研究的熱點,得到快速的發(fā)展。光譜共焦技術是在共焦顯微術基礎上發(fā)展而來,其無需軸向掃描, 直接由波長對應軸向距離信息, 從而大幅提高測量速度。 ? 而基于光譜共焦技術的傳感器是近年來出現(xiàn)的一種高精度、 非接觸式的新型傳感器, ? 目前精度上可達nm量級。 共焦測量術由于其高精度、允許被測表面有更大的傾斜角、測量速度快、實時性高、對被測表面狀況要求低、以及高分辨率的獨特優(yōu)勢,迅速成為工業(yè)測量的熱門傳感器,在生物醫(yī)學 、材料科學、半導體制造、 表面工程研究、 精密測量等領域得到大量應用。其中,光源的性能和穩(wěn)定性是影響測量精度的關鍵因素之一。

光譜共焦傳感器可以提供結合高精度和高速的新現(xiàn)代技術。這些特性使這些多功能距離和位移傳感器非常適合工業(yè) 4.0 的高要求。在工業(yè) 4.0 的世界中,傳感器必須能夠進行高速測量并提供高精度結果,以確??煽康馁|(zhì)量保證。光學測量技術是非接觸式的,于目標材料分開和表面特性,因此它們對生產(chǎn)和檢測過程變得越來越重要。這是“實時”生產(chǎn)過程中的一個主要優(yōu)勢,在這種過程中,觸覺測量技術正在發(fā)揮其極限,尤其是當目標位于難以接近的區(qū)域時。光譜共焦傳感器提供突破性的技術、高精度和高速度。此外,共焦色差測量技術允許進行距離測量、透明材料的多層厚度測量、強度評估以及鉆孔和凹槽內(nèi)的測量。測量過程是無磨損的、非接觸式的,并且實際上與表面特性無關。由于測量光斑尺寸極小 ,即使是非常小的物體也能被檢測到。因此,共焦色度測量技術適用于在線質(zhì)量控制。光譜共焦位移傳感器是一種基于光譜分析的高精度位移測量技術,可實現(xiàn)亞納米級別的測量。新品光譜共焦設備生產(chǎn)

光譜共集技術在材料科學領域可以用于材料表面和內(nèi)部的成像和分析。線陣光譜共焦測距

表面粗糙度是指零件在加工過程中由于不同的加工方法、機床與刀具的精度、振動及磨損等因素在工件加工表面上形成的具有較小間距和較小峰谷的微觀水平狀況,是表面質(zhì)量的一個重要衡量指標,關系零件的磨損、密封、潤滑、疲勞、研和等機械性能。表面粗糙度測量主要可分為接觸式測量和非接觸式測量。觸針式接觸測量容易劃傷測量表面、針尖易磨損、測量效率低、不能測復雜表面,而非接觸測量相對而言可以實現(xiàn)非接觸、高效、在線實時測量,而成為未來粗糙度測量的發(fā)展方向。目前常用的非接觸法主要有干涉法、散斑法、散射法、聚焦法等。而其中聚焦法較為簡單實用。采用光譜共焦位移傳感器,搭建了一套簡易的測量裝置,對膜式燃氣表的閥蓋粗糙度進行了非接觸的測量,以此來判斷閥蓋密封性合格與否,取得了一定的效果?;诠庾V共焦傳感器,利用其搭建的二維納米測量定位裝置對粗糙度樣塊進行表面粗糙度的非接觸測量,并對測量結果進行不確定評定 ,得到 U95 為 13.9%。線陣光譜共焦測距