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  • 湖南高分辨率無掩膜光刻技術(shù)
    湖南高分辨率無掩膜光刻技術(shù)

    Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強(qiáng)大了3D打印工作流程,實現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實現(xiàn)精度上限的3D打印,突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設(shè)施。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求。3D設(shè)計的多功能性對于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速...

  • 微納米無掩膜光刻3D光刻
    微納米無掩膜光刻3D光刻

    雙光子聚合加工是在2001年開始真正應(yīng)用在微納制造領(lǐng)域的,其先驅(qū)者是東京大阪大學(xué)的Kawata教授以及孫洪波教授。當(dāng)時這個實驗室在nature上發(fā)表的一篇工作,也就是傳說中的納米牛引起了極大的轟動:《Finerfeaturesforfunctionalmicrodevices:Micromachinescanbecreatedwithhigherresolutionusingtwo-photonabsorption.》但是,這篇文獻(xiàn)中還進(jìn)行了另外一個更厲害的工作,這兩位教授做出了當(dāng)時世界上特別小的彈簧振子,其加工分辨率達(dá)到了120nm,超越了衍射極限,同時還沒有使用諸如近場加工之類的解決方案,...

  • 江蘇進(jìn)口無掩膜光刻PPGT
    江蘇進(jìn)口無掩膜光刻PPGT

    全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺設(shè)備,可實現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu),很大程度推動了生命科學(xué),微流體,材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作。QuantumXshape作為具備光敏樹脂自動分配功能的直立式打印系統(tǒng),非常適合標(biāo)準(zhǔn)6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進(jìn)的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果,同時還離不開工業(yè)級飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅固的花崗巖操作平臺。QuantumXshape具有先進(jìn)的激光焦點軌跡控制...

  • 重慶超高速無掩膜光刻激光直寫
    重慶超高速無掩膜光刻激光直寫

    這是一款兼顧微觀和宏觀的高精度3D無掩模光刻產(chǎn)品,名為3D無掩模光刻。無論您是進(jìn)行科學(xué)研究還是制作工業(yè)手板,這款產(chǎn)品都能滿足您的需求。它不僅高效,而且精度非常高,能夠適用于多種尺度和多種應(yīng)用領(lǐng)域,極大地節(jié)省了加工時間。您可以輕松地制作出令人印象深刻的高精度3D模型,無論您是在微觀尺度還是宏觀尺度進(jìn)行制作。如果您想要在科學(xué)研究或工業(yè)生產(chǎn)中得到更好的效果,3D無掩模光刻是您的比較好選擇。它能夠為您節(jié)省時間和精力,讓您專注于更重要的事情。立即購買,體驗高效、高精度的3D無掩模光刻吧!無掩膜光刻在生活中應(yīng)用。重慶超高速無掩膜光刻激光直寫作為基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的微細(xì)加工領(lǐng)域市場帶領(lǐng)者,Nano...

  • 浙江高精度無掩膜光刻微納加工系統(tǒng)
    浙江高精度無掩膜光刻微納加工系統(tǒng)

    Nanoscribe一直致力于推動各個科研領(lǐng)域,諸如力學(xué)超材料,微納機(jī)器人,再生醫(yī)學(xué)工程,微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展,并提供優(yōu)化制程方案。2017年在上海成立的中國子公司納糯三維科技(上海)有限公司更是加強(qiáng)了全球銷售活動,并完善了亞太地區(qū)客戶服務(wù)范圍。此次推出的中文版官網(wǎng)在視覺效果上更清晰,結(jié)構(gòu)分類上更明確。首頁導(dǎo)航欄包括了產(chǎn)品信息,產(chǎn)品應(yīng)用數(shù)據(jù)庫,公司資訊和技術(shù)支持幾大專欄。比較大化滿足用戶對信息的了解和需求。Nanoscribe中國子公司總經(jīng)理崔博士表示:“中文網(wǎng)站的發(fā)布是件值得令人高興的事情,我們希望新的中文網(wǎng)站能讓我們的中國客戶無需顧慮語言障礙,更全方面深入得了解我們的產(chǎn)品以及在科研...

  • 廣東微納米無掩膜光刻3D光刻
    廣東微納米無掩膜光刻3D光刻

    Nanoscribe的2PP技術(shù)將可調(diào)整模場的錐形體作為階躍折射率光波導(dǎo)光束。來自德國亞琛工業(yè)大學(xué)以及萊布尼茲材料研究所科學(xué)家們使用Nanoscribe的3D雙光子無掩模光刻系統(tǒng)以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道,該器件的非常重要部件是模擬蜘蛛噴絲頭的復(fù)雜噴嘴設(shè)計??茖W(xué)家們運(yùn)用Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)(2PP)打印微型通道的聚合物母版,并結(jié)合軟光刻技術(shù)做后續(xù)復(fù)制工作。隨后,在密閉的微流道中通過芯片內(nèi)3D微納加工技術(shù)直接制作復(fù)雜結(jié)構(gòu)噴絲頭。這種集成復(fù)雜3D結(jié)構(gòu)于傳統(tǒng)平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新的大門。布魯塞爾自由大學(xué)的光子學(xué)研究小組(B-PH...

  • 北京德國無掩膜光刻技術(shù)3D打印
    北京德國無掩膜光刻技術(shù)3D打印

    如何能夠利用微納尺寸的旋轉(zhuǎn)軸和鉸鏈改進(jìn)傳感器并為新的傳感器設(shè)計概念鋪平道路?這正是位于代頓(俄亥俄州)的美國空軍技術(shù)學(xué)院的科研人員們通過在光纖上打印具有可活動部件的微型3D傳感器所聚焦的課題。內(nèi)置的鉸鏈和微軸給傳感器設(shè)計帶來的新的設(shè)計理念,例如用于流量傳感的微轉(zhuǎn)子,可通過物***相沉積法來進(jìn)入以往不易觸及的區(qū)域的微型傳感器。 光纖上3D打印的流量傳感器(渲染動畫):轉(zhuǎn)子被安裝在光纖端面的一個偏心軸上,傳感器的信號由通過光纖芯的反射光產(chǎn)生,以實現(xiàn)流量傳感的應(yīng)用。 無掩膜光刻技術(shù)以其高精度、高效率、低成本、高靈活性和廣泛的應(yīng)用范圍等優(yōu)勢特點。北京德國無掩膜光刻技術(shù)3D打印Nanoscri...

  • 遼寧高精度無掩膜光刻技術(shù)3D打印
    遼寧高精度無掩膜光刻技術(shù)3D打印

    Nanoscribe的PhotonicProfessional設(shè)備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上(例如孔狀硅材及二氧化硅)。突出特點是不再像常規(guī)的雙光子聚合(2PP)那樣在基體表面進(jìn)行直寫,而是在孔型支架內(nèi)。通過調(diào)整直寫激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量,從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術(shù)(通過激光束曝光控制的亞表面折射率)可以在保證亞微米級別的空間分辨率同時,對折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過0.3。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力,科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件,例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合...

  • 北京無掩膜光刻技術(shù)3D打印
    北京無掩膜光刻技術(shù)3D打印

    QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn),以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計自由度。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要,這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺設(shè)備,可實現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu),很大程度...

  • 湖南超高速無掩膜光刻微納加工系統(tǒng)
    湖南超高速無掩膜光刻微納加工系統(tǒng)

    Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強(qiáng)大了3D打印工作流程,實現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實現(xiàn)精度上限的3D打印,突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設(shè)施。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求。3D設(shè)計的多功能性對于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速...

  • 浙江雙光子無掩膜光刻微納光刻
    浙江雙光子無掩膜光刻微納光刻

    Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)具有極高設(shè)計自由度和超高精度的特點,結(jié)合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料,開發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結(jié)構(gòu),適用于生命科學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用,如設(shè)計和定制微型生物醫(yī)學(xué)設(shè)備的原型制作。Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計的靈活性和操控的簡潔性,以及比較廣的材料-基板選擇。因此,它是一個理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備,適用于多用戶共享平...

  • 河南2PP無掩膜光刻多少錢
    河南2PP無掩膜光刻多少錢

    Nanoscribe帶領(lǐng)全球高精度微納米3D打印。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,擁有多項專項技術(shù),為全球客戶提供整套硬件,軟件,打印材料和解決方案一站式服務(wù)。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,擁有多項專項技術(shù),為全球客戶提供整套硬件,軟件,打印材料和解決方案一站式服務(wù)。它的雙光子聚合技術(shù)具有極高設(shè)計自由度和超高精度的特點,結(jié)合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料,開發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結(jié)構(gòu),適用于生命科學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用,如設(shè)計和定制微型生物醫(yī)學(xué)設(shè)備的原型制作。借助Nanoscribe的3D微納加工技術(shù),您可以實現(xiàn)亞細(xì)胞結(jié)構(gòu)的三維成像...

  • 重慶工業(yè)級無掩膜光刻無掩光刻
    重慶工業(yè)級無掩膜光刻無掩光刻

    德國公司Nanoscribe是高精度增材制造技術(shù)的帶領(lǐng)開發(fā)商,也是BICO集團(tuán)(前身為Cellin)的一部分,推出了一款新型高精度3D打印機(jī),用于制造微納米級的精細(xì)結(jié)構(gòu)。據(jù)該公司稱,新的QuantumX形狀加入了該公司屢獲殊榮的QuantumX產(chǎn)品線,其晶圓處理能力使“3D微型零件的批量處理和小批量生產(chǎn)變得容易”。它有望顯著提高生命科學(xué)、材料工程、微流體、微光學(xué)、微機(jī)械和微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)應(yīng)用的精度、輸出和可用性?;陔p光子聚合(2PP),一種提供比較高精度和完整設(shè)計自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術(shù),Nanoscribe認(rèn)為直接激光寫入系統(tǒng)是微加...

  • 江蘇無掩膜光刻3D光刻
    江蘇無掩膜光刻3D光刻

    Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,可以實現(xiàn)微機(jī)械元件的制作,例如用光敏聚合物,納米顆粒復(fù)合物,或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動微型機(jī)器人,并可以選擇添加金屬涂層。此外,微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實現(xiàn)精度上限的3D打印,突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點配以特別廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設(shè)施。支持多種材料:無掩膜光刻技術(shù)不僅限于特定的材料,還可以應(yīng)用于...

  • 湖南高精度無掩膜光刻多少錢
    湖南高精度無掩膜光刻多少錢

    Nanoscribe帶領(lǐng)全球高精度微納米3D打印。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,擁有多項專項技術(shù),為全球客戶提供整套硬件,軟件,打印材料和解決方案一站式服務(wù)。Nanoscribe是德國高精度雙光子微納加工系統(tǒng)生產(chǎn)商,擁有多項專項技術(shù),為全球客戶提供整套硬件,軟件,打印材料和解決方案一站式服務(wù)。它的雙光子聚合技術(shù)具有極高設(shè)計自由度和超高精度的特點,結(jié)合具備生物兼容特點的光敏樹脂和生物材料,開發(fā)并制作真正意義上的高精度3D微納結(jié)構(gòu),適用于生命科學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用,如設(shè)計和定制微型生物醫(yī)學(xué)設(shè)備的原型制作。借助Nanoscribe的3D微納加工技術(shù),您可以實現(xiàn)亞細(xì)胞結(jié)構(gòu)的三維成像...

  • 湖北高分辨率無掩膜光刻3D微納加工
    湖北高分辨率無掩膜光刻3D微納加工

    Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,可以實現(xiàn)微機(jī)械元件的制作,例如用光敏聚合物,納米顆粒復(fù)合物,或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動微型機(jī)器人,并可以選擇添加金屬涂層。此外,微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實現(xiàn)精度上限的3D打印,突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點配以特別廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設(shè)施。它的實時調(diào)整能力也減小了由反應(yīng)時間造成的加工誤差。湖北高分辨...

  • 高分辨率無掩膜光刻3D打印
    高分辨率無掩膜光刻3D打印

    Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,可以實現(xiàn)微機(jī)械元件的制作,例如用光敏聚合物,納米顆粒復(fù)合物,或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動微型機(jī)器人,并可以選擇添加金屬涂層。此外,微納米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實現(xiàn)精度上限的3D打印,突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點配以特別廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設(shè)施。無掩膜光刻是一類不采用光刻掩膜版的光刻技術(shù),即采用電子束直接...

  • 北京高分辨率無掩膜光刻3D微納加工
    北京高分辨率無掩膜光刻3D微納加工

    Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術(shù),用于快速,精度非常高的微納加工,可以輕松3D微納光學(xué)制作。可以搭配不同的基板,包括玻璃,硅晶片,光子和微流控芯片等,也可以實現(xiàn)芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求。3D設(shè)計的多功能性對于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械,傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的。基于雙光子聚合原理的激光直寫技術(shù),可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作;也適合科學(xué)家和工程師們在無需額外成本增加的前提下,實現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作。微米級增...

  • 海南雙光子無掩膜光刻工藝
    海南雙光子無掩膜光刻工藝

    作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng),QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版,可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序,例如注塑,熱壓花和納米壓印等加工流程,從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術(shù)的亞微米分辨率和靈活性的特點,同時縮短創(chuàng)新微納光學(xué)器件(如衍射和折射光學(xué)器件)的整體制造時間。Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學(xué)元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL?)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實現(xiàn)一氣呵成的制...

  • 重慶高精度無掩膜光刻
    重慶高精度無掩膜光刻

    Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術(shù),用于快速,精度非常高的微納加工,可以輕松3D微納光學(xué)制作??梢源钆洳煌幕?,包括玻璃,硅晶片,光子和微流控芯片等,也可以實現(xiàn)芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求。3D設(shè)計的多功能性對于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械,傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的?;陔p光子聚合原理的激光直寫技術(shù),可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作;也適合科學(xué)家和工程師們在無需額外成本增加的前提下,實現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作無掩膜光刻...

  • 重慶高精度無掩膜光刻3D微納加工
    重慶高精度無掩膜光刻3D微納加工

    QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn),以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計自由度。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要,這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺設(shè)備,可實現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu),很大程度...

  • 德國工業(yè)級無掩膜光刻激光直寫
    德國工業(yè)級無掩膜光刻激光直寫

    由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計迭代周期,包括仿生表面,微光學(xué)元件,機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù),斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接...

  • 重慶Nanoscribe無掩膜光刻工藝
    重慶Nanoscribe無掩膜光刻工藝

    高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學(xué)元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)所具有的設(shè)計自由度和光學(xué)質(zhì)量的特點,您可以進(jìn)行幾乎任何形狀,包括球形,非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設(shè)計。另外,Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計自由度,可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),可以按設(shè)計需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu)。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹脂作...

  • 遼寧工業(yè)級無掩膜光刻PPGT
    遼寧工業(yè)級無掩膜光刻PPGT

    Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系統(tǒng)制作的高精度器件圖登上了剛發(fā)布的商業(yè)微納制造雜志“CommercialMicroManufacturingmagazine”(CMM)。文章中介紹了高精度3D打印,并重點講解了先進(jìn)的打印材料是如何讓雙光子聚合技術(shù)應(yīng)用錦上添花的。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強(qiáng)大了3D打印工作流程,實現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造,可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。Nanosc...

  • 天津德國無掩膜光刻工藝
    天津德國無掩膜光刻工藝

    Nanoscribe的2PP技術(shù)將可調(diào)整模場的錐形體作為階躍折射率光波導(dǎo)光束。來自德國亞琛工業(yè)大學(xué)以及萊布尼茲材料研究所科學(xué)家們使用Nanoscribe的3D雙光子無掩模光刻系統(tǒng)以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道,該器件的非常重要部件是模擬蜘蛛噴絲頭的復(fù)雜噴嘴設(shè)計??茖W(xué)家們運(yùn)用Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)(2PP)打印微型通道的聚合物母版,并結(jié)合軟光刻技術(shù)做后續(xù)復(fù)制工作。隨后,在密閉的微流道中通過芯片內(nèi)3D微納加工技術(shù)直接制作復(fù)雜結(jié)構(gòu)噴絲頭。這種集成復(fù)雜3D結(jié)構(gòu)于傳統(tǒng)平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新的大門。布魯塞爾自由大學(xué)的光子學(xué)研究小組(B-PH...

  • 北京2PP無掩膜光刻3D打印
    北京2PP無掩膜光刻3D打印

    QuantumXshape技術(shù)特點概要:快速原型制作,高精度,高設(shè)計自由度,簡易明了的工程流程;工業(yè)驗證的晶圓級批量生產(chǎn);200個標(biāo)準(zhǔn)結(jié)構(gòu)的通宵產(chǎn)量;通用及專門使用的打印材料;兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn),以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計自由度。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。以及生物醫(yī)學(xué)研究,如制造微小的生物樣本等。...

  • 德國2PP無掩膜光刻技術(shù)3D打印
    德國2PP無掩膜光刻技術(shù)3D打印

    Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術(shù),用于快速,精度非常高的微納加工,可以輕松3D微納光學(xué)制作??梢源钆洳煌幕澹úA?,硅晶片,光子和微流控芯片等,也可以實現(xiàn)芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求。3D設(shè)計的多功能性對于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械,傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的。基于雙光子聚合原理的激光直寫技術(shù),可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作;也適合科學(xué)家和工程師們在無需額外成本增加的前提下,實現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作。微米級增...

  • 德國2PP無掩膜光刻無掩膜激光直寫
    德國2PP無掩膜光刻無掩膜激光直寫

    Nanoscribe公司推出針對微光學(xué)元件(如微透鏡、棱鏡或復(fù)雜自由曲面光學(xué)器件)具有特殊性能的新型打印材料,IP-n162光刻膠。全新光敏樹脂材料具有高折射率,高色散和低阿貝數(shù)的特性,這些特性對于3D微納加工創(chuàng)新微光學(xué)元件設(shè)計尤為重要,尤其是在沒有旋轉(zhuǎn)對稱性和復(fù)合三維光學(xué)系統(tǒng)的情況下。由于在紅外區(qū)域吸收率不高,因此光敏樹脂成為了紅外微光學(xué)的優(yōu)先,同時也是光通訊、量子技術(shù)和光子封裝等需要低吸收損耗應(yīng)用的相當(dāng)好的選擇。全新IP-n162光刻膠是為基于雙光子聚合技術(shù)的3D打印量身定制的打印材料。高折射率材料可實現(xiàn)具有高精度形狀精度的創(chuàng)新微光學(xué)設(shè)計,并將高精度微透鏡和自由曲面3D微光學(xué)提升到一個新的...

  • 湖南高精度無掩膜光刻3D微納加工
    湖南高精度無掩膜光刻3D微納加工

    Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術(shù),用于快速,精度非常高的微納加工,可以輕松3D微納光學(xué)制作??梢源钆洳煌幕?,包括玻璃,硅晶片,光子和微流控芯片等,也可以實現(xiàn)芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求。3D設(shè)計的多功能性對于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械,傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的?;陔p光子聚合原理的激光直寫技術(shù),可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作Nanoscribe 的Quantum X 無掩模光刻系統(tǒng)在多個領(lǐng)域運(yùn)用較廣。湖南高精度無掩膜...

  • 湖北2GL無掩膜光刻工藝
    湖北2GL無掩膜光刻工藝

    Nanoscribe的PhotonicProfessional設(shè)備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上(例如孔狀硅材及二氧化硅)。突出特點是不再像常規(guī)的雙光子聚合(2PP)那樣在基體表面進(jìn)行直寫,而是在孔型支架內(nèi)。通過調(diào)整直寫激光的曝光參數(shù)可以改變微孔支架內(nèi)材料的聚合量,從而影響打印材料的有效折射率。采用全新SCRIBE技術(shù)(通過激光束曝光控制的亞表面折射率)可以在保證亞微米級別的空間分辨率同時,對折射率的調(diào)節(jié)范圍甚至超過0.3。為了證明SCRIBE新技術(shù)的巨大潛力,科研人員打印了眾多令人矚目的光學(xué)組件,例如已經(jīng)提到的龍勃透鏡。此外科研人員還打印了消色差雙合...

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