蘇州整體成型硅橡密封圈真空烘箱PID調節(jié)

真空烘箱的真空泵-維護保養(yǎng)1、經常檢查油位位置，不符合規(guī)定時須調整使之符合要求。以真空泵運轉時，油位到油標中心為準。2、經常檢查油質情況，發(fā)現(xiàn)油變質應及時更換新油，確保真空泵工作正常。3、換油期限按實際使用條件和能否滿足性能要求等情況考慮，由用戶酌情決定。一般新真空泵，抽除清潔干燥的氣體時，建議在工作100小時左右換油一次。待油中看不到黑色金屬粉末后，以后可適當延長換油期限。4、一般情況下，真空泵工作2000小時后應進行檢修，檢查桷膠密封件老化程度，檢查排氣閥片是否開裂，清理沉淀在閥片及排氣閥座上的污物。清洗整個真空泵腔內的零件，如轉子、旋片、彈簧等。一般用汽油清洗，并烘干。對橡膠件類清洗后用干布擦干即可。清洗裝配時應輕拿輕放小心碰傷。真空泵在運行過程中，軸承溫度不能超過環(huán)境溫度35C，最高溫度不得超過80C。蘇州整體成型硅橡密封圈真空烘箱PID調節(jié)

BPO膠/PI膠/BCB膠固化烘箱要求一、技術指標與基本配置：1、潔凈度：Class100級2、氧含量（配氧分析儀）：高溫狀態(tài)氧含量：≤10ppm+氣源氧含量;低溫狀態(tài)氧含量：≤20ppm+氣源氧含量3、使用溫度：RT～400℃，最高溫度：450℃4、控溫穩(wěn)定度：±1℃；5、溫度均勻度：150℃±1.5%，350℃±2%以內（空載測試）；6、腔體數(shù)量:2個,上下布置；單獨控溫7、爐膛材料：SUS304鏡面不銹鋼；加熱元件：不銹鋼加熱器；熱偶8、空爐升溫時間：1.5h；9、空爐降溫時間：375℃--80℃；降溫時間1.5-3.5小時(采用水冷及風冷)；10、智能控制系統(tǒng)：PCL+PC工控電腦上海易維護真空烘箱安全警報防止潮濕氣體進入真空泵，造成真空泵故障。

烘箱在電子行業(yè)的應用：制備半導體：可滿足在大規(guī)模半導體封裝和組裝生產中對潔凈工藝、低氧化、粘合劑和聚合物的高效固化等要求；組件：解決電容器、電阻器及其他用于手機、影碟機、電視機及其他設備的電子組件的技術難題，陶瓷電容器烘烤到預熱、干燥和固化，這些過程需要極為重要的溫度一致性和漸進式升降溫速率。；數(shù)據存儲：重要數(shù)據存儲元件（例如硬盤、錄音磁頭以及鋁制或玻璃磁盤介質）的熱處理，?烘烤潤滑油，使涂層長久性粘貼在磁盤介質上，從而提高耐久性?鋁基板磁盤的磁盤退火?玻璃基板磁盤驅動的基板固化?磁性退火

    真空干燥箱日常使用和維護：1、產品出廠前都經過嚴格的測試，一般不要進行修改，如使用時的環(huán)境惡劣，環(huán)境溫度超出適宜范圍，會引起溫度顯示值與箱內實際溫度誤差，如超出技術指標范圍的，可以參照溫度控制器操作說明按所需進行修正。2、儀器在正常工作狀態(tài)下，如打開箱門時間過長，關上箱門后即使箱內溫度有些變動，這也是正常現(xiàn)象。3、除維修外，不能拆開左側箱體蓋以免損壞電器控制系統(tǒng)。4、放氣閥橡皮塞若旋轉困難，可在內涂上適量油脂潤滑。5、真空泵不能長時期工作，因此真空度達到干燥物品要求時，應先封閉真空閥，再封閉真空泵電源，待真空度小于干燥物品要求時，再打開真空閥及真空泵電源，繼續(xù)抽真空，這樣可延長真空泵使用壽命。6、干燥的物品如濕潤，則在真空箱與真空泵之間比較好加進過濾器，防止?jié)駶櫄怏w抽進真空泵，造成真空泵故障。7、真空干燥箱經多次使用后，會產生不能抽真空的現(xiàn)象，此時應更換門封條或調整箱體上的門扣伸出間隔來解決。真空箱干燥溫度高于200度時，有可能會產生慢漏氣現(xiàn)象，此時拆開箱體背后蓋板用內六角板手擰松加熱器底座，調換密封圈或擰緊加熱器底座來解決。8、真空干燥箱應經常保持清潔。箱門玻璃切忌用有反應的化學溶液擦拭。 整體成型硅橡密封圈，高真空度密封。

    熱對流真空烘箱，包括真空箱體和密封門，真空箱體的箱口采用法蘭面，此面與箱體密封門緊密貼合，避免真空泄漏。真空箱體內壁設置無孔鏡面不銹鋼板13、有孔鏡面不銹鋼板14，這兩種不銹鋼板組合配對裝配，與無孔鏡面不銹鋼板14靠箱體內壁，有孔鏡面不銹鋼板13在箱體內表面，兩鋼板間距為5—15mm，無孔鏡面不銹鋼板用來反射熱量，熱量通過小孔回到箱體中，減少熱量損失。在箱體頂部內壁設置有孔鏡面不銹鋼板12。箱體頂部和下部左右兩邊各設置有氮氣進氣口，可以實現(xiàn)氮氣快速擴散到箱體內部各地方。真空箱體在工作的時候，真空度控制在10～50pa之間，溫度控制在80～110℃，這樣電池中的水份會變成水蒸汽擴散在箱體中，原箱體中也有少量的空氣，真空干燥箱保溫保壓一段時間后，箱體中的水蒸汽達到一定的量后，為了將水蒸汽排出，需向箱體中充入氮氣，因為氮氣的分子質量比水蒸汽的分子質量大，為了能快速將水蒸汽排擠到箱體上方，方便將其從真空口抽出，所以在箱體下方布置2-3個進氮氣進氣口。這樣的設置方式可以減少靜置時間，氮氣快速擴散，將水蒸汽排擠到箱體上方，再通過真空泵將水蒸汽抽出。真空箱體氮氣進氣口預先對氮氣進行加熱，因為氮氣進到高溫箱體中時。將露在外面的電鍍件擦凈后涂上中性油脂，以防腐蝕，并套上塑料薄膜防塵罩，放置于干燥的室內。溫州真空泵抽濕真空烘箱調試調整

定期檢查軸套的磨損情況，磨損較大后應及時更換。蘇州整體成型硅橡密封圈真空烘箱PID調節(jié)

    為獲得平坦而均勻的光刻膠涂層并使光刻膠與晶片之間有良好的黏附性，通常在涂膠前對晶片進行預處理。預處理第一步常是脫水烘烤，在真空或干燥氮氣的機臺中，以150～200℃烘烤。工藝目的是除去晶片表面吸附的水分，在此溫度下，晶片表面大約保留了一個單分子層的水。涂膠后，晶片須經過一次烘烤，稱之軟烘或前烘。工藝作用是除去膠中大部分溶劑并使膠的曝光特性固定。通常，軟烘時間越短或溫度越低會使得膠在顯影劑中的溶解速率增加且感光度更高，但對比度會有降低。實際上軟烘工藝需要通過優(yōu)化對比度而保持可接受感光度的試湊法用實驗確定，典型的軟烘溫度是90～100℃，時間從用熱板的30秒到用烘箱的30分鐘。在晶片顯影后，為了后面的高能工藝，如離子注入和等離子體刻蝕，也須對晶片進行高溫烘烤，稱之后烘或硬烘。這一工藝目的在于：減少駐波效應；激發(fā)化學增強光刻膠PAG產生的酸與光刻膠上的保護基團發(fā)生反應并移除基團使之能溶解于顯影液。 蘇州整體成型硅橡密封圈真空烘箱PID調節(jié)