江蘇進(jìn)口美國(guó)IONPURE EDI模塊報(bào)價(jià)

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2023-06-29


a.  淡水進(jìn)入淡水室后,淡水中的離子與混床樹(shù)脂發(fā)生交換,從而從水中脫離;

b.  被交換的離子受電性吸引作用,陽(yáng)離子穿過(guò)陽(yáng)離子交換膜向陰極遷移,陰離子穿過(guò)陰離子交換膜向陽(yáng)極遷移,并進(jìn)入濃水室從而從淡水中去除。

c.  水分子在電的作用下被不斷地離解為H+和OH- 和OH- 將分別使得被消耗的陽(yáng)/陰樹(shù)脂連續(xù)再生。

過(guò)程a和過(guò)程c是樹(shù)脂的消耗和再生的兩個(gè)相反過(guò)程,這兩者會(huì)在模塊內(nèi)部形成一個(gè)動(dòng)態(tài)平衡。

淡水可從模塊底部進(jìn)入淡水室,從頂部出來(lái);淡水也可從模塊頂部進(jìn)入模塊,則從模塊底部出來(lái);極水的進(jìn)水與淡水進(jìn)水同為一水流,只是分別進(jìn)入不同的室(極水室和濃水室),并從模塊頂部排出。 美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保購(gòu)買(mǎi)品質(zhì)有保證。江蘇進(jìn)口美國(guó)IONPURE EDI模塊報(bào)價(jià)

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EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式


  ?直通逆流(低及高pH值都可)再循環(huán)(氧化劑)


  ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)


步驟


  注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過(guò)程在通常情況下都以相同流速進(jìn)行。


  ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)


  ?步驟 2.


  a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)



  b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)



  c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過(guò)氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)


  ?按照說(shuō)明書(shū)配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液(閱讀上面所提的清洗化學(xué)品規(guī)范要求)??傮w來(lái)說(shuō),濃水為已用水按1:100的比例稀釋過(guò)。




  ? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)


  氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)




  ?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導(dǎo)率>0.02 MO或等 同于進(jìn)水(至少為 2 L (0.5 gal))


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清洗 隨著工作時(shí)間的累積,需要對(duì)美國(guó)Ionpure EDI模塊進(jìn)行清洗及消毒,這是因?yàn)椋?- 硬度或金屬結(jié)垢,主要產(chǎn)生在濃水室內(nèi); - 在離子交換樹(shù)脂或膜形成無(wú)機(jī)物污垢(例如,硅); - 在離子交換樹(shù)脂或膜形成有機(jī)物污垢; - EDI模塊和系統(tǒng)管道及其它部件的生物污垢; - 以上所有情況一起出現(xiàn)在某些情況下,需要使用一種以上的清洗方法。 高溫消毒 美國(guó)Ionpure EDI模塊可以在高溫(80°C/176°F)情況下進(jìn)行消毒,消毒說(shuō)明將同時(shí)提供給用戶。 例行的消毒比較好使用高溫消毒。低濃度的氧化劑消毒不可用于例行的消毒,只適用于嚴(yán)重的生物污堵的消毒, 消毒時(shí)先進(jìn)行低濃度氧化劑消毒,再用高PH清洗。

化學(xué)物質(zhì)使用 ● 系統(tǒng)不需注入 水循環(huán), 完全毋需使用化學(xué)物質(zhì) ● 在濃縮水層運(yùn)用**分層式樹(shù)脂排列技術(shù)來(lái)降低膜組電阻值 ● 濃縮水之電導(dǎo)度通常會(huì)介于20-100μS/cm 控制難易度 ● 原水流入濃縮水層后直接回收, 毋需使用循環(huán)泵浦 ● 配管極為簡(jiǎn)易, *有3支配管(進(jìn)水管, 產(chǎn)品水出水管及濃縮水出水管) ● 無(wú)循環(huán)泵浦控制電盤(pán) ● 只需利用電源開(kāi)關(guān)ON/OFF控制即可, 毋需使用PLC程控 ● 配管及控制簡(jiǎn)易, 大幅下降整體設(shè)置及維護(hù)成本 回收率 ● 濃縮水之水質(zhì)優(yōu)于原水許多(電導(dǎo)度通常介于20-100μS/cm) ● 可回收至RO前繼續(xù)使用 其它優(yōu)勢(shì) ● 不需注入鹽水循環(huán), 因此不會(huì)在陽(yáng)極產(chǎn)生任何氯氣(Chlorine)破壞膜塊內(nèi)膜片 ● **膜塊電源控制, 單一膜塊需維護(hù)或故障時(shí)不影響其它膜塊組運(yùn)轉(zhuǎn) ● 另有高溫**膜塊可供選用 美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保***選擇。

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4、西門(mén)子(IONPURE)EDI模塊,降低運(yùn)行成本。EDI設(shè)備運(yùn)行只需要消耗電力,而混床技術(shù)還需要酸堿。所以DEI超純水設(shè)備節(jié)約酸堿降低了運(yùn)行的成本。

  5、西門(mén)子(IONPURE)EDI模塊,操作更加的簡(jiǎn)單,只需要調(diào)節(jié)電源的電壓、電流、實(shí)現(xiàn)了全自動(dòng)的控制。

  6、西門(mén)子(IONPURE)EDI模塊,出水水質(zhì)好,并且延長(zhǎng)了設(shè)備的使用壽命。

  7、西門(mén)子(IONPURE)EDI模塊,設(shè)備占地小,廠房高度要求低,3米足夠。

  8、西門(mén)子(IONPURE)EDI模塊,設(shè)備安裝維修簡(jiǎn)單便捷,任一膜塊的維修、更換都不影響其他膜塊的運(yùn)行。

  9、西門(mén)子(IONPURE)EDI模塊,總投資少,EDI雖然本身價(jià)位高,但是節(jié)省了廠房用地成本,節(jié)省了運(yùn)行成本??傮w降低了總投資費(fèi)用。 美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保全國(guó)發(fā)貨。上海美國(guó)IONPURE EDI模塊

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IonpureIP-LXM30Z EDI模塊已經(jīng)達(dá)到了高流量的工業(yè)化要求-不僅在電子工業(yè),而且在制藥、造紙、電力及化工生產(chǎn)等領(lǐng)域,這些系統(tǒng)提供的流量可達(dá)2000gpm及以上。事實(shí)上,由于***技術(shù)的開(kāi)發(fā),EDI系統(tǒng)在出力上的限制取決于其它的因素,而不是EDI系統(tǒng)的自身。


二、工業(yè)水處理的未來(lái)

  目前的RO-EDI技術(shù)**地降低了化學(xué)藥劑的使用,簡(jiǎn)化了運(yùn)行操作,降低了總的固定投資費(fèi)用。盡管在工業(yè)水處理中還面臨著進(jìn)一步降低化學(xué)藥劑使用的要求,但我們可以預(yù)期,隨著過(guò)濾及RO膜技術(shù)的提高,RO-EDI系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)性將會(huì)得到進(jìn)一步的提高。 江蘇進(jìn)口美國(guó)IONPURE EDI模塊報(bào)價(jià)

上海純超環(huán)??萍加邢薰驹谕袠I(yè)領(lǐng)域中,一直處在一個(gè)不斷銳意進(jìn)取,不斷制造創(chuàng)新的市場(chǎng)高度,多年以來(lái)致力于發(fā)展富有創(chuàng)新價(jià)值理念的產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn),在上海市等地區(qū)的環(huán)保中始終保持良好的商業(yè)口碑,成績(jī)讓我們喜悅,但不會(huì)讓我們止步,殘酷的市場(chǎng)磨煉了我們堅(jiān)強(qiáng)不屈的意志,和諧溫馨的工作環(huán)境,富有營(yíng)養(yǎng)的公司土壤滋養(yǎng)著我們不斷開(kāi)拓創(chuàng)新,勇于進(jìn)取的無(wú)限潛力,上海純超環(huán)保科技供應(yīng)攜手大家一起走向共同輝煌的未來(lái),回首過(guò)去,我們不會(huì)因?yàn)槿〉昧艘稽c(diǎn)點(diǎn)成績(jī)而沾沾自喜,相反的是面對(duì)競(jìng)爭(zhēng)越來(lái)越激烈的市場(chǎng)氛圍,我們更要明確自己的不足,做好迎接新挑戰(zhàn)的準(zhǔn)備,要不畏困難,激流勇進(jìn),以一個(gè)更嶄新的精神面貌迎接大家,共同走向輝煌回來(lái)!