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2．酸洗

   1）配制2.0%鹽酸溶液：將1200LRO水沖入清洗水箱中，緩慢地加入70Kg37%濃鹽酸，邊加邊攪拌均勻（可啟動(dòng)清洗泵循環(huán)攪拌）。

   2）檢查各閥門(mén)切換正常并無(wú)酸洗液泄漏后，啟動(dòng)清洗泵運(yùn)行30分鐘，運(yùn)行流量和壓力為正常運(yùn)行狀態(tài)，最小流量可以為EDI正常運(yùn)行時(shí)流量的一半。

   3）沖洗排掉清洗水箱內(nèi)清洗液，并用RO水沖洗EDI系統(tǒng)出水至中性。

3．消毒

   清洗水箱中加入1200LRO產(chǎn)水，緩緩加入約10kg25%的H2O2溶液，配制0.2%的H2O2溶液，用清洗泵自循環(huán)10分鐘，使溶液混合均勻。 美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保經(jīng)銷(xiāo)多年。廣東全國(guó)發(fā)貨美國(guó)IONPURE EDI模塊報(bào)價(jià)

二、工業(yè)水處理的未來(lái)

  目前的RO－EDI技術(shù)**地降低了化學(xué)藥劑的使用，簡(jiǎn)化了運(yùn)行操作，降低了總的固定投資費(fèi)用。盡管在工業(yè)水處理中還面臨著進(jìn)一步降低化學(xué)藥劑使用的要求，但我們可以預(yù)期，隨著過(guò)濾及RO膜技術(shù)的提高，RO－EDI系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)性將會(huì)得到進(jìn)一步的提高。

  將來(lái)會(huì)如何變化？我們會(huì)看到在所有的工業(yè)單元中降低對(duì)化學(xué)藥劑的使用將是肯定的?？梢灶A(yù)計(jì)，在3到5年的時(shí)間內(nèi)，85％的工業(yè)水處理系統(tǒng)將會(huì)采用RO／EDI系統(tǒng)，剩余15％的部分則是應(yīng)用在預(yù)處理的費(fèi)用較高或者不能抵消非化學(xué)方法的RO－EDI系統(tǒng)所帶來(lái)的固有益處的場(chǎng)合。

   IonpureIP-LXM30Z EDI模塊現(xiàn)在已完全確立了其市場(chǎng)地位，而且獲得了工業(yè)界的***接受，此項(xiàng)技術(shù)的發(fā)展將取決于工業(yè)界對(duì)采用非化學(xué)方法制取純水的不斷需求。

安徽銷(xiāo)售美國(guó)IONPURE EDI模塊報(bào)價(jià)美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保值得信賴(lài)。

超純水比較好選擇CEDI Ionpure IPLX可提供﹕LX膜塊主體﹐電源供應(yīng)原件﹐DC電源供應(yīng)器﹐DC電源顯示面板及管路安裝配件﹔該膜塊通常安裝與RO純水設(shè)備之后并提供下列優(yōu)勢(shì)。 ***穩(wěn)定及符合工業(yè)級(jí)需求之比較好原件 ****避免漏水之運(yùn)轉(zhuǎn)設(shè)計(jì) *機(jī)簡(jiǎn)易之配管及回路設(shè)計(jì)需求 *提供完整之電源供應(yīng)原件 *可提供單一膜塊**電源供應(yīng) *可顯示個(gè)別膜塊所消耗之電壓及安培數(shù) *膜塊設(shè)計(jì)比較高可承受工作壓力100psi *膜塊設(shè)計(jì)比較高可承受工作溫度45℃(113℉) *高溫**膜塊比較高可承受工作溫度80℃(176℉) *安全毋需停機(jī)再生﹐影響制程 *毋需使用酸堿再生也無(wú)廢水排放

清洗 隨著工作時(shí)間的累積，需要對(duì)美國(guó)Ionpure EDI模塊進(jìn)行清洗及消毒，這是因?yàn)椋?- 硬度或金屬結(jié)垢，主要產(chǎn)生在濃水室內(nèi)； - 在離子交換樹(shù)脂或膜形成無(wú)機(jī)物污垢（例如，硅）； - 在離子交換樹(shù)脂或膜形成有機(jī)物污垢； - EDI模塊和系統(tǒng)管道及其它部件的生物污垢； - 以上所有情況一起出現(xiàn)在某些情況下，需要使用一種以上的清洗方法。 高溫消毒 美國(guó)Ionpure EDI模塊可以在高溫(80°C/176°F)情況下進(jìn)行消毒，消毒說(shuō)明將同時(shí)提供給用戶(hù)。 例行的消毒比較好使用高溫消毒。低濃度的氧化劑消毒不可用于例行的消毒，只適用于嚴(yán)重的生物污堵的消毒, 消毒時(shí)先進(jìn)行低濃度氧化劑消毒，再用高PH清洗。美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保服務(wù)放心可靠。

(1) 西門(mén)子EDI模塊，進(jìn)水電導(dǎo)率的影響。

    在相同的操作電流下，隨著原水電導(dǎo)率的增加西門(mén)子EDI模塊對(duì)弱電解質(zhì)的去除率減小，出水的電導(dǎo)率也增加。如果原水電導(dǎo)率低則離子的含量也低，而低濃度離子使得在淡室中樹(shù)脂和膜的表面上形成的電動(dòng)勢(shì)梯度也大，導(dǎo)致水的解離程度增強(qiáng)，極限電流增大，產(chǎn)生的H+和OH-的數(shù)量較多，使填充在淡室中的陰、陽(yáng)離子交換樹(shù)脂的再生效果良好。

(2) 西門(mén)子EDI模塊，工作電壓-電流的影響。

    工作電流增大，產(chǎn)水水質(zhì)不斷變好。但如果在增至比較高點(diǎn)后再增加電流，由于水電離產(chǎn)生的H+和OH-離子量過(guò)多，除用于再生樹(shù)脂外，大量富余離子充當(dāng)載流離子導(dǎo)電，同時(shí)由于大量載流離子移動(dòng)過(guò)程中發(fā)生積累和堵塞，甚至發(fā)生反擴(kuò)散，結(jié)果使產(chǎn)水水質(zhì)下降。 EDI模塊推薦您使用美國(guó)IONPURE EDI。廣東全國(guó)發(fā)貨美國(guó)IONPURE EDI模塊報(bào)價(jià)

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如果電壓降低或是進(jìn)水的總離子水平提高的話,那么系統(tǒng)中的樹(shù)脂會(huì)更多的和離子發(fā)生交換,相應(yīng)的工作區(qū)間就往出水側(cè)移動(dòng),直至達(dá)到新的平衡,或是穿透,這一過(guò)程中,出水電導(dǎo)會(huì)發(fā)生一定的變化,出水的弱電離子增加是**明顯的表現(xiàn)。如果電壓上升或是進(jìn)水離子減少,則系統(tǒng)的工作區(qū)間會(huì)向進(jìn)水側(cè)發(fā)生移動(dòng),表現(xiàn)為出水水質(zhì)變好,弱電離子的含量減少。所以判斷系統(tǒng)的平衡狀態(tài)可以通過(guò)出水水質(zhì)變化,弱電離子的漏出多少來(lái)實(shí)現(xiàn),并可以通過(guò)工作區(qū)間的移動(dòng)來(lái)解釋。

     濃水流量的變化是另一個(gè)調(diào)節(jié)系統(tǒng)平衡的要素,特別是對(duì)于系統(tǒng)中的電流有直接影響。濃水的流量對(duì)去除弱電離子Ｓｉ也有一定關(guān)系。由于Ｓｉ在２５℃,ｐＨ值是６～８的水體中的溶解度是１２０ｍｇ／Ｌ。所以進(jìn)水的濃縮倍率達(dá)到一定程度后,Ｓｉ在濃水中就會(huì)飽和,導(dǎo)致不能進(jìn)行更深度的除硅,這也是確定濃水流量下限的條件之一。 廣東全國(guó)發(fā)貨美國(guó)IONPURE EDI模塊報(bào)價(jià)

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