上海供應(yīng)美國IONPURE EDI模塊推薦廠家

(1) 西門子EDI模塊，進水電導(dǎo)率的影響。

    在相同的操作電流下，隨著原水電導(dǎo)率的增加西門子EDI模塊對弱電解質(zhì)的去除率減小，出水的電導(dǎo)率也增加。如果原水電導(dǎo)率低則離子的含量也低，而低濃度離子使得在淡室中樹脂和膜的表面上形成的電動勢梯度也大，導(dǎo)致水的解離程度增強，極限電流增大，產(chǎn)生的H+和OH-的數(shù)量較多，使填充在淡室中的陰、陽離子交換樹脂的再生效果良好。

(2) 西門子EDI模塊，工作電壓-電流的影響。

    工作電流增大，產(chǎn)水水質(zhì)不斷變好。但如果在增至比較高點后再增加電流，由于水電離產(chǎn)生的H+和OH-離子量過多，除用于再生樹脂外，大量富余離子充當(dāng)載流離子導(dǎo)電，同時由于大量載流離子移動過程中發(fā)生積累和堵塞，甚至發(fā)生反擴散，結(jié)果使產(chǎn)水水質(zhì)下降。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保滿足客戶的不同需求。上海供應(yīng)美國IONPURE EDI模塊推薦廠家

清洗 隨著工作時間的累積，需要對美國Ionpure EDI模塊進行清洗及消毒，這是因為： - 硬度或金屬結(jié)垢，主要產(chǎn)生在濃水室內(nèi)； - 在離子交換樹脂或膜形成無機物污垢（例如，硅）； - 在離子交換樹脂或膜形成有機物污垢； - EDI模塊和系統(tǒng)管道及其它部件的生物污垢； - 以上所有情況一起出現(xiàn)在某些情況下，需要使用一種以上的清洗方法。 高溫消毒 美國Ionpure EDI模塊可以在高溫(80°C/176°F)情況下進行消毒，消毒說明將同時提供給用戶。 例行的消毒比較好使用高溫消毒。低濃度的氧化劑消毒不可用于例行的消毒，只適用于嚴重的生物污堵的消毒, 消毒時先進行低濃度氧化劑消毒，再用高PH清洗。浙江全國發(fā)貨美國IONPURE EDI模塊購買美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保售后服務(wù)。

美國Ionpure IP-LXM45ZEDI模塊的結(jié)構(gòu)特點

1、淡水隔板采用衛(wèi)生級PE材料；

2、美國IonpureIP-LXM45ZEDI模塊膜片采用進口均相膜和國產(chǎn)異相離子交換膜；

3、采用進口EDI**均粒樹脂和國產(chǎn)EDI**均粒樹脂；

4、美國IonpureIP-LXM45Z EDI模塊電極板采用鈦鍍釕技術(shù)；

5、壓緊板采用具有硬性的合金鋁軋鑄而成；

6、固定螺絲采用國標標準件；

7、美國IonpureIP-LXM45Z EDI模塊出廠比較高試壓7bar不漏水；

8、美國IonpureIP-LXM45Z EDI模塊電阻低、功耗?。?

9、外觀裝飾板造型美觀結(jié)實；

10、比較大膜堆處理水量3T/H，** 小模堆處理水量75L/H；

11、純水、濃水、極水通道設(shè)計合理，不易堵塞，水流分布均勻、無死角。

3、超濾系統(tǒng)控制余氯等氧化劑不當(dāng)，進EDI氧化劑超量，導(dǎo)致EDI樹脂破碎，堵塞產(chǎn)水通道，水量下降。

  4、采用不當(dāng)?shù)那逑春拖?，直接?dǎo)致EDI樹脂破碎，進出水壓差增大，造成產(chǎn)水水質(zhì)和水量全部下降。

  5、西門子EDI模塊系統(tǒng)手動運行時，在缺水狀態(tài)下加電，直接導(dǎo)致膜片和樹脂的發(fā)熱碳化，清洗無效，無法使用。

  6、西門子EDI模塊進水前無保安濾器，或安裝時沒有徹底清洗管道和水箱，導(dǎo)致異物堵塞EDI通道，進出水壓差增大，造成產(chǎn)水水量嚴重下降，清洗無效。

  7、出廠時產(chǎn)品不合格，使用一段時間不明原因的漏水。

  8、電流電壓超出額定值或人為誤操作。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保指導(dǎo)安裝。

3、原水水質(zhì)的優(yōu)劣程度，純凈水產(chǎn)量的大小直接影響RO膜的使用壽命，為保證RO膜正常工作，需要對RO膜進行定期維護，此項工作必須由專業(yè)人員或在專業(yè)人員的授意下完成，非專業(yè)人員或未征得專業(yè)人員授意不得擅自清洗、拆卸、對RO膜進行隨意處理。如若非經(jīng)本廠專業(yè)人員授意，隨意拆卸高、增壓泵，斷水保護，反滲透系統(tǒng)等主機主要部件，造成損壞的，本廠概不負責(zé)。

 4、設(shè)備閑置時，必須斷水?dāng)嚯姡艃粼O(shè)備內(nèi)所有積水，設(shè)備不得在高溫與零下溫度的環(huán)境內(nèi)放置。

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EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式

  ?直通逆流（低及高pH值都可）再循環(huán)（氧化劑）

  ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)

步驟

  注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進行。

  ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 2.

  a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)

或

  b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)

或

  c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)

  ?按照說明書配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液（閱讀上面所提的清洗化學(xué)品規(guī)范要求）?？傮w來說，濃水為已用水按1：100的比例稀釋過。

  ? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)

  氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導(dǎo)率>0.02 MO或等 同于進水(至少為 2 L (0.5 gal))

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