北京色素炭黑價格(智選:2024已更新)

時間:2024-12-22 12:59:39 
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在涂膜干燥時,微小顆粒會在涂膜表面形成微粗糙面,降低光線的反射進而獲得消光外觀。下面用二氧化硅舉例,它在用作消光劑的時候,顆粒的孔體積平均粒度和粒度分布干膜厚度以及顆粒表面是否經過處理等因素都是會影響到消光效果。而這種消光劑的消光效果受到了很多因素的制約。

人視覺能感受到的光亮物體表面的粗糙度(h,利用微表面理論知識,可以根據公式h=λ/cosα算出來,式中入為人射光的波長;例如人射角取60°時,可以算出h=1μm,當物體表面粗糙度h大于1μm時,會表現(xiàn)凹凸不平,光澤度降低。α為入射角。

消光原理及其應用消光原理及其應用依據用途有時需要半光或無光的粉末涂料。要獲得消光效果,可以采用如下方法將凝固速度不一樣的粉末涂料,用干混合法進行混合,那么所得涂膜的光澤度明顯下降,起到消光作用。為了降低涂膜光澤度,常用的消光劑有超細二氧化硅滑石粉硬脂酸鋁硬脂酸鈣低分子熱塑性樹脂等。

富含消光粉的漆膜,均勻散布于漆膜中的白炭黑顆粒構成一種微粗糙面。從涂膜截面掃描電子顯微鏡相片可以明晰地看到消光劑顆粒均勻地散布于涂膜中,當入射光抵達高低不平的漆膜外表時,發(fā)作漫反射,即發(fā)作散射發(fā)生低光澤的亞光和消光外觀。

氣體和氫氣各自經過加壓分離冷卻脫水硅膠干燥除塵過濾后送入合成水解反應爐。將氯化硅原材料送至精餾塔精餾后,在蒸發(fā)器中加熱蒸發(fā),并以干燥過濾后的氣體為載體,送至合成水解反應爐。氯化硅在高溫下氣化(火焰溫度1000~1800℃)后,與一定量的氫和氧(或氣體)在1800℃左右的高溫下進行氣相水解反應;反應式為SiCl4+2H2+O2—SiO2+4HCl。這時生成的氣相二氧化硅顆粒細,與氣體產生氣溶膠,不易收集,故使其先在聚集器中聚集成較大顆粒,然后經旋風分離器收集,再送入脫酸爐,用含氮氣體吹洗氣相二氧化硅至PH值為4~6即為成品。

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